JP2010520329A - ポリ（アリーレンエーテル）組成物、方法、及び物品 - Google Patents
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Abstract
本熱可塑性組成物は、特定量のポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、エチレンとα−オレフィンとのコポリマー、可塑剤、白色顔料、及び紫外線安定剤を含む。本組成物は優れた光安定性を示し、白色又は灰白色のケーブル絶縁材を形成するのに特に有用である。
【選択図】 なし
【選択図】 なし
Description
本発明はポリ（アリーレンエーテル）組成物に関する。
ポリ（アリーレンエーテル）樹脂は、その優れた耐水性、寸法安定性、及び固有の難燃性で知られている１つのタイプのプラスチックである。広範囲の消費者製品、例えば、衛生設備、電気ボックス、自動車部品、並びに電線及びケーブル用の絶縁材の要求を満足させるために、それを種々の他のプラスチックとブレンドすることによって、強度、剛性、耐化学薬品性、及び耐熱性のような特性を調整することができる。
ポリ（塩化ビニル）は、現在、難燃性の電線及びケーブルの絶縁材用の商業的に優勢な材料である。しかしながら、ポリ（塩化ビニル）はハロゲン化材料である。ハロゲン化材料の環境影響に対する懸念が増加しており、非ハロゲン化代替物が求められている。したがって、ポリ（塩化ビニル）を非ハロゲン化ポリマー組成物に置き換える強い要望（及び幾つかの場所においては法的命令）が存在する。白色の小型装置及び個人用電気器具の大衆性を考えると、光化学経時劣化後にその色を保持する白色又は灰白色のケーブル絶縁材組成物に対する特段の必要性も存在する。
最近の研究で、ハロゲンを含まないポリ（アリーレンエーテル）組成物は電線及びケーブルの絶縁材として用いるために必要な物理特性及び難燃特性を有することができることが示された。例えば、Mhetarらの米国特許出願公開ＵＳ２００６／１３１０５０−Ａ１及びＵＳ２００６／１３１０５２−Ａ１及びＵＳ２００６／１３５６６１−Ａ１；KuboらのＵＳ２００６／１３１０５３−Ａ１及びＵＳ２００６／１３４４１６−Ａ１；XuらのＵＳ２００６／１３１０５９−Ａ１；及びGuoらのＵＳ２００６／１３５６９５−Ａ１を参照。しかしながら、これらの参照文献において開示されている組成物は、白色又は灰白色に配合するのが困難であるか、或いは不十分な熱又は光化学色安定性を示すか、或いは両方を示す。また、ポリ（アリーレンエーテル）を含む組成物の光化学黄変の問題は長い間知られているが、この問題に対する現在の解決法は白色及び灰白色の電線及びケーブルの絶縁材に関しては効果的でないか又は実用的でない。例えば１つのアプローチにおいては、光漂白性染料を含ませることによってポリ（アリーレンエーテル）の光化学黄変を補償する。例えば、Lohmeijerの米国特許４，４９３，９１５及び４，５５１，４９４を参照。光漂白性染料の存在は所望の白色又は灰白色とは適合しないので、このアプローチは白色及び灰白色のポリ（アリーレンエーテル）組成物においては有効でない。他のアプローチにおいては、ポリフェニレンエーテル及び第２の樹脂を含む物品の表面を溶媒で処理して、物品の表面からポリフェニレンエーテルを選択的に除去する。例えば、van der Meerの米国特許５，０５５，４９４を参照。このアプローチは、溶媒処理する必要がある大きな表面積のために電線及びケーブルの絶縁材に関しては実用的でない。
したがって、電線及びケーブルの絶縁材のために必要な物理特性及び難燃特性を示し、更に長時間の光曝露後の色安定性を示す白色及び灰白色のポリ（アリーレンエーテル）組成物に対する必要性が未だ存在する。
上記に記載の欠点及び他の欠点は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；を示す組成物によって解決される。
他の態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物である。
他の態様は、約１０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって、ここで組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；を示す上記方法である。
他の態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、又はレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、或いはこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す上記方法である。
他の態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む電線の絶縁方法である。
他の態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、又はレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、或いはこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
本組成物を含む物品、特に本組成物を含むケーブル絶縁材を含む他の態様を以下に詳細に説明する。
