JP2014512703A - 太陽電池構造におけるトンネル接合の品質を改善するための方法 - Google Patents

太陽電池構造におけるトンネル接合の品質を改善するための方法 Download PDF

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Abstract

太陽電池構造(100)にトンネル接合(112)を形成する方法が、該太陽電池構造(100)へのIII族の材料の堆積およびV族の材料の堆積を交互に行う。

Description

本開示の実施形態は、広くには、多接合型太陽電池構造に関し、より詳しくは、多接合型太陽電池構造におけるトンネル接合の品質を改善するための方法に関する。
太陽光発電デバイスは、太陽放射を利用可能な電気エネルギーへと変換することができるデバイスである。光起電デバイスによって生み出される太陽エネルギーが、多くの宇宙船の主たる動力源である。また、太陽光発電デバイスは、太陽エネルギーが環境に優しい再生可能なエネルギーであるがゆえに、家庭用、商用、および産業用の発電においても魅力的な選択肢となってきている。
集光型太陽光発電の用途のための多接合型太陽電池構造において、個々のソーラー間のトンネル接合が、太陽電池構造の効率を決定するうえで重要な役割を果たす可能性がある。太陽電池の効率を向上させる1つのやり方は、トンネル接合の材料品質、したがってトンネル接合上に成長させられる層の材料品質を改善すると同時に、トンネル接合からのトンネル電流を増やすことであると考えられる。さらに、トンネル接合は、光を通過させて下方の太陽電池に吸収させることができるように充分に透明である必要がある。
したがって、上述の課題を克服するシステムおよび方法を提供することが、望ましいと考えられる。
太陽電池構造におけるトンネル接合を形成する方法は、III族の材料を堆積させることと、前記III属の材料の堆積後にV族の材料を堆積させることとを含む。
太陽電池構造におけるトンネル接合を形成する方法は、この太陽電池構造へのIII族の材料の堆積およびV族の材料の堆積を交互に行うことを含む。
光起電デバイスが、基板を有する。第1の太陽電池デバイスが、基板の上方に配置される。コンタクトが、第1の太陽電池の上方に配置される。トンネル接合が、第1の太陽電池とコンタクトとの間に形成される。トンネル接合は、マイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル(MEE)によって形成される。
これらの特徴、機能、および利点を、本開示の種々の実施形態において別個独立に実現でき、あるいはさらなる他の実施形態に組み合わせることもできる。
本開示の諸実施形態は、詳細な説明および添付の図面からさらに充分に理解されるであろう。
トンネル接合を形成するためにマイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル法を使用することができる太陽電池構造の概略のブロック図である。 トンネル接合の形成時のマイグレーション・エンハンスト・エピタキシャルの流れの順序のタイミング図である。 トンネル接合の形成時のマイグレーション・エンハンスト・エピタキシャルの流れの順序を示すフロー図である。 試験構造について、高温(HT)においてマイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル成長されたGaInPトンネル接合、および同じ温度において従来からのエピタキシ成長されたGaInPトンネル接合(TuJn)の光I−V(LIV)性能を示している。
図1を参照すると、多接合型太陽電池構造100(以下では、太陽電池構造100)が示されている。太陽電池構造100は、基板102を有することができる。基板102を、さまざまな材料で形成することができる。一実施形態によれば、ガリウムヒ素(GaAs)、ゲルマニウム(Ge)、または他の適切な材料を使用することができる。上記の材料の列挙を、本発明を限定するものと理解してはならない。ゲルマニウム(Ge)基板が使用される場合には、核生成層104を基板102上に堆積させることができる。次いで、基板102上、または核生成層104の上方に、バッファ層106を形成することができる。太陽電池108(例えば、太陽電池1)を、バッファ層106上に形成することができる。太陽電池108を、n+のエミッタ層およびp型のベース層で形成することができる。一実施形態によれば、ガリウム(Ga)インジウム(In)リン(P)を、太陽電池108の形成に使用することができる。しかしながら、これを、本発明を限定するものと理解してはならない。
トンネル接合112を、太陽電池108とさらなる太陽電池114(例えば、太陽電池2)との間に形成することができる。トンネル接合112を、太陽電池114および太陽電池108を接続するために使用することができる。太陽電池114は、太陽電池108と同様であってよい。太陽電池114を、n+のエミッタ層およびp型のベース層で形成することができる。一実施形態によれば、ガリウム(Ga)インジウム(In)リン(P)を、太陽電池114の形成に使用することができる。しかしながら、これを、本発明を限定するものと理解してはならない。キャップ層116を、太陽電池114上に形成することができる。キャップ層116は、太陽電池構造100のためのコンタクトとして機能する。図1は、太陽電池108および114を示しているが、さらに追加の太陽電池およびトンネル接合を使用してもよい。
トンネル接合112の品質が、トンネル接合112の上方の太陽電池114を高い結晶品質に保つために重要となりうる。高品質のトンネル接合112を設けることによって、より多くのトンネル接合電流を生じさせることができる。これは、太陽電池構造100の効率の向上を可能にする。
現時点において、既存の高効率多接合型太陽電池においては、とりわけGaInPのような広バンドギャップ材料において、高いドーピング濃度を達成するためにより低い温度を使用することができる。ここで図2および図3を参照すると、トンネル接合112の品質を改善することができる方法が開示される。この方法は、トンネル接合112を形成するためにマイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル(MEE)法を使用することができる。
