JP2014521813A - (ヒドロキシメチル)ポリシロキサンの調製方法 - Google Patents
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- C08G77/10—Equilibration processes
Abstract
Description
式中、Riは、アルキルまたはアリール基、一般的にはメチル基であり、Riiは炭化水素基であり、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含むものまたはヘテロ原子で置換されているものであり得、基SiRi 2−xのケイ素原子に炭素原子によって結合しており、x=0、1または2である。
−DE879839:同時アルコール分解性エステル切断を伴う、さらなるシランとの1,3−ビス(アシルオキシメチル)テトラメチルジシロキサンの酸−または塩基−触媒型平衡化
−DE1213406:金属水酸化物でのブロモメチルシロキサンのヒドロキシル化
−DE1227456:さらなるシランとの1,3−ビス(ヒドロキシメチル)テトラメチルジシロキサンの酸−触媒型平衡化
−DE1233395:三フッ化ホウ素の存在下におけるボロネートでの(アシルオキシ)メチルシロキサンの還元的切断
が報告されている。
一般式I
式中、
R1は、水素原子であるか、または環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基もしくはC1−C20炭化水素オキシ基もしくはC4−C40ポリエーテル基(各々は、場合によりQ1で置換されている、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいる、または1個以上の
基Q2を含む。)であり、
R2は、ヒドロキシル基であるか、または環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基もしくはC1−C20炭化水素オキシ基もしくはC4−C40ポリエーテル基もしくはSi1−Si20シロキサンオキシ基(各々は、場合によりQ1で置換されている、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいる、または1個以上の基Q2を含む。)であり、
R3は、水素であるか、環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基またはC4−C40ポリエーテル基もしくはSi1−Si20シロキサニル基(各々は、場合によりQ1で置換されている、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいる、または1個以上の基Q2を含む。)であり、
Q1は、ヘテロ原子を含有する一価の基であり、
Q2は、ヘテロ原子を含有する二価の基またはヘテロ原子を含有する三価の基であり、
Xは、基R2もしくはQ1であるか、または加水分解性基、例えば、ヒドロキシル基、アルコキシ基およびアシルオキシ基であるか、またはYと一体となって結合である(環式の式IIIの化合物)が、Xは、n=1の場合、加水分解性基であるか、または少なくとも1個の加水分解性基を含むシロキサン基であるか、またはYと一体となって結合である(環式の式IIIの化合物)ものとし、
Yは、水素原子、アシル基、シリル基、シロキサニル基であるか、またはXと一体となって結合であり(環式の式IIIの化合物)、
k、m、pおよびqはゼロ以上であるが、k+m+p+qの和はゼロより大きいものとし、
o、s、rおよびnはゼロより大きく、
aおよびtはゼロ以上であり、
yは0または1である、
方法を提供する。
R1、R2、Q1、Q2、k、m、p、o、yおよびsは、上記に規定した意味および値を有するものであり得、
R22は、環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基もしくはC1−C20炭化水素オキシ基もしくはC4−C40ポリエーテル基(各々は、場合によりQ1で置換されている、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいる、または1個以上の基Q2を含む。)であり、
lは、ゼロより大きく、
uおよびvは、ゼロ以上である。)
の側鎖型および末端ヒドロキシメチル基を有する(ヒドロキシメチル)ポリシロキサンに関する。
の化合物であることを特徴とする。
式IVおよびVにおけるR2およびR3は上記に規定した同じ意味を有するものであり得、R2およびR3について好ましい、より好ましい、もしくは特に好ましいと上記に規定した好ましい、より好ましい、もしくは特に好ましい意味を有し、または好ましい実施形態においてR2がR12であり、R3がR13である場合は、R12およびR13について上記に規定した好ましい、より好ましい、または特に好ましい意味を有し、
nは上記に規定した同じ意味を有するものであり得、好ましくは1から100、好ましくは1から30、特に好ましくは1から10であり、
X1は、加水分解性基、例えばヒドロキシル基、アルコキシ基およびアシルオキシ基、好ましくはヒドロキシル基、C1−C20アルコキシ基、C6−C20アリールオキシ基またはC4−C40ポリエーテル基、特にヒドロキシル基、メトキシ基またはエトキシ基であり、
Y1は、水素原子、アシル基、シリル基またはシロキサニル基、好ましくは水素原子である。)
の化合物である。
の化合物から選択されることを特徴とする。
の化合物を調製し、式IIaの化合物を式IIIaの化合物と反応させることを特徴とする。
式中
R2、R3およびnは、上記にさらに記載した意味および値を有するものであり得、
R5は、水素であるか、または環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基、C4−C40ポリエーテル基またはC1−C20アシル基(各々は、場合によりQ1で置換されている、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいる、または1個以上の基Q2を含む。)であり、
Q1は、ヘテロ原子を含有する一価の基であり、
Q2は、ヘテロ原子を含有する二価基またはヘテロ原子を含有する三価の基であり、
bは、ゼロより大きい、
式IIIの化合物の調製方法を提供する。
一般式Iの化合物の調製
a)α=11.8およびβ=1である式Ibの化合物
11.8個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する133.6gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,893.0g/molの平均モル質量に相当,299.2mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン149.6mmolに相当,粘度32.6mPas,90ppmの水分)を20℃で、34mg(0.3mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.2mol%)および2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とこの高次オリゴマーの7.8g(37.4mmol)の混合物とともに撹拌した。7日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量のおよそ2倍増が示された。式Iaの化合物はMALDI−TOF MSによって検出可能であった。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(129.0 H,SiCH3),2.43ppm(broad,3H,OH),3.14ppm(2H,SiCH2O)
