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本開示による表示装置は、対向する第1の基板及び第2の基板の間に液晶層を有する表示装置であって、前記第1基板は、第1電極と第2電極とを有し、前記第1電極は、第1の方向に延びる電極基部と、当該第1の方向と異なる第2の方向に延び、かつ互いにスリットにより一定距離を隔てて前記電極基部から櫛歯状に複数突出する櫛歯部とを含み、前記櫛歯部は、前記電極基部が上または下に積層された接続部を有し、前記液晶層の液晶の初期配向状態として、前記第2の方向と平行方向である第3の方向に前記液晶層の液晶分子の長軸が並び、前記第1電極及び前記第2電極に対して電圧が印加されていない場合、前記液晶分子の長軸が前記第3の方向に並んで配向しており、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加される場合、前記液晶分子の長軸方向は、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の近傍領域において回転方向が右回りに、かつ他方の近傍領域において回転方向が左回りに、前記第1基板の面内方向で回転しながら、前記第1基板に対して垂直な方向に立ち上がるように配向し、前記櫛歯部の長辺の前記電極基部側の部分と前記第3の方向とがなす角度は、前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記第3の方向とがなす角度より大きい。
本開示による望ましい態様として、前記第1の基板と前記液晶層との間には第1配向膜が設けられ、前記第2の基板と前記液晶層との間には第2配向膜が設けられ、前記第1配向膜は、前記第2の方向と平行方向である前記第3の方向に配向処理され、前記第2配向膜は、前記第3の方向と逆方向である第4の方向に配向処理される、ことが好ましい。
本開示による表示装置は、対向する第1の基板及び第2の基板の間に液晶層を有する表示装置であって、前記第1基板は、第1電極と第2電極とを有し、前記第1電極は、第1の方向に延びる電極基部と、当該第1の方向と異なる第2の方向に延び、かつ互いにスリットにより一定距離を隔てて前記電極基部から櫛歯状に複数突出する櫛歯部とを含み、前記櫛歯部は、前記電極基部が上または下に積層された接続部を有し、前記液晶層の液晶の初期配向状態として、前記第2の方向と直交方向である第3の方向に前記液晶層の液晶分子の長軸が並び、前記第1電極及び前記第2電極に対して電圧が印加されていない場合、前記液晶分子の長軸が前記第3の方向に並んで配向しており、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加される場合、前記液晶分子の長軸方向は、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の近傍領域において回転方向が右回りに、かつ他方の近傍領域において回転方向が左回りに、前記第1基板の面内方向で回転しながら、前記第1基板に対して垂直な方向に立ち上がるように配向し、前記櫛歯部の長辺の前記電極基部側の部分と前記第2の方向とがなす角度は、前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記第2の方向とがなす角度より大きい。
本開示による望ましい態様として、前記第1の基板と前記液晶層との間には第1配向膜が設けられ、前記第2の基板と前記液晶層との間には第2配向膜が設けられ、前記第1配向膜は、前記第2の方向と直交方向である第4の方向に配向処理され、前記第2配向膜は、前記第4の方向と逆方向である第5の方向に配向処理される、ことが好ましい。
2の方向とがなす角度より大きい。
<1.実施形態(表示装置)>
(実施形態1)
図1は、本実施形態に係る表示装置のシステム構成例を表すブロック図である。なお、表示装置1が本開示の「表示装置」の一具体例に相当する。