本発明者らは、実質的に向上した光安定性を有する白色及び灰白色の組成物を求めて可撓性ポリ（アリーレンエーテル）組成物に関する研究を行った。この研究の着手時においては、ポリ（アリーレンエーテル）、並びにポリスチレン、ポリアミド、及びポリオレフィンホモポリマーとのそれらのブレンドは劣った光安定性を示すことが知られていた。具体的には、ポリ（アリーレンエーテル）は紫外光（ＵＶ）及び可視光、例えば蛍光灯に曝露すると黄変することが知られていた。本発明者らは、まずポリ（アリーレンエーテル）及びラバー変性ポリスチレンを含む可撓性ブレンドに焦点を当てた。ＵＶ安定化添加剤を含ませることによってこれらのブレンドのＵＶ安定性を向上させることができたが、得られた組成物は不十分な初期明度又は不十分なＵＶ安定性のいずれかを示した。ポリ（アリーレンエーテル）及び水素化ブロックコポリマーを含むブレンドはしばしば許容できる初期明度を示したが、これらのＵＶ安定性はしばしばポリ（アリーレンエーテル）／ラバー変性ポリスチレンブレンドのものよりも劣っていた。次に本発明者らは、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、ポリ（アリーレンエーテル）用の可塑剤、及びＵＶ安定化添加剤をそれぞれ特定の量で含む組成物がＵＶ安定性において予期しなかった実質的な向上を与えたことを思いがけなく見出した。以下の実施例において示されるように、このＵＶ安定性の有利性は、水素化ブロックコポリマーに代えて耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）のような他の耐衝撃性改良剤を用いるか、或いは可塑剤を省くと損なわれる。したがって、ＵＶ安定化添加剤の有効性を増加させるポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、及び可塑剤の間の３元相互作用が存在すると思われる。この複数成分の複雑な相互作用は予期しなかったことであり、ここで特許請求する特定の成分量を有する明色の可撓性ポリ（アリーレンエーテル）組成物に関して新規なＵＶ安定性を与える。特に、可撓性ポリ（アリーレンエーテル）組成物は、少なくとも７０の値の初期ＣＩＥ明度値Ｌ*、及びキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥを示す。本発明者らは更に、驚くべきことに、上記に記載した態様の水素化ブロックコポリマーの一部に代えてエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーを用いる組成物において同様のＵＶ安定化効果が観察されることを見出した。これらの発見は、白色及び灰白色の電線及びケーブルの絶縁材のためにポリ（塩化ビニル）に代えて可撓性のポリ（アリーレンエーテル）組成物を用いることを可能にするので、非常に大きな前進を示す。
したがって、一態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約９〜約８０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）とは約０．３〜約４の重量比で存在し；組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；を示す組成物である。
他の態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；を示す組成物である。
本組成物はポリ（アリーレンエーテル）を含む。幾つかの態様においては、ポリ（アリーレンエーテル）は、次式：
（式中、それぞれの構造単位に関して、それぞれのＺ1は、独立して、ハロゲン、非置換又は置換Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビル（但し、ヒドロカルビル基はｔｅｒｔ−ヒドロカルビルではない）、Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビルチオ（即ち、（Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビル）Ｓ−）、Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビルオキシ、又はＣ2〜Ｃ12ハロヒドロカルビルオキシであり、ここでハロゲンと酸素原子とは少なくとも２つの炭素原子によって隔てられており；それぞれのＺ2は、独立して、水素、ハロゲン、非置換又は置換Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビル（但し、ヒドロカルビル基はｔｅｒｔ−ヒドロカルビルではない）、Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビルチオ、Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビルオキシ、又はＣ2〜Ｃ12ハロヒドロカルビルオキシであり、ここでハロゲンと酸素原子とは少なくとも２つの炭素原子によって隔てられている）
を有する繰り返し構造単位を含む。本明細書において用いる「ヒドロカルビル」という用語は、単独で用いられるにせよ、或いは他の用語の接頭辞、接尾辞、又は一部として用いられるにせよ、炭素及び水素のみを含む残基を指す。残基は、脂肪族又は芳香族で、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、又は不飽和であってよい。また、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、及び不飽和の複数の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。
を有する繰り返し構造単位を含む。本明細書において用いる「ヒドロカルビル」という用語は、単独で用いられるにせよ、或いは他の用語の接頭辞、接尾辞、又は一部として用いられるにせよ、炭素及び水素のみを含む残基を指す。残基は、脂肪族又は芳香族で、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、又は不飽和であってよい。また、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分岐、飽和、及び不飽和の複数の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。
幾つかの態様においては、ポリ（アリーレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、又はこれらの組み合わせを含む。