〜>平均鎖長:22.0=2×10.5+1
実施例Iaで調製した式Iaの化合物を室温で、13.2g(74.8mmol)の2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとともに撹拌した。2日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および揮発性物質を50℃で減圧除去した。139g(68.3mmol,91%)の式Ibの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量のおよそ2倍増が示された。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(135.5 H,SiCH3),1.11ppm(broad,3H,OH),3.14ppm(2H,SiCH2O lateral),3.21ppm(4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:23.1=2×10.1+3
一般式Iの化合物の調製
a)α=11.8およびβ=4である式Ibの化合物
11.8個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する133.6gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,893.0g/molの平均モル質量に相当,299.2mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン149.6mmolに相当,粘度32.6mPas,90ppmの水分)を20℃で、17mg(0.15mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.1mol%)および2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とこの高次オリゴマーの12.5g(60.0mmol)の混合物とともに撹拌した。5日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。134.7g(28.3mmol,94%)の式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量のおよそ5倍増が示された。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(367.2 H,SiCH3),0.5...2.5ppm(very broad,6H,OH),3.14ppm(8H,SiCH2O)
〜>平均鎖長:63.2=5×11.8+4
実施例2aで調製した式Iaの化合物を室温で、さらに17mg(0.15mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.1mol%)および2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの6.8g(38.6mmol,過剰)の混合物とともに撹拌した。16日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および揮発性物質を50℃で減圧除去した。132g(26.8mmol,使用した式Iaの化合物に対して94%,全体で89%)の式Ibの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量のおよそ5倍増が示された。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(392.6 H,SiCH3),1.09ppm(broad,6H,OH),3.14ppm(8H,SiCH2O lateral),3.21ppm(4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:67.4=5×12.3+6
一般式Iの化合物の調製
a)α=30.6およびβ=1である式Ibの化合物
30.6個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する141.6gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,2287.2g/molの平均モル質量に相当,123.8mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン61.9mmolに相当,粘度75.2mPas,865ppmの水分)を20℃で、35mg(0.3mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.5mol%)および2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とこの高次オリゴマーの3.6g(17.3mmol,ポリジメチルシロキサンの水分含有量のため過剰)の混合物とともに撹拌した。2日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。式Iaの化合物はMALDI−TOF MSによって検出可能であった。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(316.4 H,SiCH3),1.47ppm(broad,3H,OH),3.14ppm(2H,SiCH2O)
〜>平均鎖長:53.2=2×26.1+1
実施例3aで調製した式Iaの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの5.2g(29.4mmol)の混合物とともに撹拌した。19日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を50℃/0.04mbarで除去した。120.8g(25.0mmol,81%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られた。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(399.1 H,SiCH3),1.07ppm(broad,2H,OH terminal),1.55ppm(broad,1H,OH lateral),3.14ppm(2H,SiCH2O lateral),3.21ppm(4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:67.0=2×32.0+3
一般式Iの化合物の調製
a)α=30.6およびβ=1である式Ibの化合物
