JP2014520404A - 高誘電率ペロブスカイト材料ならびにその作製および使用方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含むパルス蒸着プロセスによって、ペロブスカイト材料が基板に堆積される方法などにおいて、ペロブスカイト材料形成金属前駆体中の金属種よりも移動度および/または揮発性が高い金属種をペロブスカイト材料にドープするまたは混ぜて合金化する。別の方法において、ペロブスカイト材料は、ペロブスカイト材料を結晶化させるかまたはその結晶化を向上させるのに十分な時間、高温に曝露され、その後、パルス蒸着条件下におけるペロブスカイト材料の成長が続く。
【選択図】図1
Description
下部電極を準備する工程と、
PbOの層を下部電極上に堆積させる工程と、
PbOの存在下でPbOの層上にペロブスカイト材料の核生成に有効なB−サイト原子種を堆積させる工程と、
基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含むパルス蒸着プロセスによって、ペロブスカイト材料を、上面にB−サイト原子種を有するPbO層上に堆積させる工程と、
上部電極をペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、
を含むDRAMコンデンサを製作する方法に関する。
下部電極を準備する工程と、
ペロブスカイト材料を前記下部電極上に堆積させる工程であって、前記ペロブスカイト材料にその格子構造中においてPbOがドープされるかまたは混ぜて合金化される蒸着プロセスによる、工程と、
遊離PbOが揮発性であり、ペロブスカイト格子構造中のPbOが不揮発性であるプロセス条件を確立するために温度を上げるおよび/または圧力を下げる工程と、
揮発性PbOを除去する工程と、
上部電極をペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、
を含むDRAMコンデンサを製作する方法に関する。
下部電極を準備する工程と、
PbOの層を下部電極上に堆積させる工程と、
PbOの存在下でPbOの層上にペロブスカイト材料の核生成に有効なB−サイト原子種を堆積させる工程と、
基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含むパルス蒸着プロセスによって、ペロブスカイト材料を、上面にB−サイト原子種を有するPbO層上に堆積させる工程と、
上部電極をペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、を含むDRAMコンデンサを製作する方法に関する。
下部電極を準備する工程と、
ペロブスカイト材料を前記下部電極上に堆積させる工程であって、前記ペロブスカイト材料にその格子構造中においてPbOがドープされるかまたは混ぜて合金化される蒸着プロセスによる、工程と、
遊離PbOが揮発性であり、ペロブスカイト格子構造中のPbOが不揮発性であるプロセス条件を確立するために温度を上げるおよび/または圧力を下げる工程と、
揮発性PbOを除去する工程と、
上部電極をペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、を含むDRAMコンデンサを製作する方法に関する。
Claims (48)
- 基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含むパルス蒸着プロセスによって、ペロブスカイト材料を前記基板上に堆積させる工程を含む、ペロブスカイト膜を形成する方法であって、
前記プロセスが、前記ペロブスカイト材料形成金属前駆体中の金属種よりも移動度および/または揮発性が高い金属種を前記ペロブスカイト材料にドープするまたは混ぜて合金化することによって行われる、
方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Pb、Sn、Zn、Cd、Hg、Biおよびそれらの酸化物からなる群から選択される金属種を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、誘電性または導電性ペロブスカイトを含み、
前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Pb、Sn、Zn、Cd、Hgおよびそれらの酸化物からなる群から選択される金属種を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、導電性ペロブスカイトを含み、
前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、ビスマスまたは酸化ビスマスを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、結晶性の誘電性ペロブスカイトを含み、
前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、ビスマスを含まない、
請求項1に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種がドープされた前記ペロブスカイト材料が、前記移動度および/または揮発性がより高い金属種がドープされていない対応するペロブスカイト材料よりも低い結晶化温度を有する、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、ルテニウム酸ストロンチウムを含み、
前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Pbを含む、
請求項1に記載の方法。 - ルテニウム酸ストロンチウムを含み、Pbがドープされたかまたは混ぜて合金化された前記ペロブスカイト材料上に、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムストロンチウムまたはチタン酸鉛ストロンチウムを堆積させる工程をさらに含む、
請求項7に記載の方法。 - ルテニウム酸ストロンチウムを含み、Pbがドープされたかまたは混ぜて合金化された前記ペロブスカイト材料上にチタン酸ストロンチウムが堆積される、
請求項8に記載の方法。 - ルテニウム酸ストロンチウムを含み、Pbがドープされたかまたは混ぜて合金化された前記ペロブスカイト材料上にチタン酸バリウムストロンチウムが堆積される、