MEEは、単結晶を堆積させる方法である。MEEは、III属およびV属の原子を交互に使用することができ、III属の原子が、V属の原子と反応する前に表面においてより長い拡散距離を有し、したがってより高い結晶品質を実現する。トンネル接合112の形成において、周期表に挙げられるIII属およびV属の元素の種々の組み合わせを使用することができる。種々の組み合わせを、格子定数およびバンドギャップの要件にもとづいて使用することができる。III属の元素として、これらに限られるわけではないが、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびタリウム(Tl)を挙げることができる。V属の元素として、これらに限られるわけではいが、チッ素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、およびビスマス(Bi)を挙げることができる。
表面原子の表面に沿った移動(migration)が、高品質の層および原子レベルで平坦なヘテロ接合の成長にきわめて重要となりうる。MEEは、基板表面上でのIII属原子の移動を促進し、したがって品質を高めることができるIII属およびV属の変調を、エピタキシャルの最中に使用している。図2および図3に示されるように、III属およびV属の材料の付着が交互に行われる。したがって、III属の材料を、最初にTuJn層112へと付着することができる。これにより、III属の材料について、より長い拡散時間が可能になり、その結果より良好な結晶品質を得ることができる。III属の材料が付着されると、V属の材料を付着することができる。III属およびV属の材料の交互の付着は、トンネル接合112が完成するまで続けられる。III属およびV属の材料を付着するとき、使用される材料にもとづいて、さまざまな時間枠を使用することができる。交互の時間は、1〜1000秒またはそれ以上のいずれの範囲にあってよい。
MEEは、V/III比の制御を可能にし、ドーピング、とくにはV属の原子の場所を占めるテルル(Te)、硫黄(S)、炭素(C)などのようなドーパントを、促進することができる。MEEを、きわめて低いV/III比で実施することができる。具体的にはアルキル原子が表面上に停滞した場合、V属はチャンバへと注入されず、したがってその瞬間のV/III比はきわめて低く、ドーピング濃度はより高くなる。
図4を参照すると、濃度光I−V(LIV)曲線が示されている。図4には、MEEで成長させたHT GaInPトンネル接合の光I−V(LIV)性能が、従来からのエピタキシ成長によるGaInP HTトンネル接合と対比して示されている。MEEで成長させたHT GaInPトンネル接合のLIV曲線は、単接合の試験構造にもとづいているが、MEE HT TuJnが、従来からのエピタキシ成長TuJnよりも大きなトンネル電流を示すことを、はっきりと見て取ることができる。
既存の高効率多接合型太陽電池は、通常は、とりわけGaInPのような広バンドギャップ材料において、高いドーピング濃度を実現するためにより低い温度を使用する。MEEは、TuJn層の高温および低温成長の両方に使用可能であり、より高ドーピングでより高品質なTuJn層を実現することができる一方で、従来からの成長では、高ドーピングを実現するために品質が損なわれ、したがって最大トンネル電流が小さくなり、より後の層の品質も損なわれる。本発明は、既存のTuJnのトンネル電流をより高い値へと押し上げることができ、したがって効率の改善をもたらす。
本出願の本文および添付の図1〜4に示されるように、太陽電池構造100のトンネル接合112の形成方法が開示される。この方法は、太陽電池構造100へのIII属の材料の堆積およびV属の材料の堆積を交互に行うことを含む。一変種においては、III属の材料の堆積およびV属の材料の堆積を交互に行うことは、太陽電池構造100へとIII属の材料を堆積させることと、III属の材料の堆積後にV属の材料を堆積させることとを含む。さらに、本方法は、太陽電池構造100の第1の太陽電池108(例えば、太陽電池1)へとIII属の材料を堆積させることを含むことができる。一変種において、本方法は、太陽電池構造100の第1の太陽電池108へとV属の材料を堆積させることを含むことができる。さらに別の選択肢において、本方法は、III属の材料およびV属の材料の堆積の比を制御することを含むことができる。一変種においては、III属の材料の堆積を交互に行うことが、約1〜1000秒にわたってIII属およびV属の材料を堆積させることを含むことができる。1つの選択肢においては、III属の材料が、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびタリウム(Tl)のうちの少なくとも1つを含む。さらなる一例においては、V属の材料が、チッ素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1つを含む。
本出願の本文および添付の図1〜4に示されるように、基板102と、基板102の上方に位置する第1の太陽電池108(例えば、太陽電池1)と、第1の太陽電池108の上方に位置するコンタクト116と、第1の太陽電池108とコンタクトとの間の位置に形成されたトンネル接合112とを備えており、トンネル接合112が、マイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル(MEE)法によって形成されている光起電デバイスが提供される。一変種においては、トンネル接合112が、III属およびV属の材料の堆積を交互に行うことからなる前記MEE法によって形成される。一例においては、III属の材料が、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびタリウム(Tl)のうちの少なくとも1つを含む。
一変種においては、前記V属の材料が、チッ素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1つを含むことができる。さらに、光起電デバイスは、前記基板100と前記第1の太陽電池108との間に位置するバッファ層106を備えることができる。さらに、光起電デバイスは、前記バッファ層106と前記基板102との間に位置する核生成層104を備えることができる。一変種においては、第2の太陽電池114(例えば、太陽電池2)が、前記第1の太陽電池108と前記コンタクト116との間に配置される。
本発明の実施形態を、種々の具体的な実施形態に関して説明したが、本開示のこれらの実施形態を、特許請求の範囲の思想および範囲内で、変更を伴って実施できることを、当業者であれば理解できるであろう。

