JP2014221909A - ポリ(アリーレンエーテル)組成物、方法、及び物品 - Google Patents
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Abstract
Description
を有する繰り返し構造単位を含む。本明細書において用いる「ヒドロカルビル」という用語は、単独で用いられるにせよ、或いは他の用語の接頭辞、接尾辞、又は一部として用いられるにせよ、炭素及び水素のみを含む残基を指す。残基は、脂肪族又は芳香族で、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、又は不飽和であってよい。また、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、及び不飽和の複数の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。
の構造を有していてよい。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、例えばp−クロロスチレン、並びにメチルスチレン、例えばα−メチルスチレン及びp−メチルスチレンが挙げられる。幾つかの態様においては、アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
水素化ブロックコポリマーを製造する方法は当該技術において公知であり、多くの水素化ブロックコポリマーを商業的に入手することができる。代表的な商業的に入手できる水素化ブロックコポリマーとしては、Kraton PolymersからKraton G1701及びG1702として入手できるポリスチレン−ポリ(エチレン−プロピレン)ジブロックコポリマー;Kraton PolymersからKraton G1641、G1650、G1651、G1654、G1657、G1726、G4609、G4610、GRP-6598、RP-6924、MD-6932M、MD-6933、及びMD-6939として入手できるポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;Kraton PolymersからKraton RP-6935及びRP-6936として入手できるポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン−スチレン)−ポリスチレン(S−EB/S−S)トリブロックコポリマー;Kraton PolymersからKraton G1730として入手できるポリスチレン−ポリ(エチレン−プロピレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;Kraton PolymersからKraton G1901、G1924、及びMD-6684として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;Kraton PolymersからKraton MD-6670として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン−スチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;AK ElastomerからTUFTEC H1043として入手できる67重量%のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;AK ElastomerからTUFTEC H1051として入手できる42重量%のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;AK ElastomerからTUFTEC P1000及びP2000として入手できるポリスチレン−ポリ(ブタジエン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;AK ElastomerからS.O.E.-SS L601として入手できるポリスチレン−ポリブタジエン−ポリ(スチレン−ブタジエン)−ポリブタジエンブロックコポリマー;Chevron Phillips Chemical CompanyからK-Resin KK38、KR01、KR03、及びKR05として入手できる水素化放射状ブロックコポリマー;KurarayからSEPTON S8104として入手できる約60重量のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;KurarayからSEPTON S4044、S4055、S4077、及びS4099として入手できるポリスチレン−ポリ(エチレン−エチレン/プロピレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;及びKurarayからSEPTON S2104として入手できる約65重量%のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ(エチレン−プロピレン)−ポリスチレントリブロックコポリマー;が挙げられる。2種類以上の水素化ブロックコポリマーの混合物を用いることができる。
の構造を有するものが挙げられる。代表例としては、トリフェニルホスフェート、トリトリルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、ブチル化トリフェニルホスフェートなどが挙げられる。トリアリールホスフェートとしては、更に、2つ以上のジアリールホスフェート基がそれぞれ連結基の1つ以上のアリール部分と結合している分子が挙げられる。代表例としては、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)(「RDP」;CAS Reg. No. 57583-54-7;リン酸1,3−フェニレンテトラフェニルエステル)及びビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)(「BPADP」;CAS Reg. No. 5945-33-5;リン酸(1−メチルエチリデン)ジ−4,1−フェニレンテトラフェニルエステル)が挙げられる。幾つかの態様においては、トリアリールホスフェートはハロゲンを含まない。他の態様においては、トリアリールホスフェートは1つ以上のハロゲン置換基を含む。
の構造を有するものが挙げられる。
ベンゾトリアゾールタイプのUV吸収剤としては、次式:
の構造を有するものが挙げられる。特定の代表的なベンゾトリアゾールタイプのUV吸収剤は、2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール:CAS Reg. No. 3147-75-9である。
