JP2014508797A - 日焼け止め剤含有流体組成物、及び、その瘢痕治療のための使用 - Google Patents

Abstract

【課題】日焼け止め剤含有流体組成物、及び、その瘢痕治療のための使用。
【解決手段】本発明は、流体組成物に関するものであり、上記組成物は、重合体、可塑剤、揮発性溶媒、及び、上記組成物の総重量の０．５〜２．２重量％程度のごく少量の有機日焼け止め剤を少なくとも含むことを特徴とする。上記組成物は皮膚に塗布することを意図したものであり、瘢痕の治療に使用できる。また、上記組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体及びケイ皮酸塩誘導体を含むことが有利である。
【選択図】なし

Description

本発明は、重合体、可塑剤、揮発性溶媒、及び、ごく少量の有機日焼け止め剤（ｏｒｇａｎｉｃ ｓｕｎ ｆｉｌｔｅｒ）を少なくとも含む液状被覆剤に関する。この組成物は、皮膚に塗布することにより皮膚を防水被膜で覆うことを意図したものであり、瘢痕の治療に好適に使用できる。

瘢痕は、外部からの病原体だけでなく日光に含まれる紫外線（ＵＶ）に対しても非常に弱く敏感である。

瘢痕の保護、特に紫外線からの保護を目的とした商品が既にいくつか市販されている。その一部は乳液状のクリームであり、多量の水分を含む。このような水性の製品では、紫外線に対する充分な効果を確保するために、日焼け止め剤の含有量が非常に高くなっている（１０〜３５重量％程度）。

オクチノキサートを２〜７．５重量％、さらに酸化亜鉛を０．５〜７．５重量％含む瘢痕軽減クリームが特許文献１に記載されている。しかし、このクリームには耐水性に劣るという欠点があり、皮膚が水に触れてしまうと瘢痕を日光から保護する効果が消失してしまう。またこの種のクリームには、摩擦に対して弱いという欠点もある。

その上、このような製剤は、含まれる日焼け止め剤の一部が皮膚に浸透してしまう傾向があるため、皮膚を紫外線から保護する効果を確保するためには該組成物に多量の有機日焼け止め剤を含有させなければならない。

揮発性溶媒を用いて処方される液状被覆剤は、通常、皮膚に塗布する際にはスプレー、ブラシ、へら等の適当な塗布用器具を使用する流体状である。揮発性溶媒は皮膚に触れると蒸発し、後には皮膚を保護する固形被膜が残る。

皮膚に被膜を形成する液状被覆剤の利点は、形成される被膜が固体であり、皮膚表面に残るため、被覆剤の構成成分が皮膚に浸透するのを制限できることである。また、この被膜は耐水性や耐摩擦性を有するため、塗布後数日は効果が持続する。

特許文献２には、溶媒相に多量の有機日焼け止め剤及び無機日焼け止め剤を含む液状被覆剤が提案されている。しかし、上記無機日焼け止め剤が時間の経過とともに沈殿するため、保存中に上記組成物の安定性が損なわれることを本出願人は立証した。

また本出願人は、上記文献の記載内容に反して、紫外線保護効果を得るためには必ずしも無機日焼け止め剤を配合する必要がないことを実証した。そして、本出願人は日焼け止め剤の性質と量を最適化して、液状被覆剤の溶媒相に配合した。

また本出願人は、全く予想外なことに、有機日焼け止め剤のブチルメトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）が、この種の製剤においては照射後でも依然として高い日光保護効果を有するため、従来アボベンゾンと併用されるオクトクリレン等の光安定剤を添加する必要がないことを見出した。

米国特許第７２４１４５１号明細書 仏国特許発明第２９２９５２２号明細書

従って、本発明は、限られた一定量の日焼け止め剤、好ましくは有機日焼け止め剤を用いて充分に紫外線を吸収する液状被覆剤を提案するものである。

つまり、本発明は、重合体、可塑剤、上記重合体の水以外の揮発性溶媒、及び、少なくとも１種の有機日焼け止め剤を含む皮膚塗布用流体組成物であって、日焼け止め剤の合計含有量が上記組成物の総重量の０．５〜２．２重量％、上記揮発性溶媒の含有量が上記組成物の総重量の６０〜９０重量％、上記重合体の含有量が、乾燥重量として、上記組成物の総重量の５〜２０重量％であることを特徴とする流体組成物に関する。