ポリ（アリーレンエーテル）は、典型的にはヒドロキシ基に対してオルト位に位置する１つ又は複数のアミノアルキル含有末端基を有する分子を含んでいてよい。また、典型的にはテトラメチルジフェノキノン副生成物がその中に存在する２，６−ジメチルフェノール含有反応混合物から得られるテトラメチルジフェノキノン（ＴＭＤＱ）末端基もしばしば存在する。ポリ（アリーレンエーテル）は、ホモポリマー、コポリマー、グラフトコポリマー、イオノマー、又はブロックコポリマー、並びに上記の少なくとも１つを含む組み合わせの形態であってよい。
ポリ（アリーレンエーテル）は、単分散ポリスチレン標準試料、４０℃のスチレンジビニルベンゼンゲル、及びクロロホルム１ｍＬあたり１ｍｇの濃度を有する試料を用いるゲル透過クロマトグラフィーによって測定して、約３，０００〜約４０，０００原子質量単位（ＡＭＵ）の数平均分子量及び約５，０００〜約８０，０００ＡＭＵの重量平均分子量を有していてよい。ポリ（アリーレンエーテル）は、クロロホルム中２５℃において測定して約０．０５〜約１．０ｄＬ／ｇ、具体的には約０．１〜約０．８ｄＬ／ｇ、より具体的には約０．２〜約０．６ｄＬ／ｇ、更により具体的には約０．３〜約０．６ｄＬ／ｇの固有粘度を有していてよい。当業者は、ポリ（アリーレンエーテル）の固有粘度は溶融混練によって３０％以下増加する可能性があることを理解している。０．０５〜約１．０ｄＬ／ｇの上記の固有粘度の範囲は、溶融混練して組成物を形成する前及び後の両方の固有粘度を包含するように意図される。異なる固有粘度を有する複数のポリ（アリーレンエーテル）樹脂のブレンドを用いることができる。
本組成物は、組成物の全重量を基準として約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）を含む。この範囲内において、ポリ（アリーレンエーテル）の量は、具体的には約１５〜約４０重量％、より具体的には約１８〜約３６重量％、更により具体的には約２１〜約３０重量％、更により具体的には約２１〜約２５重量％であってよい。
ポリ（アリーレンエーテル）に加えて、本組成物はアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーを含む。簡潔にするために、この成分をここでは「水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。水素化ブロックコポリマーは、約１０〜約９０重量％のポリ（アルケニル芳香族化合物）含量及び約９０〜約１０重量％の水素化ポリ（共役ジエン）含量を有していてよい。幾つかの態様においては、ポリ（アルケニル芳香族化合物）含量は、約１０〜４５重量％、具体的には約２０〜約４０重量％である。他の態様においては、ポリ（アルケニル芳香族化合物）含量は、４５重量％より大きく約９０重量％以下、具体的には約５５〜約８０重量％である。水素化ブロックコポリマーは、約４０，０００〜約４００，０００原子質量単位の重量平均分子量を有していてよい。ポリ（アリーレンエーテル）成分に関しては、数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィーによって測定することができ、ポリスチレン標準試料との比較に基づく。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは、２００，０００〜約４００，０００原子質量単位、具体的には２２０，０００〜約３５０，０００原子質量単位の重量平均分子量を有する。他の態様においては、水素化ブロックコポリマーは、約４０，０００乃至２００，０００原子質量単位未満、具体的には約４０，０００〜約１８０，０００原子質量単位、より具体的には約４０，０００〜約１５０，０００原子質量単位の重量平均分子量を有していてよい。
水素化ブロックコポリマーを製造するのに用いるアルケニル芳香族モノマーは、次式：
（式中、Ｒ20及びＲ21は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、又はＣ2〜Ｃ8アルケニル基を表し；Ｒ22及びＲ26は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、塩素原子、又は臭素原子を表し；Ｒ23、Ｒ24、及びＲ25は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、又はＣ2〜Ｃ8アルケニル基を表し、或いは、Ｒ23及びＲ24は中心芳香環と一緒にナフチル基を形成するか、或いはＲ24及びＲ25は、中心芳香環と一緒にナフチル基を形成する）
の構造を有していてよい。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、例えばｐ−クロロスチレン、並びにメチルスチレン、例えばα−メチルスチレン及びｐ−メチルスチレンが挙げられる。幾つかの態様においては、アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
の構造を有していてよい。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、例えばｐ−クロロスチレン、並びにメチルスチレン、例えばα−メチルスチレン及びｐ−メチルスチレンが挙げられる。幾つかの態様においては、アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
水素化ブロックコポリマーを製造するのに用いる共役ジエンはＣ4〜Ｃ20共役ジエンであってよい。好適な共役ジエンとしては、例えば、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエンなど、及びこれらの組み合わせが挙げられる。幾つかの態様においては、共役ジエンは、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、又はこれらの組み合わせである。幾つかの態様においては、共役ジエンは１，３−ブタジエンから構成される。