の構造を有するものが挙げられる。幾つかの態様においては、ヒンダードアミン光安定剤はビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート:CAS Reg. No. 52829-07-9である。
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
本組成物には、場合によって光学増白剤を更に含ませることができる。好適な光学増白剤は当該技術において公知であり、例えば、CibaからUVITEX OBとして入手できる光学増白剤、及びEastman Chemical CompanyからEASTOBRITE OB-1として入手できる光学増白剤が挙げられる。
本発明は、上記記載の任意の組成物を用いて電線を絶縁する方法を包含する。ここで用いる「電線」とは、検出可能な電気信号を伝導することができる導体を含む線材である。したがって、一態様は、約10〜約45重量%のポリ(アリーレンエーテル);約9〜約80重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;約8〜約25重量%の可塑剤;約1〜約12重量%の白色顔料;及び約0.1〜約5重量%の紫外線安定剤;を含み;ここで、水素化ブロックコポリマーとポリ(アリーレンエーテル)とは約0.3〜約4の重量比で存在し;組成物は20重量%以下のラバー変性ポリスチレンを含み;組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず;全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;組成物は、ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及びASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔE;を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
以下の実施例は、ポリ(アリーレンエーテル)、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、白色顔料、及び紫外線安定剤を含むブレンドによって示される優れた色安定性を示す。
ここで、
ΔL*=L1 *−L2 *
Δa*=a1 *−a2 *
Δb*=b1 *−b2 *
であり、L1 *、a1 *、及びb1 *は、それぞれ、試験に曝露する前の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標であり、L2 *、a2 *、及びb2 *は、それぞれ、試験に曝露した後の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標である。
以下の比較例は、水素化ブロックコポリマーの代わりに耐衝撃性ポリスチレン(HIPS:ラバー変性ポリスチレン)を用いるブレンドは上記の実施例1〜11に関して示したものよりも著しく劣る色安定性を示すことを示す。
また表2は、100〜300時間のキセノンアーク照射後のΔE値も示す。300時間の曝露後のΔE値は全ての試料に関して11.2〜30.7の範囲であり、これは全て1.5未満であった上記の実施例1〜11に関する値よりも非常に大きいことに注意されたい。
以下の比較例は、耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)を用いるブレンドは、水素化ブロックコポリマーを用いるブレンドと比較して著しく劣った色安定性を示すことを更に示す。
本実施例は、トリアリールホスフェートの濃度が8重量%未満である場合に色安定性が悪化し始めることを示す。
組成、及びキセノンアーク照射時間の関数としてのΔE値を表4に示す。この試料に関しては、水酸化マグネシウムはMartin Marietta Magnesia SpecialtiesからMagshield UFとして得た。メラミンピロホスフェートをBudenheim Iberica Comercial S.A.からBudit 311 MPPとして得た(表4において「メラミンピロホスフェート」)。他の成分は上記に記載した通りである。
これらの実施例は、組成物の可撓性及びUV安定性に対するポリ(アリーレンエーテル)の濃度の効果を示す。
ショアA硬度は、ASTM−D2240−05にしたがって、OS-2H操作スタンドを有するRex Model DD-3-Aデジタルデュロメーターを用いて25℃において測定した。
これらの実施例は、UV安定性及び物理特性に対するポリブテン濃度の効果を示す。
組成を表6に詳細に示す。13重量%のポリスチレン含量、及び230℃において5kgの力を用いて測定して22g/10分のメルトフローを有するポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーを、Kraton PolymersからKraton G1657Mとして得た(表6において「SEBS-K1657M」)。
これらの実施例は、UV安定性及び物理特性に対するSEBS/EPR/MO、ポリブテン、SEBS、及びメラミンピロホスフェートの濃度における変動の効果を示す。
これらの実施例及び比較例は、水素化ブロックコポリマーのタイプを変動させ、及び水素化ブロックコポリマーをHIPSに部分的に置き換えることを示す。
表8における結果は、本発明の組成物のUV安定性の有利性は水素化ブロックコポリマーのポリ(アルケニル芳香族化合物)含量における変動に対して安定していることを示す。HIPSの添加並びにブロックコポリマーのタイプ及び量の効果を明確に解明することは可能でないが、実施例28及び比較例22〜26に関する結果は、20%より大きいHIPSの濃度はUV安定性に対して実質的な悪影響を与える可能性があることを示唆する。
これらの実施例は、水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレン、並びにトリアリールホスフェートの存在及び不存在の効果を示す。
表9における「樹脂の色」は視認検査によって評価した。
ラバー変性ポリスチレン(HIPS)を含むが水素化ブロックコポリマーを含まない比較例27及び28に関する結果は、試料が300時間のキセノンアーク照射を示す後にそれぞれ5.0及び14.8のΔE値によって示されるような劣ったUV安定性を示したことを示す。更に、比較例28は初めは所望の白色よりもむしろ灰色であった。水素化ブロックコポリマーを含むがトリアリールホスフェートを含まない比較例5は劣ったUV安定性を示す。水素化ブロックコポリマー及びトリアリールホスフェートの両方を含む実施例26は、所望の初期の白色及び優れたUV安定性を示す。