表示エリア部21は、液晶層を含む画素Vpixが、表示上の1画素を構成するユニットがM行×N列に配置されたマトリクス(行列状)構造を有している。なお、この明細書において、行とは、一方向に配列されるN個の画素Vpixを有する画素行をいう。また、列とは、前記一方向と直交する方向に配列されるM個の画素Vpixを有する画素列をいう。そして、MとNとの値は、垂直方向の表示解像度と水平方向の表示解像度に応じて定まる。表示エリア部21は、画素VpixのM行N列の配列に対して行毎に走査線24、24、24・・・24が配線され、列毎に信号線25、25、25・・・25が配線されている。以後、本実施形態においては、走査線24、24、24・・・24を代表して走査線24のように表記し、信号線25、25、25・・・25を代表して信号線25のように表記することがある。また、本実施形態においては、走査線24、24、24・・・24の任意の3本の走査線を、走査線24、24m+1、24m+2(ただし、mは、m≦M−2を満たす自然数)のように表記し、信号線25、25、25・・・25の任意の4本の信号線を、信号線25、25n+1、25n+2、25n+3(ただし、nは、n≦N−3を満たす自然数)のように表記する。
(ラビング方向)
上述した第1配向膜73aは、X方向に所定の初期配向性をもつように、図3及び図5に示すラビング方向Rub(第1ラビング方向)にラビング処理が施されている。第2配向膜73bは、第1配向膜73aのラビング方向Rubと反平行(第2ラビング方向)にラビング処理が施されている。第1配向膜73a及び第2配向膜73bは、ラビング方向が互いにアンチパラレルの関係となっている。上述したように、X方向に櫛歯部131aが延び、X方向で櫛歯部131aとは逆方向に櫛歯部131bが延びており、ラビング方向Rubは、櫛歯部131a又は櫛歯部131bの延びる方向と平行である。ここで平行とは、後述の図9に示す液晶分子の回転方向LCQが維持できる程度に平行であればよい。より具体的には、0度以上0.5度以下の製造誤差を含む。
上述したように図10に示すスリット領域Lsにおける液晶分子Lcmの長軸方向は、スリット領域Rsにおける液晶分子Lcmの長軸方向よりも、立ち上がりがしにくく応答性が劣る可能性がある。スリット領域Lsをスリット領域Rsよりも小さくするため、図13に示す櫛歯突出長さL1は、櫛歯部131aよりもラビング方向Rub下流側にある櫛歯部131bの櫛歯突出長さL2よりも小さくする。これにより、実施形態1に係る表示装置1は、応答速度を高めることができる。
製造装置は、対向基板(第2の基板)70Bのガラス基板7として透光性基板である、ガラス基板を用意する第2基板の準備工程を処理する。
製造装置は、ガラス基板7上に、カラーフィルタ、ブラックマトリクスの層を形成し、その上にオーバーコート層などを形成する。そして、製造装置は、オーバーコート層上であって、ポリイミド等の高分子材料にラビング方向Rubと反平行(逆方向)の処理が施された第2配向膜73bが形成される。以上のように、製造装置は、第2基板の製造工程を処理する。
このため、上述した第1配向膜73aは、X方向に所定の初期配向性をもつように、図2に示すラビング方向Rubにラビング処理が施されている。第2配向膜73bは、第1配向膜73aのラビング方向Rubと反平行にラビング処理が施されている。第1配向膜73a及び第2配向膜73bは、ラビング方向が互いにアンチパラレルの関係となっている。
このため、上述した第1配向膜73aは、X方向に所定の初期配向性をもつように、図2に示すラビング方向Rubにラビング処理が施されている。第2配向膜73bは、第1配向膜73aのラビング方向Rubと反平行にラビング処理が施されている。第1配向膜73a及び第2配向膜73bは、ラビング方向が互いにアンチパラレルの関係となっている。
このため、上述した第1配向膜73aは、X方向に所定の初期配向性をもつように、図2に示すラビング方向Rubにラビング処理が施されている。第2配向膜73bは、第1配向膜73aのラビング方向Rubと反平行にラビング処理が施されている。第1配向膜73a及び第2配向膜73bは、ラビング方向が互いにアンチパラレルの関係となっている。
図26に示すように、第1電極31は、導電材料のない領域であるスリットSにより、櫛歯状になっている。第1電極31は、Y方向に延びる電極基部132から複数突出する櫛歯部131を備えている。上述した実施形態1とは異なり、櫛歯部131は、電極基部132から延びる方向が一方向である、櫛歯部131cを含む。隣り合う櫛歯部131cは、互いに一定距離を隔てて、電極基部132から複数突出する。電極基部132には、X方向と逆方向に櫛歯部131cが延びている。電極基部132には、X方向に櫛歯部131cが延びるようにしてもよい。
上述した第1配向膜73aは、X方向に所定の初期配向性をもつように、図24及び図26に示すラビング方向Rubにラビング処理が施されている。第2配向膜73bは、第1配向膜73aのラビング方向Rubと反平行にラビング処理が施されている。第1配向膜73a及び第2配向膜73bは、ラビング方向が互いにアンチパラレルの関係となっている。