上記重合体は、本発明の組成物を塗布した後に皮膚表面に連続被膜を形成できることが好ましい。上記重合体は、水不溶性であって、上記組成物中の揮発性溶媒が蒸発してしまえば水不溶性の被膜を形成するものであることが好ましい。例えばヒドロキシプロピルセルロースやヒドロキシエチルセルロースは、水不溶性の乾燥被膜を形成しない。上記重合体は、水以外の揮発性溶媒に可溶であることが好ましい。

上記重合体は、天然由来の重合体、グアーガム、アラビアガム、アルギン酸塩、キサンタンガム、ゼラチン、キトサン、ケイ酸塩、含水ケイ酸、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエステルアミド、ポリアミド、ポリ尿素、ビニル重合体、アクリル重合体、ポリビニルブチラール、アルキド樹脂、アルデヒド縮合物の樹脂、例えばアリールスルホンアミドホルムアルデヒド樹脂等、アリールスルホンアミドエポキシ樹脂、エチルトシルアミド樹脂、アセトフェノン／ホルムアルデヒド樹脂、及び、これらの混合物から選択することができる。

上記ビニル重合体は、酢酸ビニル、ネオデカン酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル及びｔ−ブチル安息香酸ビニル等のビニルエステル、並びに、スチレン及びα−メチルスチレン等のスチレン単量体から選択される単量体の単独重合または共重合によって得ることができる。

上記アクリル重合体としては、アクリル酸の単独重合体、アクリル酸の共重合体、メタクリル酸の単独重合体、及び、メタクリル酸の共重合体が挙げられる。

一実施形態では、上記重合体は、セルロース系重合体、特にヒドロキシプロピルメチルセルロース、セルロースエーテル、セルロースエステル、ニトロセルロース、水不溶性セルロース誘導体、及び、これらの混合物から選択される。

一実施形態では、上記重合体は、ニトロセルロースであり、好ましくは高粘度のニトロセルロースから選択される。特に、ニトロセルロースは、米国規格ではＲＳ１／２秒〜ＲＳ２０秒のグレード（欧州規格では８Ｅ〜２１Ｅのグレードに相当）を使用できる。例えば、１０Ｅまたは１１Ｅ（米国規格ではＲＳ１５秒）のグレードのニトロセルロースが好ましい。

上記ニトロセルロースは、特に、ＨＥＲＣＵＬＥＳ社製のＲＳ５秒〜ＲＳ１５秒のニトロセルロース；Ｎｏｂｅｌ Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅｓ社製のＤＨＬ（登録商標）１２０／１７０、ＤＨＬ（登録商標）２５／４５、ＤＨＸ（登録商標）４０／７０の製品；Ｗｏｌｆｆ Ｃｅｌｌｕｌｏｓｉｃｓ社製のニトロセルロースＥ８４０（登録商標）及びＥ６２０（登録商標）；並びに、ＳＮＰＥ−Ｂｅｒｇｅｒａｃ社製のＥ８０（登録商標）、Ｅ７０（登録商標）、Ｅ６０（登録商標）及びＥ４０（登録商標）として市販される製品から選択することができる。上記ニトロセルロースは、乾燥した状態でも、イソプロパノールやエタノール等の溶媒に溶解させた溶液の状態でも使用できる。

上記重合体の含有量は、乾燥重量として、上記組成物の総重量の５〜２０重量％であることが好ましく、例えば乾燥重量として上記組成物の総重量の６〜１５重量％、さらには６〜９重量％である。

上記可塑剤は被膜の柔軟性をより高めることができ、植物由来の油及びそのエトキシ化誘導体から選択されるのが有利である。植物油としては、以下のものを挙げることができる。

ゴマ油、ヒマシ油、アーモンド油、キャノーラ油、ヘーゼルナッツ油、ピスタチオ油、アマニ油、ルリジサ油、大麻油、ホホバ油、ヒマワリ油、小麦胚芽油、トウモロコシ油及び／またはトウモロコシ胚芽油、ピーナッツ油、アボカド油、ベニバナ油、ナタネ油、オリーブ油、アルガン油、ヒマワリ油、ブドウ種子油、大豆油、胡桃油、カボチャ種子油、パーム油、ヤシ油、並びに、これらの混合物から選択される植物油が有利である。