これらの実施例は、ポリ(アリーレンエーテル)、水素化ブロックコポリマー、SEBS/EPR/MO、トリアリールホスフェート、及びポリブテンの濃度を変動させることの効果、並びにトリアリールホスフェートを含まない組成物における水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレンの効果を示す。
CIE明度値L*、並びに300及び500時間のキセノンアーク照射後のΔE値を表10に示す。全ての組成物は同等の明度値を有していた。種々の比較により、同等の重量部の他の成分を含む組成物におけるトリアリールホスフェート:BPADPの存在に関係するUV安定性の大きな向上が示される:比較例31(BPADP無し;300時間でのΔE=11.5;500時間でのΔE=11.9)対実施例30(BPADP有り;300時間でのΔE=0.9;500時間でのΔE=0.6);比較例32(BPADP無し;300時間でのΔE=11.0;500時間でのΔE=11.7)対実施例31(BPADP有り;300時間でのΔE=0.8;500時間でのΔE=0.5);比較例33(BPADP無し;300時間でのΔE=11.1;500時間でのΔE=12.0)対実施例32(BPADP有り;300時間でのΔE=1.1;500時間でのΔE=0.6);比較例35(BPADP無し;300時間でのΔE=17.4;500時間でのΔE=17.3)対実施例35(BPADP有り;300時間でのΔE=0.5;500時間でのΔE=1.5);比較例36(BPADP無し;300時間でのΔE=15.9;500時間でのΔE=16.7)対実施例36(BPADP有り;300時間でのΔE=0.8;500時間でのΔE=1.6)。
これらの実施例は、本組成物の優れたUV安定性、並びに物理的、電気的、及び難燃特性を更に示す。
比誘電率は、ASTM−D150−98(2004):「固体電気絶縁材のAC損失特性及び誘電率(誘電定数)に関する標準的な試験法」にしたがって測定した。試料の形状は、3mmの厚さを有する引張り試験棒状試料であった。試料の両側上において試験固定電極と良好な接触を与えるように試料の表面は平坦でなければならない。試料を85℃において2時間乾燥した。乾燥後、試料を試験前に23℃の室温及び50%の相対湿度において24時間コンディショニングした。測定回路は、Hewlett Packardによって製造されたAgilent 4291B RF Impedance/Materials Analyzerであり、用いた典型周波数は60ヘルツ、1メガヘルツ、及び100メガヘルツであった。
これらの実施例は、本発明のUV安定化の有利性がポリオレフィンを含む組成物にも拡張されることを更に示す。
これらの実施例は、本発明のUV安定性の有利性がエチレン/α−オレフィンコポリマーを含む組成物にも拡張されることを示す。
これらの実施例は、難燃剤のタイプ及び量における変動の効果を示す。実施例43及び44においては、難燃剤はメラミンポリホスフェートとビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)の組み合わせであり;2つの試料はビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)の量において僅かに異なる。実施例43及び44は、NagaseからNUCG5381として得られる線状低密度ポリエチレン(表14において「LLDPE-3」)も含む。実施例45〜48は線状低密度ポリエチレンを含まない。実施例45及び46においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)の組み合わせである。実施例47及び48においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びレゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)の組み合わせである。
発明の説明に関連して(特に特許請求の範囲に関連して)用語「a」、及び「an」、及び「the」、及び同様の指示詞を用いることは、本明細書において他に示すか又は記載によって明確に反しない限りにおいて、単数及び複数の両方を包含すると解釈すべきである。更に、本明細書における「第1」、「第2」などの用語は、順番、量、又は重要性を示すものではなく、1つの要素を他から区別するために用いるものであることを注意すべきである。量に関して用いる修飾語「約」は、示した値を包含するものであり、文脈によって定まる意味を有する(例えば、特定の量の測定値に関係する誤差の程度を包含する)。
[発明の態様]
[1]
10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を含み;
組成物は20重量%以下のラバー変性ポリスチレンを含み;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔE;
を示す組成物。
[2]
少なくとも80の値のCIE明度値L*を示す、1に記載の組成物。
[3]
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に500時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔEを示す、1又は2に記載の組成物。
[4]
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に1000時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔEを示す、1〜3のいずれかに記載の組成物。
[5]
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して300MPa以下の曲げ弾性率を示す、1〜4のいずれかに記載の組成物。
[6]
ASTM−D638にしたがって測定して100%以上の23℃における引張り伸びを示す、1〜5のいずれかに記載の組成物。
[7]
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーである、1〜6のいずれかに記載の組成物。
[8]
水素化ブロックコポリマーの少なくとも一部が、水素化ブロックコポリマー、エチレン−プロピレンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えられる、1〜7のいずれかに記載の組成物。
[9]