30.6個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する324.4gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,2287.2g/molの平均モル質量に相当,243.6mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン141.8mmolに相当,粘度75.2mPas,865ppmの水分)を20℃で、0.8g(6.9mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して4.9mol%)および8.39g(40.3mmol,ポリジメチルシロキサンの水分含有量のため過剰)の2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とともに撹拌した。1日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。
〜>平均鎖長:51.8=2×25.4+1
実施例4aで調製した式Iaの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの12.3g(69.7mmol)の混合物とともに撹拌した。18日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を薄膜蒸留によって120℃/1−2mbarで除去した。337g(69.9mmol,99%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られた。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(371.7 H,SiCH3),1.03ppm(broad,2H,OH terminal),1.49ppm(broad,1H,OH lateral),3.14ppm(2H,SiCH2O lateral),3.22ppm(4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:62.5=2×29.7+3
一般式Iの化合物の調製
a)α=30.6およびβ=1である式Ibの化合物
30.6個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する324.4gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,2287.2g/molの平均モル質量に相当,243.6mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン141.8mmolに相当,粘度75.2mPas,865ppmの水分)を20℃で、0.8g(6.9mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して4.9mol%)および8.75g(42.0mmol,ポリジメチルシロキサンの水分含有量のため過剰)の2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とともに撹拌した。1日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。
〜>平均鎖長:47.7=2×23.3+1
実施例5aで調製した式Iaの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの12.3g(69.7mmol)の混合物とともに撹拌した。7日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を薄膜蒸留によって120℃/1−2mbarで除去した。289.5g(60.0mmol,85%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られた。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。式Ibの化合物はMALDI−TOF MSによって検出可能であった。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(332.8 H,SiCH3),1.03ppm(broad,2H,OH terminal),1.52ppm(broad,1H,OH lateral),3.14ppm(2H,SiCH2O lateral),3.21ppm(4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:56.0=2×26.5+3
一般式Iの化合物の調製
a)α=45.8およびβ=1である式Ibの化合物
45.8個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する240.0gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,3414.3g/molの平均モル質量に相当,140.6mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン70.3mmolに相当,粘度83.7mPas,500ppmの水分)を20℃で、40mg(0.35mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.5mol%)および3.6g(17.3mmol)の2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とともに撹拌した。1日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iaの化合物が無色の油状物として残存した。
〜>平均鎖長:97.4=2×48.2+1
b)k,m,u,v,y=0;p=45.8;o,l=2;s=1;R1=R2=R22=Meである式Iaの化合物(本発明のものでない。)
実施例6aで調製した式Iaの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの9.3g(52.7mmol,過剰)の混合物とともに撹拌した。5日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒、過剰の2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンおよび続いて他の揮発性物質を薄膜蒸留によって120℃/1−2mbarで除去した。241.6g(34.1mmol,97%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られた。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の2倍増が示された。式Ibの化合物はMALDI−TOF MSによって検出可能であった。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(608.1 H,SiCH3),0.98ppm(broad,2H,OH terminal),1.03ppm(broad,1H,OH lateral),3.13ppm(d,3JHH=5.0Hz,2H,SiCH2O lateral),3.21ppm(d,3JHH=4.5Hz,4H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:101.4=2×49.2+3
一般式Iの化合物の調製
a)k,m,q,a=0;p=13.0;o=3;s,t,y=1;R1=Meである式Iの化合物
