JP2014522302A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. ＥＵＶ光源に使用される、ターゲット位置にターゲット材料を供給するための装置であって、
   前記ターゲット材料と非ターゲット粒子とを含むターゲット混合物を保持するリザーバと、ここで前記ターゲット材料は、プラズマに変換されたときに、ＥＵＶ範囲に輝線を有するものであり、
   前記ターゲット混合物を通過させる第１のフィルタと、
   前記ターゲット混合物を通過させる第２のフィルタと、
   オリフィスを有するノズルを含む供給システムであって、前記第１及び第２のフィルタを通過した前記ターゲット混合物を受け取り、かつ該ターゲット混合物を前記ターゲット位置に供給する供給システムと、
   を含み、
   前記第２のフィルタは、第１の端部で前記リザーバと流体的に結合され第２の端部で前記オリフィスに流体的に結合された複数の貫通孔と、それぞれが前記リザーバの第１の端部と一群の貫通穴の間にある複数の開口部とを含み、前記開口部は前記リザーバの第１の端部を前記一群の貫通孔に流体的に結合し、各開口部は貫通孔の断面幅よりも大きい断面幅を有する、
   ことを特徴とする装置。
2. 前記第２のフィルタは、前記第１のフィルタを通過した前記ターゲット混合物を受け取ることを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 一群の貫通孔の少なくとも１つは均一サイズの断面幅を有し、前記第２のフィルタの一群の貫通孔の少なくもと１つは均一サイズの貫通孔を有し、その横方向サイズは前記均一サイズの貫通孔の横方向サイズとは異なることを特徴とする請求項１に記載の装置。
4. 前記第１及び第２のフィルタのうちの少なくとも一方が、タングステン、チタン、モリブデン、ニッケル、タンタル、又は他の金属、石英、ガラス、又はセラミック材料で少なくとも部分的に製造されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
5. 前記ターゲット材料は、流体状態にあることを特徴とする請求項１に記載の装置。
6. 前記第１のフィルタは、焼結フィルタであることを特徴とする請求項１に記載の装置。
7. ＥＵＶ光源に使用されるターゲット材料供給装置に使用するためのフィルタであって、
   ターゲット材料と非ターゲット粒子とを含むターゲット混合物を保持するリザーバに流体連通する第１の平坦面と、第２の対向する平坦面とを有するシートと、ここで前記ターゲット材料は、プラズマに変換されたときに、ＥＵＶ範囲に輝線を有するものであり、
   前記第２の平坦面から延び、かつ該第２の平坦面でノズルのオリフィスに流体的に結合された複数の貫通孔と、
   前記第１の平坦面から延びる複数の開口部であって、それぞれが一群の貫通孔と前記第１の平坦面との間にあって前記リザーバを一群の貫通孔に流体的に結合する開口部と、
   を含み、
   前記シートは、前記ターゲット混合物に露出される表面積を有し、前記開口部の断面幅は前記貫通孔の断面幅よりも大きい、
   ことを特徴とするフィルタ。
8. ＥＵＶ光源に使用される、濾過する方法であって、
   ターゲット材料と非ターゲット粒子とを含むターゲット混合物をリザーバに保持する段階と、ここで前記ターゲット材料は、プラズマに変換されたときに、ＥＵＶ範囲に輝線を有するものであり、
   第１のフィルタを使用して、前記ターゲット混合物の前記非ターゲット粒子の少なくとも一部を取り除く段階と、
   第１の端部で前記リザーバと流体的に結合され第２の端部で前記オリフィスに流体的に結合された複数の貫通孔と、それぞれが前記リザーバの第１の端部と一群の貫通穴の間にある複数の開口部とを含み第２のフィルタを使用して、露出表面積が該第２のフィルタのものと同等の横断方向広がりを有する焼結フィルタの露出表面積の少なくとも１／１００である該第２のフィルタの表面区域を前記ターゲット混合物に露出することにより、該ターゲット混合物の前記非ターゲット粒子の少なくとも一部を取り除く段階と、
   供給システムを使用して、前記第２のフィルタを通過した前記ターゲット混合物の流量を制御する段階と、
   増幅された光ビームを受け取り、それによって前記ターゲット混合物の前記ターゲット材料をプラズマ状態に変換するターゲット位置に前記第２のフィルタを通過した該ターゲット混合物を誘導する段階と、
   を含むことを特徴とする方法。
9. 前記シートは、バルク材料からなることを特徴とする請求項７に記載のフィルタ。
10. 前記バルク材料はタングステン及び窒化珪素のうちの一方からなることを特徴とする請求項９に記載のフィルタ。