水素化ブロックコポリマーは、（Ａ）アルケニル芳香族化合物から誘導される少なくとも１つのブロック、及び（Ｂ）共役ジエンから誘導される少なくとも１つのブロックを含み、ブロック（Ｂ）中の含有脂肪族不飽和基が水素化によって少なくとも部分的に還元されているコポリマーである。幾つかの態様においては、ブロック（Ｂ）中の脂肪族不飽和部分は少なくとも５０％、具体的には少なくとも７０％還元されている。ブロック（Ａ）と（Ｂ）の配列としては、線状構造、グラフト構造、及び分岐鎖を有するか又は有しない放射状テレブロック構造が挙げられる。線状ブロックコポリマーとしては、テーパー型線状構造及び非テーパー型線状構造が挙げられる。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーはテーパー型線状構造を有する。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは非テーパー型線状構造を有する。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは、ランダムに含まれているアルケニル芳香族モノマーを含むＢブロックを含む。線状ブロックコポリマー構造としては、ジブロック（Ａ−Ｂブロック）、トリブロック（Ａ−Ｂ−Ａブロック又はＢ−Ａ−Ｂブロック）、テトラブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）、及びペンタブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂ−Ａブロック又はＢ−Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、並びにＡ及びＢの合計で６以上のブロックを含む線状構造が挙げられる。ここで、それぞれのＡブロックの分子量は他のＡブロックのものと同一であっても異なっていてもよく、それぞれのＢブロックの分子量は他のＢブロックのものと同一であっても異なっていてもよい。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは、ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマー、又はこれらの組み合わせである。
幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーはポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーである。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーはポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマーである。これらのブロックコポリマーは、官能化剤又はそれらの名称によって示されるもの以外のモノマーの残基を含まない。
幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物及び共役ジエン以外のモノマーの残基を含まない。幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物及び共役ジエンから誘導されるブロックから構成される。これは、これら又は任意の他のモノマーから形成されるグラフトを含まない。また、これは炭素及び水素原子から構成され、したがってヘテロ原子を含まない。
幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーは無水マレイン酸のような１種類以上の酸官能化剤の残基を含む。
水素化ブロックコポリマーを製造する方法は当該技術において公知であり、多くの水素化ブロックコポリマーを商業的に入手することができる。代表的な商業的に入手できる水素化ブロックコポリマーとしては、Kraton PolymersからKraton G1701及びG1702として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1641、G1650、G1651、G1654、G1657、G1726、G4609、G4610、GRP-6598、RP-6924、MD-6932M、MD-6933、及びMD-6939として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton RP-6935及びRP-6936として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレン（Ｓ−ＥＢ／Ｓ−Ｓ）トリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1730として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1901、G1924、及びMD-6684として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton MD-6670として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC H1043として入手できる６７重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC H1051として入手できる４２重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC P1000及びP2000として入手できるポリスチレン−ポリ（ブタジエン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからS.O.E.-SS L601として入手できるポリスチレン−ポリブタジエン−ポリ（スチレン−ブタジエン）−ポリブタジエンブロックコポリマー；Chevron Phillips Chemical CompanyからK-Resin KK38、KR01、KR03、及びKR05として入手できる水素化放射状ブロックコポリマー；KurarayからSEPTON S8104として入手できる約６０重量のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；KurarayからSEPTON S4044、S4055、S4077、及びS4099として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−エチレン／プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；及びKurarayからSEPTON S2104として入手できる約６５重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；が挙げられる。２種類以上の水素化ブロックコポリマーの混合物を用いることができる。