13.0個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する99.4gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,982.0g/molの平均モル質量に相当,202.6mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン101.3mmolに相当,粘度32.6mPas,90ppmの水分)を20℃で、17mg(0.15mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.15mol%)および2,2,5,5−テトラメトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(5)とこの高次オリゴマーの4.18g(17.4mmol)の混合物とともに撹拌した。1日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iの化合物が無色の油状物として残存し、MALDI−TOF MSによって同定した。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(190.1 H,SiCH3),1...3ppm(very broad,4H,OH),3.17ppm(2H,SiCH2O)
〜>平均鎖長:32.7=3×10.6+1
実施例7aで調製した式Iの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの8.87g(50.3mmol)の混合物とともに撹拌した。7日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を50℃/0.6mbarで減圧除去した。81.9g(25.1mmol,74%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られ、MALDI−TOF MSによって同定した。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(194.6 H,SiCH3),1.00ppm(broad,1H,OH lateral),1.48ppm(broad,3H,OH terminal),3.15ppm(d,3JHH=5.1Hz,2H,SiCH2O lateral),3.20ppm(6H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:33.4=3×9.8+3
一般式Iの化合物の調製
a)k,m,q,a=0;p=24.5;o=3;s,t,y=1;R1=Meである式Iの化合物
24.5個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する86.3gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,1834.8g/molの平均モル質量に相当,94.0mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン47.0mmolに相当,1500ppmの水分)を20℃で、1.4mg(0.012mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して260mol ppm)および2,2,5,5−テトラメトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(5)とこの高次オリゴマーの1.9g(7.9mmol)の混合物とともに撹拌した。1日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iの化合物が無色の油状物として残存した。ゲル浸透クロマトグラム(PDMS較正)により、使用したOH末端ポリジメチルシロキサンと比べるとモル質量の3倍増が示された。式Iの化合物はMALDI−TOF MSによって検出可能であった。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(384.9 H,SiCH3),1.47ppm(broad,4H,OH),3.19ppm(2H,SiCH2O)
〜>平均鎖長:65.1=3×21.4+1
実施例8aで調製した式Iの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの4.6g(26.1mmol,過剰)の混合物とともに撹拌した。22日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を50℃/0.5mbarで減圧除去した。80.9g(13.9mmol,89%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られ、MALDI−TOF MSによって同定した。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(365.7 H,SiCH3),1.01ppm(broad,3H,OH terminal),1.49ppm(broad,1H,OH lateral),3.17ppm(d,3JHH=5.3Hz,2H,SiCH2O lateral),3.22ppm(6H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:62.0=3×19.3+3
一般式Iの化合物の調製
a)k,m,q,a=0;p=45.8;o=3;s,t,y=1;R1=Meである式Iの化合物
45.8個のMe2SiO単位の平均鎖長を有する247gのα,ω−ビス(ヒドロキシ)末端ポリジメチルシロキサン(1H−NMR分光法によって測定,3414.3g/molの平均モル質量に相当,144.6mmolのSiOH基を有するポリジメチルシロキサン72.3mmolに相当,粘度83.7mPas,500ppmの水分)を20℃で、40mg(0.35mmol)のテトラメチルグアニジン(触媒,ポリジメチルシロキサンに対して0.48mol%)および2,2,5,5−テトラメトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(5)とこの高次オリゴマーの2.9g(12.1mmol)の混合物とともに撹拌した。2日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。次いで、反応中に形成されたMeOHを室温で減圧下除去した。式Iの化合物が無色の油状物として残存した。
〜>平均鎖長:120.8=3×39.9+1
実施例9aで調製した式Iの化合物を室温で、2,2,5,5−テトラメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンとこの高次オリゴマーの9.4g(53.3mmol,過剰)の混合物とともに撹拌した。5日後、1H−NMRスペクトルにより完全変換が示された。続いて、触媒および他の揮発性物質を薄膜蒸留によって120℃/1−2mbarで除去した。246.5g(23.3mmol,97%)の式Ibの化合物が無色の油状物として得られた。
1H−NMR:−0.2…0.2ppm(624.4 H,SiCH3),0.97ppm(t,3JHH=4.6Hz,3H,OH terminal),1.46ppm(broad,1H,OH lateral),3.15ppm(d,3JHH=5.5Hz,2H,SiCH2O lateral),3.20ppm(d,3JHH=4.7Hz,6H,SiCH2O terminal)
〜>平均鎖長:105.1=3×34.7+3
一般式IIIdの化合物の調製
化合物7