油は上に挙げた植物油のいずれかの誘導体であってもよい。また、硬化油、非硬化油、過酸化油、非過酸化油のいずれであってもよい。

上記可塑剤は以下から選択することもできる。
・イソノナン酸イソノニル、エルカ酸オレイル、ネオペンタン酸オクチル−２−ドデシル等のモノカルボン酸エステル；
・オクチルドデカノール、２−ブチルオクタノール、２−ヘキシルデカノール、２−ウンデシルペンタデカノール、オレイルアルコール等の脂肪族アルコール；
・オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等の脂肪酸；
・ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール及びその誘導体；
・クエン酸エステル（クエン酸アセチルトリブチル）、フタル酸エステル（フタル酸ジブチル）、アジピン酸エステル、セバシン酸エステル（セバシン酸ジブチル）等のジカルボン酸エステル；
・トリアセチンまたはグリセリルトリアセテート；
・グリセリン；
・これらの混合物。

上記可塑剤は、上記重合体の溶媒に可溶であることが好ましい。

本発明の組成物に含まれる上記可塑剤と上記重合体の重量比は０．５〜１．５、好ましくは０．７〜１．２の範囲、特に１に近い値であることが有利である。

本発明において、有機日焼け止め剤（ｏｒｇａｎｉｃ ｓｕｎ ｆｉｌｔｅｒ）とは、紫外線、通常は２８０〜４００ｎｍの波長の紫外線を吸収する有機化合物を指す。本発明で使用する有機日焼け止め剤としては、３２０〜４００ｎｍの波長のＵＶ−Ａ波を遮る化合物、２８０〜３２０ｎｍの波長のＵＶ−Ｂ波を遮る化合物、ＵＶ−Ａ波及びＵＶ−Ｂ波を遮る化合物、並びに、これらの混合物が挙げられる。

上記組成物は、無機日焼け止め剤を上記組成物の総重量の０．５重量％未満含むことが好ましく、０．２重量％未満含むことがより好ましい。

本発明の組成物は、無機日焼け止め剤を含まないことが好ましい。

上記組成物中の日焼け止め剤の合計含有量は少なく、好ましくは上記組成物の総重量の０．５〜２．２重量％、より好ましくは１．２〜１．８重量％であり、好ましくは１．５重量％程度である。

上記有機日焼け止め剤は、ＵＶ−Ａ波に有効な有機日焼け止め剤、ＵＶ−Ｂ波に有効な有機日焼け止め剤、ＵＶ−Ａ波及びＵＶ−Ｂ波に有効な有機日焼け止め剤、並びに、これらの混合物から選択することができる。

ＵＶ−Ａ波に有効な有機日焼け止め剤は、以下より選択するのが有利である。
・ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＩＮＣＩ名）（別名アボベンゾン（ＵＳＡＮ名））、特にＰＡＲＳＯＬ（登録商標）１７８９の商品名で販売されているものや、イソプロピルジベンゾイルメタン等のジベンゾイルメタン誘導体、
・アントラニル酸メンチル、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＭＡ（ＳＹＭＲＩＳＥ社製）で販売されているもの、
・これらの混合物。

本発明の組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体を、オクトクリレン等の光安定剤と混合せずに含むことが有利である。一実施形態では、ＵＶ−Ｂ波を吸収する脂溶性有機日焼け止め剤がジベンゾイルメタン誘導体に添加される。

ＵＶ−Ａ波に有効な有機日焼け止め剤、特にジベンゾイルメタン誘導体の含有量は、上記組成物の重量の１重量％未満であることが有利であり、例えば０．２〜０．８重量％、好ましくは０．３〜０．７重量％であり、より好ましくは０．５重量％程度である。

上記組成物はＵＶ−Ｂ波に有効な日焼け止め剤を含んでいてもよい。この日焼け止め剤は脂溶性のものが好ましく、ＵＶ−Ｂ波の波長のみを吸収する日焼け止め剤、ＵＶ−Ａ波及びＵＶ−Ｂ波の両方を吸収する日焼け止め剤、並びに、これらの混合物から選択することができる。