Claims (15)

  1. 太陽電池構造(100)へのIII族の材料の堆積およびV族の材料の堆積を交互に行うことを含む、前記太陽電池構造(100)にトンネル接合(112)を形成する方法。
  2. 前記III属の材料の堆積およびV属の材料の堆積を交互に行うことが、
    前記太陽電池構造(100)へとIII属の材料を堆積させることと、
    前記III属の材料の堆積後にV属の材料を堆積させることと
    をさらに含む請求項1に記載の方法。
  3. 前記太陽電池構造(100)の第1の太陽電池(108)へと前記III族の材料を堆積させることをさらに含む請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記太陽電池構造(100)の前記第1の太陽電池(108)へと前記V族の材料を堆積させることをさらに含む請求項3に記載の方法。
  5. 前記III族の材料および前記V族の材料の堆積の比を制御することをさらに含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記III族の材料の堆積を交互に行うことが、約1〜1000秒にわたって前記III族および前記V族の材料を堆積させることをさらに含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記III属の材料が、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびタリウム(Tl)のうちの少なくとも1つを含む請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記V属の材料が、チッ素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1つを含む請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 基板(102)と、
    前記基板(102)の上方に位置する第1の太陽電池(108)と、
    前記第1の太陽電池(108)の上方に位置するコンタクト(116)と、
    前記第1の太陽電池(108)と前記コンタクト(116)との間の位置に形成されたトンネル接合(112)と
    を備えており、
    前記トンネル接合(112)が、マイグレーション・エンハンスト・エピタキシャル(MME)法によって形成されている光起電デバイス。
  10. 前記トンネル接合(112)が、III属およびV属の材料の堆積を交互に行うことからなる前記MEE法によって形成されている請求項9に記載の光起電デバイス。
  11. 前記III族の材料が、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、およびタリウム(Tl)のうちの少なくとも1つを含む請求項10に記載の光起電デバイス。
  12. 前記V族の材料が、チッ素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1つを含む請求項10または11に記載の光起電デバイス。
  13. 前記基板(102)と前記第1の太陽電池(108)との間に位置するバッファ層(106)をさらに備える請求項9〜12のいずれか一項に記載の光起電デバイス。
  14. 前記バッファ層(106)と前記基板(102)との間に位置する核生成層(104)をさらに備える請求項13に記載の光起電デバイス。
  15. 前記第1の太陽電池(108)と前記コンタクト(116)との間に位置する第2の太陽電池(114)をさらに備える請求項9〜14のいずれか一項に記載の光起電デバイス。
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