2.1g(10mmol)の2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)を16.2ml(12.8g,400mmol)のメタノール(99.8%)に溶解させ、室温で撹拌した。1日後、化合物7(ケイ素化合物の総含有量に対して85面積%(GCによる。),29Si−NMRにおいて71%強度)と化合物11(d=2)が反応混合物中に、NMR、GCおよびGC−MSによって検出された。
1H−NMR:0.05ppm(SiCH3),3.22ppm(SiCH2OH),3.41ppm(SiOCH3)
13C−NMR:−7.6ppm(SiCH3),50.8ppm(SiCH2OH),50.1ppm(SiOCH3)
29Si−NMR:−8.6ppm
MS(M=136g/mol):121,105(base peak),91,75,59,45m/z
一般式IIIdの化合物の調製
化合物8
2,2,5,5−テトラメトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(5)とこの高次オリゴマーの2.4g(10mmol)の混合物を16.2ml(12.8g,400mmol)のメタノール(99.8%)に溶解させ、室温で撹拌した。1日後、化合物8(ケイ素化合物の総含有量に対して79.4面積%(GCによる。),29Si−NMRにおいて77%強度)と化合物12(d=2)が反応混合物中に、NMR、GCおよびGC−MSによって検出された。
1H−NMR:3.20ppm(SiCH2OH),3.40ppm(SiOCH3)
13C−NMR:47.5ppm(SiCH2OH),50.2ppm(SiOCH3)
29Si−NMR:−51.1ppm
MS(M=152g/mol):152(molecular peak),151,137,121(base peak),107,91,77,61,59,45m/z
一般式IIIdの化合物の調製
化合物9
2,5−ジメトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(1)とこの高次オリゴマーの2.1g(10mmol)の混合物を35.1ml(27.7g,600mmol)のエタノール(99.8%)に溶解させ、室温で撹拌した。5日後、化合物9(ケイ素化合物の総含有量に対して77面積%(GCによる。)、29Si−NMRにおいて49%強度)、ヒドロキシメチル(エトキシ)メトキシメチルシラン(29Si−NMRにおいて11%強度)、化合物2である2−エトキシ−5−メトキシ−2,5−ジメチル−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサンおよび化合物13(d=2)が反応混合物中に、NMR、GCおよびGC−MSによって検出された。
1H−NMR:0.06ppm(SiCH3),1.08ppm(CH3),3.20ppm(SiCH2OH),3.68ppm(SiOCH2)
13C−NMR:−6.5ppm(SiCH3),17.9ppm(CH3),51.5ppm(SiCH2OH),58.3ppm(SiOCH2)
29Si−NMR:−11.9ppm
MS(M=164g/mol):149,133,121,105,91,89,77(base peak),63,61,45m/z
一般式IIIdの化合物の調製
化合物10
2,2,5,5−テトラメトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(5)とこの高次オリゴマーの2.4g(10mmol)の混合物を23.4ml(18.4g,400mmol)のエタノール(99.8%)に溶解させ、室温で撹拌した。1日後、化合物10(ケイ素化合物の総含有量に対して64.4面積%(GCによる。),29Si−NMRにおいて42%強度)、ヒドロキシメチル(ジエトキシ)メトキシシラン(18.4面積%(GCによる。),29Si−NMRにおいて19%強度)、ヒドロキシメチル(エトキシ)ジメトキシシラン(1.6面積%(GCによる。),29Si−NMRにおいて4%強度)、化合物6(6.3面積%(GCによる。))、2,2,5−トリエトキシ−5−メトキシ−1,4−ジオキサ−2,5−ジシラシクロヘキサン(2.1面積%(GCによる。))と化合物14(d=2)が反応混合物中に、NMR、GCおよびGC−MSによって検出された。
1H−NMR:1.12ppm(CH3),3.77ppm(SiOCH2),(SiCH2OH hidden)
13C−NMR:17.8ppm(CH3),49.5ppm(SiCH2OH),58.6ppm(SiOCH2)
29Si−NMR:−54.0ppm
MS(M=194g/mol):193,179,165,163,151,137,135,121,119,107,93,91,79(base peak),77,63,45m/z
Claims (10)
- 一般式I
式中、
R1は、水素原子であるか、または環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基もしくはC1−C20炭化水素オキシ基もしくはC4−C40ポリエーテル基であり、各々は、場合によりQ1で置換されており、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいるかまたは1個以上の基Q2を含み、
R2は、ヒドロキシル基であるか、または環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基もしくはC1−C20炭化水素オキシ基もしくはC4−C40ポリエーテル基もしくはSi1−Si20シロキサンオキシ基であり、各々は、場合によりQ1で置換されており、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいるかまたは1個以上の基Q2を含み、
R3は、環式もしくは非環式、線状もしくは分枝状、芳香族もしくは脂肪族もしくはオレフィン性、飽和もしくは不飽和のC1−C20炭化水素基またはC4−C40ポリエーテル基もしくはSi1−Si20シロキサニル基であり、各々は、場合によりQ1で置換されており、場合により1個以上の基Q2が割り込んでいるかまたは1個以上の基Q2を含み、
Q1は、ヘテロ原子を含有する一価の基であり、
Q2は、ヘテロ原子を含有する二価の基またはヘテロ原子を含有する三価の基であり、
Xは、基R2もしくはQ1であるか、またはヒドロキシル基、アルコキシ基およびアシルオキシ基を含む加水分解性基であるか、またはYと一体となって結合であり、但しn=1の場合、Xは、加水分解性基であるか、または少なくとも1個の加水分解性基を含むシロキサン基であるか、またはYと一体となって結合であり、
Yは、水素原子、アシル基、シリル基、シロキサニル基であるか、またはXと一体となって結合であり、
k、m、pおよびqはゼロ以上であり、但しk+m+p+qの和はゼロより大きく、
o、s、rおよびnはゼロより大きく、
aおよびtはゼロ以上であり、
yは0または1である、
方法。 - R1およびR2が直鎖または分枝状または環式のC1−C6炭化水素基またはC1−C6炭化水素オキシ基であり、ならびにR3が直鎖または分枝状または環式のC1−C6炭化水素基である、請求項1に記載の方法。
- [O1/2H]基が(R1 2SiO2/2)基に結合している、請求項1または2に記載の方法。
- 式Iにおける変数aおよびyが0の値を有する、請求項1から3に記載の方法。
- XがYと一体となって結合である、請求項1から5に記載の方法。
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