ＵＶ−Ｂ波のみに有効な日焼け止め剤は以下から選択することができる。
・サリチル酸誘導体：ホモサレート、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＨＭＳの商品名で販売されているもの；サリチル酸エチルヘキシル、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＯＳ（ＳＹＭＲＩＳＥ社製）の商品名で販売されているもの；サリチル酸オクチル、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ｔｙｐｅ ０５の商品名で販売されているもの；
・ケイ皮酸塩：メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、特にＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＭＣＸ（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）の商品名で販売されているもの；メトキシケイ皮酸イソプロピル；メトキシケイ皮酸イソアミル、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）Ｅ１０００（ＳＹＭＲＩＳＥ社製）の商品名で販売されているもの；メチルケイ皮酸ジイソプロピル；シノキセート；グリセリルエチルヘキサノエート−ジメトキシシンナメート；
・ベンジリデンカンファー誘導体：ＭＥＸＯＲＹＬ（登録商標）ＳＤ（ＣＨＩＭＥＸ社製）の商品名で製造されている３−ベンジリデンカンファー；メチルベンジリデンカンファー、特にＮＥＯ ＨＥＬＩＯＰＡＮ（登録商標）ＭＢＣの商品名で販売されているもの；
・トリアジン誘導体：エチルヘキシルトリアゾン、特にＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｔ１５０（ＢＡＳＦ社製）の商品名で販売されているもの；ＵＶＡＳＯＲＢ（登録商標）ＨＥＢの商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン；
・パラアミノ安息香酸エステル：エチルＰＡＢＡ、エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＩＳＰ社製ＥＳＣＡＬＯＬ（登録商標）５０７）等；
・イミダゾリン誘導体：エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート；
・ベンザルマロネート誘導体：ポリシリコーン−１５等のベンザルマロネートで官能化されたポリオルガノシロキサン、特にＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＳＬＸ（ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）の商品名で販売されているもの；ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート；
・これらの混合物。

ＵＶ−Ａ波及びＵＶ−Ｂ波の両方に有効な日焼け止め剤は以下から選択することができる。
・ベンゾフェノン誘導体：ＵＶＩＮＵＬ（登録商標）４００の商品名で販売されているベンゾフェノン−１；ＵＶＩＮＵＬ Ｄ５０の商品名で販売されているベンゾフェノン−２；ＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｍ４０の商品名で販売されているベンゾフェノン−３（オキシベンゾン）；ＵＶＩＮＵＬ（登録商標）ＭＳ４０の商品名で販売されているベンゾフェノン−４；ＨＥＬＩＳＯＲＢ １１の商品名で販売されているベンゾフェノン−６；ＳＰＥＣＴＲＡＳＯＲＢ（登録商標）ＵＶ−２４の商品名で販売されているベンゾフェノン−８；
・フェニルベンゾトリアゾール誘導体：ドロメトリゾールトリシロキサン、特にＳｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ（登録商標）（ＲＨＯＤＩＡ ＣＨＩＭＩＥ社製）の商品名で販売されているもの；固形で販売されているメチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、特にＭＩＸＸＩＭ（登録商標）ＢＢ／１００（ＦＡＩＲＭＯＵＮＴ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）の商品名で販売されているもの；
・ビスレゾルシニルトリアジン誘導体：ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、特にＴＩＮＯＳＯＲＢ（登録商標）Ｓ（ＣＩＢＡ ＧＥＩＧＹ社製）の商品名で販売されているもの；
・ベンゾオキサゾール誘導体：２，４−ビス−［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾオキサゾール−２−イル−（４−フェニル）−イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）−イミノ−１，３，５−トリアジン、特にＵｖａｓｏｒｂ（登録商標）Ｋ２Ａ（Ｓｉｇｍａ ３Ｖ社製）の商品名で販売されているもの；
・これらの混合物。

本発明の一実施形態では、上記有機日焼け止め剤は、ＵＶ−Ａ波を吸収する日焼け止め剤とＵＶ−Ｂ波を遮る日焼け止め剤との混合物である。

例えば、ケイ皮酸塩から選択される脂溶性ＵＶ−Ｂ波用日焼け止め剤、特に、ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＭＣＸの商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ＩＮＣＩ名）（別名オクチノキサート（ＵＳＡＮ名））を、ＵＶ−Ａ波に有効な有機日焼け止め剤に添加することができる。

上記有機日焼け止め剤は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＵＳＡＮ名：アボベンゾン）とメトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ＵＳＡＮ名：オクチノキサート）との混合物であってもよい。

本発明の組成物中のＵＶ−Ｂ波用脂溶性有機日焼け止め剤、特にメトキシケイ皮酸エチルヘキシルの含有量は、上記組成物の重量の１．２重量％未満が有利であり、例えば０．５〜１．２重量％、好ましくは０．８〜１．２重量％であり、より好ましくは１重量％程度である。

一実施形態では、ジベンゾイルメタン誘導体とケイ皮酸誘導体との重量比は０．３〜０．７であり、好ましくは０．５程度である。

ジベンゾイルメタン誘導体及びケイ皮酸誘導体を含む有機日焼け止め剤の含有量は、上記組成物の総重量の０．５〜２．２重量％であることが有利であり、好ましくは１．２〜１．８重量％であり、より好ましくは１．５重量％程度である。