図29に示すように、接続部135近傍において、櫛歯部131の角部の上に電極基部132の成膜がしにくく、上層の厚みdが少なくなる傾向にある。厚みdが小さいと断線の可能性がでてくる。電極基部132が断線する場合、電極基部132に繋がる複数の櫛歯部131にも同時に断線の影響が生じる可能性がある。そこで、実施形態2に係る第1電極31は、図30及び図31に示す変形例のようにしてもよい。図30は、実施形態2に係る第1電極の変形例を詳細に説明するための模式図である。図31は、図30のJ1−J2線断面を示す模式図である。
電極基部132は、櫛歯部131cと同様に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透光性導電材料(透光性導電酸化物)とは異なる、金属材料で形成されることがより好ましい。金属材料は上述した材料を使用することができる。電極基部132が金属材料である場合、電極基部132の電気抵抗が下がり幅w2を細くできる。また、電極基部132が金属材料である場合、電極基部132を細くできるドライエッチング工程が適用しやすくなる。このため、電極基部132が金属材料である場合、細線化が容易になる。
第1電極31は、X方向に延びる電極基部132から複数突出する櫛歯部131を備えている。櫛歯部131は、電極基部132から延びる方向が一方向である櫛歯部131を含む。隣り合う櫛歯部131cは、互いに一定距離を隔てて、電極基部132から複数突出する。電極基部132には、Y方向に櫛歯部131cが延びている。電極基部132には、Y方向と逆方向に櫛歯部131cが延びるようにしてもよい。
実施形態2の変形例3に係る表示装置1は、第1電極31または第2電極32の一方が画素Vpix毎に区画された画素電極である。当該画素電極は、X方向及びY方向に行列状に配列されている。櫛歯部131dが延びている方向Rubfは、画素電極が行又は列に配列される方向と異なるようになっている。これにより、視認し易くするため、又は眼を保護するために、偏光サングラスを用いて実施形態2の変形例3に係る表示装置1の表示エリア部21をみても、偏光サングラスによって殆ど遮断されてしまい、コントラストが低下して表示が暗くなって見えにくくなる現象を抑制することができる。

Claims (17)

  1. 対向する第1の基板及び第2の基板の間に液晶層を有する表示装置であって、
    前記第1基板は、第1電極と第2電極とを有し、
    前記第1電極は、第1の方向に延びる電極基部と、当該第1の方向と異なる第2の方向に延び、かつ互いにスリットにより一定距離を隔てて前記電極基部から櫛歯状に複数突出する櫛歯部とを含み、前記櫛歯部は、前記電極基部が上または下に積層された接続部を有し、
    前記液晶層の液晶の初期配向状態として、前記第2の方向と平行方向である第3の方向に前記液晶層の液晶分子の長軸が並び、
    前記第1電極及び前記第2電極に対して電圧が印加されていない場合、前記液晶分子の長軸が前記第3の方向に並んで配向しており、
    前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加される場合、前記液晶分子の長軸方向は、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の近傍領域において回転方向が右回りに、かつ他方の近傍領域において回転方向が左回りに、前記第1基板の面内方向で回転しながら、前記第1基板に対して垂直な方向に立ち上がるように配向し、
    前記櫛歯部の長辺の前記電極基部側の部分と前記第3の方向とがなす角度は、前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記第3の方向とがなす角度より大きい、表示装置。
  2. 前記第1の基板と前記液晶層との間には第1配向膜が設けられ、前記第2の基板と前記液晶層との間には第2配向膜が設けられ
    前記第1配向膜は、前記第2の方向と平行方向である前記第3の方向に配向処理され、
    前記第2配向膜は、前記第3の方向と逆方向である第4の方向に配向処理される、請求項1に記載の表示装置。
  3. 対向する第1の基板及び第2の基板の間に液晶層を有する表示装置であって、
    前記第1基板は、第1電極と第2電極とを有し、
    前記第1電極は、第1の方向に延びる電極基部と、当該第1の方向と異なる第2の方向に延び、かつ互いにスリットにより一定距離を隔てて前記電極基部から櫛歯状に複数突出する櫛歯部とを含み、前記櫛歯部は、前記電極基部が上または下に積層された接続部を有し、