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンである、1〜8のいずれかに記載の組成物。
[10]
可塑剤が、安息香酸エステル、ペンタエリトリトールエステル、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、ピロメリット酸エステル、トリアリールホスフェート、及びこれらの混合物からなる群から選択される、1〜9のいずれかに記載の組成物。
[11]
可塑剤がトリアリールホスフェートである、1〜10のいずれかに記載の組成物。
[12]
可塑剤がビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)である、1〜11のいずれかに記載の組成物。
[13]
白色顔料が、硫化亜鉛、二酸化チタン、又はこれらの混合物である、1〜12のいずれかに記載の組成物。
[14]
紫外線安定剤が、ベンゾフェノンUV吸収剤、ベンゾトリアゾールUV吸収剤、ヒンダードアミン光安定剤、シンナメートUV吸収剤、オキサニリドUV吸収剤、2−(2’−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンUV吸収剤、ベンゾオキサジノンタイプのUV吸収剤、及びこれらの混合物からなる群から選択されるUV吸収剤である、1〜13のいずれかに記載の組成物。
[15]
紫外線安定剤が脂環式エポキシ化合物を更に含む、14に記載の組成物。
[16]
ポリブテンを更に含む、1〜15のいずれかに記載の組成物。
[17]
ポリブテンが700〜1,000原子質量単位の数平均分子量を有する、16に記載の組成物。
[18]
1〜30重量%のポリエチレンホモポリマー、ポリプロピレンホモポリマー、又はこれらの混合物を更に含む、1〜17のいずれかに記載の組成物。
[19]
組成物がポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを含まない、1〜17のいずれかに記載の組成物。
[20]
2〜20重量%の鉱油を更に含む、1〜19のいずれかに記載の組成物。
[21]
水酸化マグネシウム、メラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される難燃剤を更に含む、1〜20のいずれかに記載の組成物。
[22]
水酸化マグネシウム及びメラミンポリホスフェートを含む難燃剤を更に含み、3.2mmの厚さにおいてV−0のUL94等級を示す、1〜21のいずれかに記載の組成物。
[23]
水酸化マグネシウム及びメラミンポリホスフェートを含む難燃剤を更に含み、3.2mmの厚さにおいてV−1のUL94等級を示す、1〜21のいずれかに記載の組成物。
[24]
ポリ(アリーレンエーテル)を含む分散相及びエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーを含む連続相を含む、1〜23のいずれかに記載の組成物。
[25]
組成物が25〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル)を含み;
ポリ(アリーレンエーテル)がポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)であり;
組成物が20〜35重量%の水素化ブロックコポリマーを含み;
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーであり;
組成物が10〜30重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーを含み;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり;
組成物が2〜10重量%のポリブテンを更に含み;
組成物が8〜25重量%のビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物を更に含み;
組成物が4〜10重量%の水酸化マグネシウム更に含み;
組成物が4〜11重量%のメラミンポリホスフェートを更に含み;
組成物が2〜6重量%の白色顔料を含み;
白色顔料が二酸化チタンであり;
紫外線安定剤が、
0.1〜0.6重量%の脂環式エポキシ樹脂;
0.3〜0.7重量%のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び
0.6〜1.5重量%のビス(ピペリジニル)セバケート;
を含み;
組成物が、
80〜90の値のCIE明度値L*;
−1.5〜0.5のCIEa*値;
−2.5〜1.5のCIEb*値;
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2のCIELAB色シフトΔE;及び
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して50〜100MPaの曲げ弾性率;
を示す、1に記載の組成物。
[26]
組成物がASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に500時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2の色シフトΔEを示す、25に記載の組成物。
[27]
組成物がASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に1,000時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2の色シフトΔEを示す、25又は26に記載の組成物。
[28]
10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって、
ここで、組成物は20重量%以下のラバー変性ポリスチレンを含み;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIE色シフトΔE;
を示す上記方法。
[29]
ポリ(アリーレンエーテル)及び可塑剤を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、28に記載の方法。
[30]
ポリ(アリーレンエーテル)、可塑剤、及び紫外線安定剤を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、28又は29に記載の方法。
[31]
ポリ(アリーレンエーテル)の量が25〜45重量%であり;
ポリ(アリーレンエーテル)がポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)であり;
水素化ブロックコポリマーの量が20〜35重量%であり;