本発明の組成物は揮発性溶媒も含むが、この揮発性溶媒は上記重合体及び可塑剤を溶解するものであるのが好ましい。これにより、上記成分を溶解して均質化することができ、またこの溶媒の揮発性が塗布後に皮膚表面に固形の連続被膜が形成されるのを促進する。

本発明において、揮発性溶媒とは、皮膚に触れると素早く蒸発する溶媒を指す。水はこの定義には含まれないものとする。沸点が（大気圧下で）５０℃を超える揮発性溶媒及び揮発性溶媒の混合物が好ましい。

使用可能な溶媒として、以下のものを挙げることができる。
・メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、アセトン等のケトン類；
・エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール、２−ブトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；
・エチレングリコール、プロピレングリコール、ペンチレングリコール、グリセリン等のグリコール類；
・プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類；
・酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソペンチル等のエステル類；
・メチラール；
・ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジクロロジエチルエーテル等のエーテル類；
・シリコーン溶媒、特にヘキサメチルシロキサンやポリジメチルシロキサン；
・これらの混合物。

上記揮発性溶媒は、エタノール、酢酸エチル及びこれらの混合物から選択されるのが有利である。特に、酢酸エチルとエタノールを１：１〜３：１、好ましくは２：１の割合で混合したものが使用される。揮発性溶媒の含有量は、上記組成物の総重量の６０〜９０重量％が好ましく、上記組成物の総重量の７０〜９０重量％が有利である。

上記組成物は、実質的には水を含まない。水の含有量は２重量％未満であることが好ましい。

本発明の組成物は、被覆剤の調製において通常使用される添加剤をさらに含んでいてもよく、例えば香料、保存料、脱色剤、抗菌剤、抗真菌剤、治癒促進剤、鎮痛剤、抗炎症剤、水和剤、角質溶解剤、ビタミン類、グリセリン及びクエン酸等を挙げることができる。