    前記液晶層の液晶の初期配向状態として、前記第2の方向と直交方向である第3の方向に前記液晶層の液晶分子の長軸が並び、
    前記第1電極及び前記第2電極に対して電圧が印加されていない場合、前記液晶分子の長軸が前記第3の方向に並んで配向しており、
    前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加される場合、前記液晶分子の長軸方向は、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の近傍領域において回転方向が右回りに、かつ他方の近傍領域において回転方向が左回りに、前記第1基板の面内方向で回転しながら、前記第1基板に対して垂直な方向に立ち上がるように配向し、
    前記櫛歯部の長辺の前記電極基部側の部分と前記第2の方向とがなす角度は、前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記第2の方向とがなす角度より大きい、表示装置。
  4. 前記第1の基板と前記液晶層との間には第1配向膜が設けられ、前記第2の基板と前記液晶層との間には第2配向膜が設けられ
    前記第1配向膜は、前記第2の方向と直交方向である第4の方向に配向処理され、
    前記第2配向膜は、前記第4の方向と逆方向である第5の方向に配向処理される、請求項3に記載の表示装置。
  5. 前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記第2の方向とは平行である、請求項1に記載の表示装置。
  6. 前記櫛歯部の先端は、当該櫛歯部の延在方向において対向する2つの前記櫛歯部間のスリット内にまで延在している、請求項1に記載の表示装置。
  7. 前記櫛歯部の長辺は、前記電極基部側の部分から先端側の部分まで連続する曲線である、請求項1に記載の表示装置。
  8. 前記櫛歯部の延在方向と前記第2の方向とがなす角度は、前記櫛歯部の長辺の先端側の部分と前記延在方向とがなす角度より小さい、請求項1に記載の表示装置。
  9. 前記櫛歯部の延在方向と前記第2の方向とがなす角度は、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の先端側の部分と前記延在方向とがなす角度と、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち他方の先端側の部分と前記延在方向とがなす角度と、の差の半分である、請求項8に記載の表示装置。
  10. 前記櫛歯部の延在方向と前記第2の方向とは平行であり、
    前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の先端側の部分と前記延在方向とがなす角度と、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち他方の先端側の部分と前記延在方向とがなす角度と、は等しく、
    前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の前記電極基部側の部分と前記延在方向とがなす角度と、前記スリットの幅方向で対向する前記櫛歯部の長辺のうち他方の前記電極基部側の部分と前記延在方向とがなす角度と、は等しい、請求項1に記載の表示装置。
  11. 前記液晶層は、前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加される場合、隣り合う前記櫛歯部間のスリットの幅方向において対向する前記櫛歯部の長辺のうち一方の近傍領域にある液晶分子と、前記対向する前記櫛歯部の長辺のうち他方の近傍領域にある液晶分子とが互いに逆方向に回転する、請求項1に記載の表示装置。
  12. 前記電極基部は、透光性導電材料で形成されている、請求項1に記載の表示装置。
  13. 前記電極基部は、金属材料で形成されている、請求項1に記載の表示装置。
  14. 前記櫛歯部は、透光性導電材料で形成されている、請求項1に記載の表示装置。
  15. 前記電極基部は、前記接続部よりも下層にある、請求項1に記載の表示装置。
  16. 請求項1に記載の表示装置と、
    前記表示装置に入力信号を供給する制御装置と、を有する電子機器。
  17. 請求項3に記載の表示装置と、
    前記表示装置に入力信号を供給する制御装置と、を有する電子機器。
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