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーであり;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーの量が10〜30重量%であり;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり;
組成物が2〜10重量%のポリブテンを更に含み;
組成物が8〜25重量%のビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物を更に含み;
組成物が4〜10重量%の水酸化マグネシウムを更に含み;
組成物が4〜11重量%のメラミンポリホスフェートを更に含み;
白色顔料の量が2〜6重量%であり;
白色顔料が二酸化チタンであり;
紫外線安定剤が、
0.1〜0.6重量%の脂環式エポキシ樹脂;
0.3〜0.7重量%のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び
0.6〜1.5重量%のビス(ピペリジニル)セバケート;
を含み;
組成物は、
80〜90の値のCIE明度値L*;
−1.5〜0.5のCIEa*値;
−2.5〜1.5のCIEb*値;
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2のCIELAB色シフトΔE;及び
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して50〜100MPaの曲げ弾性率;
を示す、28に記載の方法。
[32]
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル);及び
ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物;
を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、31に記載の方法。
[33]
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル);
ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物;
脂環式エポキシ樹脂;
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び
ビス(ピペリジニル)セバケートを、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、31に記載の方法。
[34]
10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を含み;
組成物は20重量%以下のラバー変性ポリスチレンを含み;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔE;
を示す組成物を含む物品。
[35]
ケーブル絶縁材である、34に記載の物品。
[36]
組成物が25〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル)を含み;
ポリ(アリーレンエーテル)がポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)であり;
組成物が20〜35重量%の水素化ブロックコポリマーを含み;
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーであり;
組成物が10〜30重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーを含み;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり;
組成物が2〜10重量%のポリブテンを更に含み;
組成物が8〜25重量%のビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物を更に含み;
組成物が4〜10重量%の水酸化マグネシウム更に含み;
組成物が4〜11重量%のメラミンポリホスフェートを更に含み;
組成物が2〜6重量%の白色顔料を含み;
白色顔料が二酸化チタンであり;
紫外線安定剤が、
0.1〜0.6重量%の脂環式エポキシ樹脂;
0.3〜0.7重量%のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び
0.6〜1.5重量%のビス(ピペリジニル)セバケート;
を含み;
組成物が、
80〜90の値のCIE明度値L*;
−1.5〜0.5のCIEa*値;
−2.5〜1.5のCIEb*値;
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2のCIELAB色シフトΔE;及び
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して50〜100MPaの曲げ弾性率;
を示す、34に記載の物品。
[37]
ケーブル絶縁材である、36に記載の物品。
[38]
10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を含み;
組成物は20重量%以下のラバー変性ポリスチレンを含み;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIE色シフトΔE;
を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法。
[39]
ポリ(アリーレンエーテル)の量が25〜45重量%であり;
ポリ(アリーレンエーテル)がポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)であり;
水素化ブロックコポリマーの量が20〜35重量%であり;
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーであり;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーの量が10〜30重量%であり;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり;
組成物が2〜10重量%のポリブテンを更に含み;
組成物が8〜25重量%のビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、又はこれらの混合物を更に含み;
組成物が4〜10重量%の水酸化マグネシウム更に含み;