水素化ブロックコポリマーを製造する方法は当該技術において公知であり、多くの水素化ブロックコポリマーを商業的に入手することができる。代表的な商業的に入手できる水素化ブロックコポリマーとしては、Kraton PolymersからKraton G1701及びG1702として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1641、G1650、G1651、G1654、G1657、G1726、G4609、G4610、GRP-6598、RP-6924、MD-6932M、MD-6933、及びMD-6939として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton RP-6935及びRP-6936として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレン（Ｓ−ＥＢ／Ｓ−Ｓ）トリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1730として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton G1901、G1924、及びMD-6684として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Kraton PolymersからKraton MD-6670として入手できる無水マレイン酸グラフトポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC H1043として入手できる６７重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC H1051として入手できる４２重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからTUFTEC P1000及びP2000として入手できるポリスチレン−ポリ（ブタジエン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；AK ElastomerからS.O.E.-SS L601として入手できるポリスチレン−ポリブタジエン−ポリ（スチレン−ブタジエン）−ポリブタジエンブロックコポリマー；Chevron Phillips Chemical CompanyからK-Resin KK38、KR01、KR03、及びKR05として入手できる水素化放射状ブロックコポリマー；KurarayからSEPTON S8104として入手できる約６０重量のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；KurarayからSEPTON S4044、S4055、S4077、及びS4099として入手できるポリスチレン−ポリ（エチレン−エチレン／プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；及びKurarayからSEPTON S2104として入手できる約６５重量％のポリスチレンを含むポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；が挙げられる。２種類以上の水素化ブロックコポリマーの混合物を用いることができる。
本組成物は、組成物の全重量を基準として約９〜約８０重量％の量の水素化ブロックコポリマーを含む。この範囲内において、水素化ブロックコポリマーの量は、具体的には約１０〜約６０重量％、より具体的には約１５〜約６０重量％、更により具体的には約２０〜約５０重量％、更により具体的には約２３〜約４０重量％、更により具体的には約２７〜約３２重量％であってよい。
幾つかの態様においては、水素化ブロックコポリマーの少なくとも一部は、水素化ブロックコポリマー、エチレン−プロピレンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えられる。これに関連して「溶融混練ブレンド」という用語は、水素化ブロックコポリマー、エチレン−プロピレンコポリマー、及び鉱油が、他の成分と溶融混練する前に互いに溶融混練されていることを意味する。この溶融混練ブレンド中のエチレン−プロピレンコポリマーは、エラストマーコポリマー（即ち、所謂エチレン−プロピレンラバー（ＥＰＲ））である。好適なエチレン−プロピレンコポリマーは、場合によって用いるエチレン／α−オレフィンコポリマーに関連して以下に記載するものである。これらのブレンドにおいて、水素化ブロックコポリマーの量は、約２０〜約６０重量％、具体的には約３０〜約５０重量％であってよく；エチレン−プロピレンコポリマーの量は、約２〜約２０重量％、具体的には約５〜約１５重量％であってよく；鉱油の量は、約３０〜約７０重量％、具体的には約４０〜約６０重量％であってよく；ここで、全ての重量％は溶融混練ブレンドの全重量を基準とするものである。
水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）とは、約０．３〜約４の重量比で存在する。言い換えれば、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）との重量比は約０．３：１〜約４：１である。この範囲内において、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）との重量比は、具体的には約０．７〜約３、より具体的には約１．２〜約３、更により具体的には約１．２〜約１．５であってよい。