通常、上記活性剤は以下より選択される。
・ポリミキシンＢ、ペニシリン類（アモキシシリン）、クラブラン酸、テトラサイクリン類、ミノサイクリン、クロルテトラサイクリン、アミノグリコシド類、アミカシン、ゲンタマイシン、ネオマイシン、銀及び銀塩（スルファジアジン銀）、プロバイオティクス等の抗菌剤；
・メルクロチオラートナトリウム、エオシン、クロルヘキシジン、ホウ酸フェニル水銀、過酸化水素、デーキン溶液、トリクロサン、ビグアニド、ヘキサミジン、チモール、ルゴール、ヨードポビドン、メルブロミン、塩化ベンザルコニウム及び塩化ベンゼトニウム、エタノール、イソプロパノール等の防腐剤；
・アシクロビル、ファムシクロビル、リトナビル等の抗ウイルス剤；
・ポリエン類、ナイスタチン、アンフォテリシンＢ、ナタマイシン、イミダゾール類（ミコナゾール、ケトコナゾール、クロトリマゾール、エコナゾール、ビホナゾール、ブトコナゾール、フェンチコナゾール、イソコナゾール、オキシコナゾール、セルタコナゾール、スルコナゾール、チアベンダゾール、チオコナゾール）、トリアゾール類（フルコナゾール、イトラコナゾール、ラブコナゾール、ポサコナゾール、ボリコナゾール）、アリルアミン類、テルビナフィン、アモロルフィン、ナフチフィン、ブテナフィン等の抗真菌剤；
・フルシトシン（代謝拮抗物質）、グリセオフルビン、カスポファンギン、ミカファンギン；
・パラセタモール、コデイン、デキストロプロポキシフェン、トラマドール、モルヒネ及びその誘導体、コルチコイド及びその誘導体等の鎮痛剤；
・グルココルチコイド類、非ステロイド系抗炎症剤、アスピリン、イブプロフェン、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、ジクロフェナク、アセクロフェナク、ケトロラク、メロキシカム、ピロキシカム、テノキシカム、ナプロキセン、インドメタシン、ナプロキシノド、ニメスリド、セレコキシブ、エトリコキシブ、パレコキシブ、ロフェコキシブ、バルデコキシブ、フェニルブタゾン、ニフルム酸、メフェナム酸等の抗炎症剤；
・レチノール、ビタミンＡ、ビタミンＥ、Ｎ−アセチルヒドロキシプロリン、センテラアジアティカ抽出物、パパイン、シリコーン類、タイム精油、ニアウリ精油、ローズマリー精油、セージ精油、ヒアルロン酸、スクロースオクタスルファートのカリウム塩または銀塩やスクラルファート等の１〜４個の単糖単位からなる合成ポリ硫酸化オリゴ糖、アラントイン等の治癒を促進する活性剤；
・コウジ酸（Ｋｏｊｉｃ Ａｃｉｄ ＳＬ（登録商標）−Ｑｕｉｍａｓｓｏ社（Ｓｉｎｏ Ｌｉｏｎ社））、アルブチン（Ｏｌｅｖａｔｉｎ（登録商標）−Ｑｕｉｍａｓｓｏ社（Ｓｉｎｏ Ｌｉｏｎ社））、パルミトイルプロピルナトリウムとセイヨウスイレン抽出物との混合物（Ｓｅｐｉｃａｌｍ（登録商標）−Ｓｅｐｐｉｃ社）、ウンデシレノイルフェニルアラニン（Ｓｅｐｉｗｈｉｔｅ（登録商標）−Ｓｅｐｐｉｃ社）、アスペルギルス属とエトキシジグリコールとの発酵によって得られるリコリス抽出物（Ｇａｔｕｌｉｎｅ Ｗｈｉｔｅｎｉｎｇ（登録商標）−Ｇａｔｔｅｆｏｓｓｅ社）、オクタデセン二酸（ＯＤＡ Ｗｈｉｔｅ（登録商標）−Ｓｅｄｅｒｍａ社）、α−アルブチン（Ａｌｐｈａ−ａｒｂｕｔｉｎ（登録商標）、ＳＡＣＩ−ＣＦＰＡ社（Ｐｅｎｔａｐｈａｒｍ社））、クマコケモモの葉の水性抽出物（Ｍｅｌｆａｄｅ−Ｊ（登録商標）−ＳＡＣＩ−ＣＦＰＡ社（Ｐｅｎｔａｐｈａｒｍ社））、植物複合物であるＧｉｇａｗｈｉｔｅ（登録商標）（ＳＡＣＩ−ＣＦＰＡ社（Ａｌｐａｆｌｏｒ社））、ジアセチルボルジン（Ｌｕｍｉｓｋｉｎ（登録商標）−Ｓｅｄｅｒｍａ社）、ウンシュウミカン抽出物（Ｍｅｌａｓｌｏｗ（登録商標）−Ｓｅｄｅｒｍａ社）、クエン酸を強化したレモン抽出物とキュウリ抽出物との混合物（Ｕｎｉｎｏｎｔａｎ（登録商標）Ｕ−３４−Ｕｎｉｐｅｘ社）、ルメックスオクシデンタリス抽出物とビタミンＣとの混合物（Ｔｙｒｏｓｔａｔ（登録商標）１１−Ｕｎｉｐｅｘ社）、オリゴペプチド類（Ｍｅｌａｎｏｓｔａｔｉｎ ５（登録商標）−Ｕｎｉｐｅｘ社）、コウジジパルミテート（ＫＡＤ−１５（登録商標）−Ｑｕｉｍａｓｓｏ社（Ｓｉｎｏ Ｌｉｏｎ社））、天然由来複合物Ｖｅｇｅｗｈｉｔｅ（登録商標）（ＬＣＷ社）、小麦胚芽抽出物（Ｃｌａｒｉｓｋｉｎ（登録商標）ＩＩ−Ｓｉｌａｂ社）、エチルジアミントリアセテート（ＥＤＴＡ）等の脱色剤；
・サリチル酸、サリチル酸亜鉛、アスコルビン酸、α−ヒドロキシ酸（グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸）、ウラジロサトウカエデ抽出物、酸果桜桃の木の抽出物、タマリンド抽出物、尿素、外用レチノイドＫｅｒａｔｏｌｉｎｅ（登録商標）（Ｓｅｄｅｒｍａ社）、枯草菌の発酵により得られるプロテアーゼ類、Ｌｉｎｋｅｄ−Ｐａｐａｉｎ（登録商標）（ＳＡＣＩ−ＣＦＰＡ社）、パパイン（パパイヤの実から抽出されるタンパク質分解酵素）等の角質溶解剤；
・シリカ誘導体、ビタミンＥ、カモミール、カルシウム、トクサ抽出物、Ｌｉｐｅｓｔｅｒ ｄｅ ｓｏｉｅ等の再構築促進剤（例えば、皮膚付属器を再構築する促進剤）；
・ベンゾカイン、リドカイン、ジブカイン、プラモキシン塩酸塩、ブピバカイン、メピバカイン、プリロカイン、エチドカイン等の麻酔薬。