組成物が4〜11重量%のメラミンポリホスフェートを更に含み;
白色顔料の量が2〜6重量%であり;
白色顔料が二酸化チタンであり;
紫外線安定剤が、
0.1〜0.6重量%の脂環式エポキシ樹脂;
0.3〜0.7重量%のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び
0.6〜1.5重量%のビス(ピペリジニル)セバケート;
を含み;
組成物が、
80〜90の値のCIE明度値L*;
−1.5〜0.5のCIEa*値;
−2.5〜1.5のCIEb*値;
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2のCIELAB色シフトΔE;及び
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して50〜100MPaの曲げ弾性率;
を示す、38に記載の方法。
Claims (10)
- 10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤、ここで可塑剤はビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)を含む;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を含み、
組成物にはラバー変性ポリスチレンは意図的に加えられておらず;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔE;
を示す組成物。 - ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に1000時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIELAB色シフトΔEを示す、請求項1に記載の組成物。
- ASTM−D790にしたがって23℃において測定して300MPa以下の曲げ弾性率を示す、請求項1又は請求項2に記載の組成物。
- 水素化ブロックコポリマーの少なくとも一部が、水素化ブロックコポリマー、エチレン−プロピレンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えられる、請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
- ポリブテンを更に含む、請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。
- 水酸化マグネシウム、メラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される難燃剤を更に含む、請求項1〜5のいずれかに記載の組成物。
- ポリ(アリーレンエーテル)が25〜45重量%で存在し;
ポリ(アリーレンエーテル)がポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)であり;
水素化ブロックコポリマーが20〜35重量%で存在し;
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレントリブロックコポリマーであり;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが10〜30重量%で存在し;
エチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり;
可塑剤が8〜25重量%で存在し;
可塑剤がビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェートであり;
顔料が2〜6重量%で存在し;
顔料が二酸化チタンであり;
紫外線安定剤が、0.1〜0.6重量%の脂環式エポキシ樹脂;0.3〜0.7重量%のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール;及び0.6〜1.5重量%のビス(ピペリジニル)セバケート;を含み;
2〜10重量%のポリブテンを更に含み;
4〜10重量%の水酸化マグネシウムを更に含み;
4〜11重量%のメラミンポリホスフェートを更に含み;
組成物が、
80〜90の値のCIE明度値L*;
−1.5〜0.5のCIEa*値;
−2.5〜1.5のCIEb*値;
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して0.1〜2のCIELAB色シフトΔE;及び
ASTM−D790にしたがって23℃において測定して50〜100MPaの曲げ弾性率;
を示す、請求項1〜6のいずれかに記載の組成物。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の組成物を含むケーブル絶縁材。
- 10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤、ここで可塑剤はビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)を含む;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって、
ここで組成物にはラバー変性ポリスチレンは意図的に加えらておらず;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIE色シフトΔE;
を示す上記方法。 - 10〜45重量%のポリ(アリーレンエーテル);
5〜40重量%のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー;
10〜55重量%のエチレンとC3〜C12−α−オレフィンとのコポリマー;
8〜25重量%の可塑剤、ここで可塑剤はビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)を含む;
1〜12重量%の白色顔料;及び
0.1〜5重量%の紫外線安定剤;
を含み、
組成物には20重量%以下のラバー変性ポリスチレンは意図的に加えられておらず;
全ての重量%は組成物の全重量を基準とするものであり;
組成物は、
ASTM−D2244にしたがって測定して少なくとも70の値のCIE明度値L*;及び
ASTM−D4459にしたがってキセノンアーク照射に300時間曝露した後にASTM−D2244にしたがって測定して3以下のCIE色シフトΔE;
を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法。
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