ポリ（アリーレンエーテル）及び水素化ブロックコポリマーに加えて、本組成物は可塑剤を含む。ここで用いる「可塑剤」という用語は、組成物を全体として又は組成物の少なくとも１つの成分を可塑化するのに有効な化合物を指す。幾つかの態様においては、可塑剤はポリ（アリーレンエーテル）を可塑化するのに有効である。可塑剤は、通常、ポリマー中に溶解して連鎖を互いに分離し、それによりレプテーションを促進して組成物のガラス転移温度を低下させる低分子量で比較的非揮発性の分子である。幾つかの態様においては、可塑剤は、約−１１０〜−５０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、ポリ（アリーレンエーテル）樹脂と概ね混和性であり、１，０００ｇ／モル以下の分子量を有する。
好適な可塑剤としては、例えば、安息香酸エステル（ジベンゾエートエステルを含む）、ペンタエリトリトールエステル、トリアリールホスフェート（ハロゲン置換トリアリールホスフェートを含む）、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、ピロメリット酸エステルなど、並びにこれらの混合物が挙げられる。
幾つかの態様においては、可塑剤はトリアリールホスフェートである。好適なトリアリールホスフェートとしては、次式：
（式中、それぞれのアリール基：Ａｒは、独立して、場合によってはＣ1〜Ｃ12ヒドロカルビル、Ｃ1〜Ｃ12ヒドロカルビルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、カルボキシなどから選択される１以上の置換基で置換されている直接に結合しているＣ6〜Ｃ12芳香族基である）
の構造を有するものが挙げられる。代表例としては、トリフェニルホスフェート、トリトリルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、ブチル化トリフェニルホスフェートなどが挙げられる。トリアリールホスフェートとしては、更に、２つ以上のジアリールホスフェート基がそれぞれ連結基の１つ以上のアリール部分と結合している分子が挙げられる。代表例としては、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）（「ＲＤＰ」；CAS Reg. No. 57583-54-7；リン酸１，３−フェニレンテトラフェニルエステル）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）（「ＢＰＡＤＰ」；CAS Reg. No. 5945-33-5；リン酸（１−メチルエチリデン）ジ−４，１−フェニレンテトラフェニルエステル）が挙げられる。幾つかの態様においては、トリアリールホスフェートはハロゲンを含まない。他の態様においては、トリアリールホスフェートは１つ以上のハロゲン置換基を含む。
の構造を有するものが挙げられる。代表例としては、トリフェニルホスフェート、トリトリルホスフェート、イソプロピル化トリフェニルホスフェート、ブチル化トリフェニルホスフェートなどが挙げられる。トリアリールホスフェートとしては、更に、２つ以上のジアリールホスフェート基がそれぞれ連結基の１つ以上のアリール部分と結合している分子が挙げられる。代表例としては、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）（「ＲＤＰ」；CAS Reg. No. 57583-54-7；リン酸１，３−フェニレンテトラフェニルエステル）及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）（「ＢＰＡＤＰ」；CAS Reg. No. 5945-33-5；リン酸（１−メチルエチリデン）ジ−４，１−フェニレンテトラフェニルエステル）が挙げられる。幾つかの態様においては、トリアリールホスフェートはハロゲンを含まない。他の態様においては、トリアリールホスフェートは１つ以上のハロゲン置換基を含む。
本組成物は、組成物の全重量を基準として約８〜約２５重量％の量のトリアリールホスフェートを含む。この範囲内において、トリアリールホスフェートの量は、具体的には約９〜約２０重量％、より具体的には約９〜約１５重量％、更により具体的には約１０〜約１２重量％であってよい。
ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、及びトリアリールホスフェートに加えて、本組成物は白色顔料を含む。白色顔料は組成物の白色又は灰白色に寄与する。好適な白色顔料としては、例えば、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サテンホワイト、ケイ酸アルミニウム、珪藻土、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、合成アモルファスシリカ、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、アルミナ、変性アルミナ、リトポン、ゼオライト、水和ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、及びこれらの混合物が挙げられる。幾つかの態様においては、白色顔料は、硫化亜鉛、二酸化チタン（ルチル型二酸化チタンを含む）、又はこれらの混合物である。幾つかの態様においては、白色顔料は二酸化チタンである。
本組成物は、組成物の全重量を基準として約１〜約１２重量％の量の白色顔料を含む。この範囲内において、白色顔料の量は、具体的には約２〜約８重量％、より具体的には約３〜約５重量％であってよい。
ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、及び白色顔料に加えて、本組成物は紫外線安定剤を含む。ここで用いる「紫外線安定剤」という用語は、紫外光を直接吸収する化合物（所謂ＵＶ吸収剤）だけでなく、光化学励起状態を失わせる化合物、ヒドロペルオキシド中間体を分解する化合物、及び遊離基中間体を除去する化合物も含む。紫外線安定剤の好適な種類としては、ベンゾフェノンタイプのＵＶ吸収剤（２−ヒドロキシベンゾフェノン類及びヒドロキシフェニルベンゾフェノン類など）、ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤（２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類など）、ヒンダードアミン光安定剤、シンナメートタイプのＵＶ吸収剤、オキサニリドタイプのＵＶ吸収剤、２−（２’−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンＵＶ吸収剤、ベンゾオキサジノンタイプのＵＶ吸収剤、脂環式エポキシ化合物、ホスファイト化合物などが挙げられる。紫外線安定剤の更なる種類は、H. Zweifel編の"Plastic Additive Handbook", ５版, Cincinnati: Hanser Gardner Publications, Inc. (2001), p. 206-238に記載されている。
ベンゾフェノンタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｒ1は水素又はＣ1〜Ｃ12アルキルである）
の構造を有するものが挙げられる。
ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
の構造を有するものが挙げられる。
ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｘ1は水素又はクロロであり；Ｒ2はＣ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ3は水素又はＣ1〜Ｃ12アルキルである）
の構造を有するものが挙げられる。特定の代表的なベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤は、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール：CAS Reg. No. 3147-75-9である。
の構造を有するものが挙げられる。特定の代表的なベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤は、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール：CAS Reg. No. 3147-75-9である。
ヒンダードアミン光安定剤は、一般に、２つの第４級炭素に結合している窒素原子を含む５又は６員環を含む。例えば、好適なヒンダードアミン光安定剤としては、次式：
（式中、ｎは２〜１２であり、具体的にはｎは８である）
の構造を有するものが挙げられる。幾つかの態様においては、ヒンダードアミン光安定剤はビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート：CAS Reg. No. 52829-07-9である。
の構造を有するものが挙げられる。幾つかの態様においては、ヒンダードアミン光安定剤はビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート：CAS Reg. No. 52829-07-9である。
シンナメートタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｒ4は水素又はビニル又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ（具体的にはメトキシ）であり；Ｒ5は水素又はＣ1〜Ｃ12ヒドロカルビル、具体的にはメチル又はフェニルであり；Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立して、水素、シアノ（−ＣＮ）、又はカルボキシ（Ｃ1〜Ｃ12）アルキルである）
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
オキサニリドタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立してＣ1〜Ｃ6アルキルであり；Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立して、水素又はＣ1〜Ｃ12アルキル、具体的にはｔｅｒｔ−ブチルである）
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
２−（２’−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｒ12はＣ1〜Ｃ12アルキルであり；Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、及びＲ16は、それぞれ独立して、水素又はＣ1〜Ｃ6アルキル（具体的にはメチル）又はＣ6〜Ｃ12アリール（具体的にはフェニル）である）
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
ベンゾオキサジノンタイプのＵＶ吸収剤としては、次式：
（式中、Ｒ17、Ｒ18、及びＲ19は、それぞれの場合において独立して、Ｃ1〜Ｃ12アルキル又はＣ1〜Ｃ12アルコキシであり；ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ独立して、０、１、又は２である）
の構造を有するものが挙げられる。
の構造を有するものが挙げられる。