既に述べたように、本発明の組成物は、塗布する際には適当な器具を使用する液状流体の形態である。様々な形態、特に、ブラシ、へら、ロールオン（回転塗布）装置等の適当な塗布用器具を備えた瓶詰めの形態、スプレーの形態、リップスティックの形態、及び、ムースの形態で使用できるように上記組成物を処方することが有利である。

本発明はまた、瘢痕の保護に使用される上記組成物に関する。

一実施形態では、本発明の組成物は、事故、病気に関連した瘢痕、または、手術後に残った瘢痕のいずれにも塗布することを意図したものである。

この組成物は、紫外線への曝露が望ましくないあらゆる皮膚疾患にも使用できる。

例としては、座瘡（にきび）、水疱瘡、帯状疱疹、酒さ、第一度熱傷、湿疹、高色素沈着、光線性皮膚炎、白斑、乾燥症、ポルフィリン症、伸展裂創、乾癬及び昆虫刺傷が挙げられる。

本発明はさらに、瘢痕等のリスク領域を保護する被覆剤を調製するための上記組成物の使用に関する。

以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、該実施例は本発明の範囲を限定するものではない。

実施例１
下記組成物を調製した。

手順
材料２〜６を７００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で１０分間、プロペラ攪拌機で撹拌しながら混合した。次に、撹拌下、この混合物中にニトロセルロースを分散させ、１１００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で２０分撹拌し、さらに２０００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で３０分撹拌した。

遮蔽力の測定
本発明の組成物を計量して不活性基板上に均一に広げた後、放置して乾燥させ、揮発性溶媒を蒸発させた。厚さ１０ミクロンの被膜が得られ、この被膜を基板から外した。

上記組成物の被膜に予備照射して生体における状態に近づけておき、その組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）を生体外で計測した。上記被膜の予備照射は、２〜４ＭＥＤの基準太陽光によって３０分間行った。適用されたＭＥＤ（最小紅斑量）は２５ｍＪ／ｃｍ^２である。この値は、天頂にある太陽（基準太陽）に４ＭＥＤ／ｈの紅斑量で１５分間曝露する照射に相当し、この際の２９０〜３２０ｎｍの波長におけるＵＶ−Ｂ波の分光放射輝度は０．３６５ｍＷ／ｃｍ^２、３２０〜４００ｎｍの波長におけるＵＶ−Ａ波の分光放射輝度は６．０ｍＷ／ｃｍ^２である（ＵＶＡ／ＵＶＢ比は１６．５／１）。

ＳＰＦ測定にあたっては、Ｂ．Ｌ．Ｄｉｆｆｅｙ及びＪ．Ｒｏｂｓｏｎ著、「Ｊ．Ｓ．Ｃ．Ｃ．」、４０、１９８９年５月〜６月号、１２７〜１３３に記載の原則に従った。

使用した装置は以下の通りである。
・ＵＶ源及び２５０〜８００ｎｍのエネルギー束を出射可能なダブルモノクロメーターを搭載した分光光度計「ＫＯＮＴＲＯＮ９３０」；
・照射光源：標準フィルター及びＳｃｈｏｔｔ ＷＧ ３２０フィルターを備えたＣＰＳ＋ＳＵＮＴＥＳＴ（ＡＴＬＡＳ社）。対照（コントロール）として、ＵＶ遮断剤含有ＰＭＭＡシートを使用。

厚さ１０μｍの被膜を３〜５回測定して得られたＳＰＦ平均値は２４３（±７４）であった。

本発明の被膜はＵＶＡ波及びＵＶＢ波に対して保護機能を有し、ＵＶＡ波及びＵＶＢ波間のスペクトル分布も良好である。臨界波長は３７０ｎｍである。

実施例２
実施例１と同様の手順にて、下記組成物を調製した。

実施例１の方法に従ってＳＰＦ平均値を算出した。予備照射後、５回の測定で得られたＳＰＦ平均値は１７．１０（±０．３２）であった。従って、この製品は確かに日光保護効果を有していた。

比較例３
下記組成物を調製した。

手順
材料２〜６を７００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で１０分間、プロペラ攪拌機で撹拌しながら混合した。次に、撹拌下、この混合物中にニトロセルロースを分散させ、１１００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で２０分間撹拌し、さらに２０００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で３０分間撹拌した。

例４におけるニトロセルロース含有量（乾燥重量％）は２０％であった。例４の組成物は非常に粘性があり、糸を引くものであった。そのため、ブラシで塗り広げることはできなかった。得られた被膜は凹凸しており、不均一なものであった。

