JP2014533360A - 基板の形状変化の測定 - Google Patents
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Abstract
Description
−Si、GE、GeAs、InP等
−Cu、Au、Ag、Ti、Cr等
−ポリマ
−セラミック
−複合材料
2 検出装置
3 支持装置
4 第1の光学装置
4s 端面
5 プリズム
5s 傾斜面
6 レンズ
7 第2の光学装置
7s 端面
8 プリズム(又はミラー)
8s 傾斜面
9 レンズ
10,10´,10´´ 光路
11,11´,11´´ 光路
12,12´,12´´ 光路
13,13´,13´´ 光路
14 第1の構造
15 第2の構造
16 基板
16o 基板表面
17 検出フィールド
18 検出対
19,19´ 検出領域
20 別の構造
21 別の光学装置
22 プリズム(又はミラー)
22s 傾斜面
23 レンズ
24,24´ フィルタ
25 フィルタ
26 光路
27 光路
dx1,dy1 第1の距離
dx2,dy2 第2の距離
A 距離
B 距離
D 直径
L 長さ
Claims (10)
- 基板表面(16o)上に配置された構造(14,15,20)のイメージを検出する少なくとも1つの検出装置(2)と、
前記検出装置に、前記構造(14,15,20)を結像するための少なくとも2つの異なる光路(10,11,12,13,26,27)を備えた少なくとも2つの光学装置(4,7,21)から成る光学系と、
を備えた、前記基板表面(16o)に対して平行な基板(16)の形状変化を測定する装置であって、
該装置によって、前記構造(14,15,20)の前記イメージ(14´,15´,20´)間の距離(dx1,dy1,dx2,dy2,dxn,dyn)及び/又は前記距離(dx1,dy1,dx2,dy2,dxn,dyn)の変化が測定可能であることを特徴とする、基板の形状変化を測定する装置。 - 前記基板表面(16o)又は、前記基板(16)を保持する基板チャックに対して前記光学系をキャリブレーションするキャリブレーション手段を有している、請求項1記載の装置。
- 前記光路(10,11,12,13,26,27)の少なくとも1つが調節可能に形成されている、請求項1又は2記載の装置。
- 前記光路(10,11,12,13,26,27)が互いに相対的に位置固定可能に形成されている、請求項1から3までのいずれか1項記載の装置。
- 前記光学装置(4,7,21)を支持し、かつ特に、前記基板(16)に対して相対的に一緒に動かす、特に振動減衰性のかつ/又は断熱性の支持装置(3)が設けられている、請求項1から4までのいずれか1項記載の装置。
- 前記検出装置(2)は、単一のカメラ、特にデジタルカメラを有しており、該カメラにより、前記構造(14,15,20)のイメージ(14´,15´,20´)を特に一緒に、好適には同時に、検出可能である、請求項1から5までのいずれか1項記載の装置。
- 前記光路(10,11,12,13,26,27)は、特に前記光学装置(4,7,21)の変向手段(5,8,22)によって、前記検出装置(2)において前記構造(14,15,20)を結像するために1つにまとめるように方向付けられることができる、請求項1から6までのいずれか1項記載の装置。
- 前記基板表面(16o)に沿って分配された、前記構造(14,15,20)の複数の検出対(18)の複数の距離を検出することができ、これらの距離を各検出対(18)に対応させて記憶することができる、請求項1から7までのいずれか1項記載の装置。
- 前記光学装置(4,7,21)は、前記基板表面(16o)に面する少なくとも1つの端面(4s,7s,21s)で互いに、特に前記基板表面(16o)に対して平行に整列して配置されている又は配置可能である、請求項1から8までのいずれか1項記載の装置。
- 少なくとも2つの光学装置(4,7,21)から成る、少なくとも2つの異なる光路(10,11,12,13,26,27)を有する光学系を、検出装置(2)に構造(14,15,20)を結像するために位置調整し、
前記構造(14,15,20)のイメージ(14´,15´,20´)を前記検出装置(2)によって検出し、
前記基板(16)を処理し、
前記構造(14,15,20)のイメージ(14´,15´,20´)を前記検出装置(2)によって検出し、
前記イメージ(14´,15´,20´)間の距離(dx1,dy1,dx2,dy2,dxn,dyn)及び/又は前記距離(dx1,dy1,dx2,dy2,dxn,dyn)の変化を、前記基板の前記処理の前及び前記処理の後に測定する、
ステップ、特に経過を有することを特徴とする、基板表面(16o)に対して平行な基板(16)の形状変化を測定する方法。
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