請求項8に記載の方法。 - ルテニウム酸ストロンチウムを含み、Pbがドープされたかまたは混ぜて合金化された前記ペロブスカイト材料上にチタン酸鉛ストロンチウムが堆積される、
請求項8に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、チタン酸ストロンチウムを含み、
前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Pbを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Znを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Cdを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Hgを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、Snを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、チタンを含む、
請求項16に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、ルテニウムを含む、
請求項16に記載の方法。 - 前記移動度および/または揮発性がより高い金属種が、SnO2を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、チタン酸ストロンチウムを含む、
請求項19に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、チタン酸バリウムストロンチウムを含む、
請求項19に記載の方法。 - (Sr,Pb)RuO3を含むペロブスカイト組成物。
- 上面にチタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムストロンチウムおよびチタン酸鉛ストロンチウムからなる群から選択されるチタン含有材料が堆積された(Sr,Pb)RuO3材料を含むペロブスカイト組成物。
- 前記チタン含有材料が、チタン酸ストロンチウムである、
請求項23に記載のペロブスカイト組成物。 - 前記チタン含有材料が、チタン酸バリウムストロンチウムである、
請求項23に記載のペロブスカイト組成物。 - 前記チタン含有材料が、チタン酸鉛ストロンチウムである、
請求項23に記載のペロブスカイト組成物。 - (Sr、Pb)TiO3を含むペロブスカイト組成物。
- Zn、CdまたはHgがドープされている、SrRuO3またはSrTiO3を含むペロブスカイト組成物。
- SrRuO3を含む、
請求項28に記載のペロブスカイト組成物。 - SrTiO3を含む、
請求項28に記載のペロブスカイト組成物。 - Znがドープされている、
請求項28に記載のペロブスカイト組成物。 - CdまたはHgがドープされている、
請求項28に記載のペロブスカイト組成物。 - Sr(Sn,Ru)O3またはSr(Sn,Ti)O3を含むペロブスカイト組成物。
- Sr(Sn,Ru)O3を含む、
請求項33に記載のペロブスカイト組成物。 - Sr(Sn,Ti)O3を含む、
請求項33に記載のペロブスカイト組成物。 - 結晶化ペロブスカイト材料を形成する方法であって、
パルス蒸着プロセスによって基板上にアモルファス状または微結晶状のペロブスカイト材料を堆積させる工程であり、前記パルス蒸着プロセスが、前記基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含む工程と、
堆積された前記ペロブスカイト材料から反応種をパージする工程と、
前記ペロブスカイト材料を結晶化させるかまたは前記ペロブスカイト材料の結晶化を向上させるのに十分な時間、前記ペロブスカイト材料を高温に曝露する工程と、
を含む、方法。 - 前記曝露の後にパルス蒸着条件下において前記ペロブスカイト材料を成長させることをさらに含む、
請求項36に記載の方法。 - 下部電極を準備する工程と、
PbOの層を前記下部電極上に堆積させる工程と、
PbOの存在下で前記PbOの層上に、ペロブスカイト材料の核生成に有効なB−サイト原子種を堆積させる工程と、
基板をペロブスカイト材料形成金属前駆体と接触させることを含むパルス蒸着プロセスによって、ペロブスカイト材料を、上面にB−サイト原子種を有する前記PbO層上に堆積させる工程と、
上部電極を前記ペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、
を含む、DRAMコンデンサを製作する方法。 - 前記PbOの層が、パルス蒸着プロセスによって形成される、
請求項38に記載の方法。 - 前記パルス蒸着プロセスが、化学蒸着を含む、
請求項39に記載の方法。 - 前記パルス蒸着プロセスが、原子層堆積を含む、
請求項39に記載の方法。 - 前記PbO層が、0.5Å〜15Åの範囲の厚さに堆積させられる、
請求項38に記載の方法。 - 前記B−サイト原子種が、チタンを含む、
請求項38に記載の方法。 - 前記B−サイト原子種が、ジルコニウムを含む、
請求項38に記載の方法。 - 前記ペロブスカイト材料が、チタン酸ストロンチウムを含む、
請求項38に記載の方法。 - 下部電極を準備する工程と、
ペロブスカイト材料を前記下部電極上に堆積させる工程であって、前記ペロブスカイト材料にその格子構造中においてPbOがドープされるかまたは混ぜて合金化される蒸着プロセスによる、工程と、
遊離PbOが揮発性であり、前記ペロブスカイト格子構造中のPbOが不揮発性であるプロセス条件を確立するために温度を上げるおよび/または圧力を下げる工程と、
揮発性PbOを除去する工程と、
上部電極を前記ペロブスカイト材料上に堆積させる工程と、
を含む、DRAMコンデンサを製作する方法。 - 格子構造中においてPbOがドープされたかまたは混ぜて合金化された前記ペロブスカイト材料はチタン酸鉛を含む、
請求項46に記載の方法。 - 遊離PbOが揮発性であり、前記ペロブスカイト格子構造中のPbOが不揮発性であるプロセス条件が、1〜8トールの範囲の圧力および400〜600℃の範囲の温度を含む、
請求項46に記載の方法。
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