比較例４
下記組成物を調製した。

手順
材料２〜６を７００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で１０分間、プロペラ攪拌機で撹拌しながら混合した。次に、撹拌下、この混合物中にニトロセルロースを分散させ、１１００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で２０分間撹拌し、さらに２０００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で３０分間撹拌した。

例５におけるニトロセルロース含有量（乾燥重量％）は４．８％であった。例５の組成物は非常に流動性があるため、皮膚上で充分な厚みの被膜を形成することができず、必要な日光保護効果を得られなかった。形成された被膜は非常に薄く、摩擦や洗浄で傷つきやすかった。

比較例５
下記組成物を調製した。

手順
材料２〜６を７００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で１０分間、プロペラ攪拌機で撹拌しながら混合した。次に、撹拌下、この混合物中にニトロセルロースを分散させ、１１００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で２０分間撹拌し、さらに２０００ｒｅｖ／ｍｉｎの速度で３０分間撹拌した。

遮蔽力の測定
例６の組成物を計量して不活性基板上に均一に広げた後、放置して乾燥させ、揮発性溶媒を蒸発させた。厚さ１０ミクロンの被膜が得られ、この被膜を基板から外した。

実施例１と同様の方法で上記組成物の日焼け防止指数（ＳＰＦ）を測定した。

分光光度計による測定から、Ｐａｒｓｏｌ ＭＣＸが１．２重量％以上で飽和レベルに達することがわかった。さらに、Ｐａｒｓｏｌ１７８９では１重量％で飽和レベルに達した。

例３におけるニトロセルロース含有量（乾燥重量％）は２０％であった。例３の組成物は非常に粘性があり、糸を引くものであった。そのため、ブラシで塗り広げることはできなかった。得られた被膜は凹凸しており、不均一なものであった。

例４におけるニトロセルロース含有量（乾燥重量％）は４．８％であった。例４の組成物は非常に流動性があるため、皮膚上で充分な厚みの被膜を形成することができず、必要な日光保護効果を得られなかった。形成された被膜は非常に薄く、摩擦や洗浄で傷つきやすかった。

遮蔽力の測定
例５の組成物を計量して不活性基板上に均一に広げた後、放置して乾燥させ、揮発性溶媒を蒸発させた。厚さ１０ミクロンの被膜が得られ、この被膜を基板から外した。

Claims (12)

1. 重合体、可塑剤、前記重合体の水以外の揮発性溶媒、及び、少なくとも１種の有機日焼け止め剤を含む皮膚塗布用流体組成物であって、日焼け止め剤の合計含有量が前記組成物の総重量の０．５〜２．２重量％、前記揮発性溶媒の含有量が前記組成物の総重量の６０〜９０重量％、前記重合体の含有量が、乾燥重量として、前記組成物の総重量の５〜２０重量％であることを特徴とする流体組成物。
2. 日焼け止め剤の合計含有量は前記組成物の総重量の１．２〜１．８重量％、好ましくは１．５重量％程度であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
3. 前記有機日焼け止め剤は、ジベンゾイルメタン誘導体とＵＶ−Ｂ波を吸収する脂溶性有機日焼け止め剤との混合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の組成物。
4. 前記ジベンゾイルメタン誘導体の含有量は前記組成物の総重量の０．３〜０．７重量％であることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
5. 前記ＵＶ−Ｂ波を吸収する脂溶性有機日焼け止め剤の含有量は前記組成物の総重量の０．８〜１．２重量％であることを特徴とする請求項３または４に記載の組成物。
6. 前記有機日焼け止め剤は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＵＳＡＮ名アボベンゾン）とメトキシケイ皮酸エチルヘキシル（ＵＳＡＮ名オクチノキサート）との混合物であることを特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載の組成物。
7. 無機日焼け止め剤を前記組成物の総重量の０．５重量％未満、好ましくは０．２重量％未満含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
8. 前記重合体はニトロセルロースであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
9. 前記可塑剤は、ヒマシ油、小麦胚芽油、フタル酸ジブチル、グリセリン、セバシン酸ジブチル、クエン酸アセチルトリブチル、トリアセチン及びこれらの混合物から選択されるものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
10. 前記重合体の溶媒は、エタノール、酢酸エチル及びこれらの混合物から選択されるものであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
11. さらに、治癒促進剤、抗菌剤、防カビ剤、脱色剤、鎮痛剤、抗炎症剤、水和剤、角質溶解剤、ビタミン類、または、これらの化合物の混合物を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
12. 瘢痕保護用被覆剤として使用される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の組成物。