脂環式エポキシ化合物としては、例えば、シクロペンテンオキシド、シクロヘキセンオキシド、４−ビニルシクロヘキセンオキシド、４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート（CAS Reg. No. 2386-87-0）、４−アルコキシメチルシクロヘキセンオキシド、アシルオキシメチルシクロヘキセンオキシド、１，３−ビス（２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、２−エポキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレンなどが挙げられる。
２種類以上のＵＶ安定剤の混合物を用いることができる。幾つかの態様においては、紫外線安定剤は、ベンゾトリアゾール及びヒンダードアミン光安定剤を含む。幾つかの態様においては、紫外線安定剤は更に脂環式エポキシ化合物を含む。
紫外線安定剤の全量は、全組成物を基準として約０．１〜約５重量％である。この範囲内において、紫外線安定剤の全量は、具体的には約０．２〜約３重量％、又は約０．５〜約２重量％であってよい。
本組成物には、場合によって青色顔料を更に含ませることができる。
本組成物には、場合によって光学増白剤を更に含ませることができる。好適な光学増白剤は当該技術において公知であり、例えば、CibaからUVITEX OBとして入手できる光学増白剤、及びEastman Chemical CompanyからEASTOBRITE OB-1として入手できる光学増白剤が挙げられる。
本組成物には、場合によって光学増白剤を更に含ませることができる。好適な光学増白剤は当該技術において公知であり、例えば、CibaからUVITEX OBとして入手できる光学増白剤、及びEastman Chemical CompanyからEASTOBRITE OB-1として入手できる光学増白剤が挙げられる。
本組成物には、場合によってポリブテンを更に含ませることができる。ここで用いるポリブテンという用語は、７５重量％より多く、具体的には８０重量％より多い、１−ブテン、２−ブテン、２−メチルプロペン（イソブテン）、又はこれらの組み合わせから誘導される単位を含むポリマーを指す。ポリブテンはホモポリマー又はコポリマーであってよい。幾つかの態様においては、ポリブテンは、１−ブテン、２−ブテン、２−メチルプロペン（イソブテン）、又はこれらの組み合わせから誘導される単位から構成される。他の態様においては、ポリブテンは、１乃至２５重量％未満の、エチレン、プロピレン、又は１−オクテンのような共重合可能なモノマーを含むコポリマーである。幾つかの態様においては、ポリブテンは約７００〜約１，０００原子質量単位の数平均分子量を有する。好適なポリブテンとしては、例えば、InnoveneからIndopol H50として得られる約８００原子質量単位の数平均分子量を有するイソブテン−ブテンコポリマーが挙げられる。
本組成物には、エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーを更に含ませることができる。簡潔にするために、この成分はここでは場合によりエチレン／α−オレフィンコポリマーと呼ぶ。エチレン／α−オレフィンコポリマーは、ここでは、２５〜９５重量％、具体的には６０〜８５重量％のエチレンから誘導される単位、及び７５〜５重量％、具体的には４０〜１５重量％のＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンから誘導される単位を含むコポリマーとして定義される。幾つかの態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは、例えばエチレン−プロピレンラバー（「ＥＰＲ」）、線状低密度ポリエチレン（「ＬＬＤＰＥ」）、又は極低密度ポリエチレン（「ＶＬＤＰＥ」）のようなランダムコポリマーである。他の態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは、エチレンホモポリマー又はプロピレンホモポリマーから構成される少なくとも１つのブロック、及びエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのランダムコポリマーである１つのブロックを含むブロックコポリマーである。好適なα−オレフィンとしては、プロペン、１−ブテン、及び１−オクテンが挙げられる。幾つかの態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは２００℃及び２．１６ｋｇの力において測定して約０．１〜約２０ｇ／１０分のメルトフローインデックスを有する。幾つかの態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは約０．８〜約０．９ｇ／ｍＬの密度を有する。幾つかの態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーはエチレン−プロピレンラバーである。幾つかの態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは、水素化ブロックコポリマー、エチレン／α−オレフィンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えられる。
組成物がポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まない態様においては、エチレン／α−オレフィンコポリマーは場合によって用いる成分であり、存在する場合には、組成物の全重量を基準として約０．５〜約６重量％の量で用いることができる。この範囲内において、エチレン／α−オレフィンコポリマーの量は、具体的には１〜約４重量％、より具体的には約１．５〜約３重量％であってよい。幾つかの態様においては、本組成物は０乃至１重量％未満のエチレン／α−オレフィンコポリマーを含む。幾つかの態様においては、本組成物はエチレン／α−オレフィンコポリマーを含まない。
エチレン／α−オレフィンコポリマーが必要な成分である態様においては、これは、組成物の全重量を基準として約１０〜約５５重量％の量で用いることができる。この範囲内において、エチレン／α−オレフィンコポリマーの量は、約１５〜約５０重量％、具体的には約２０〜約４５重量％、より具体的には約２５〜約４０重量％であってよい。
本組成物は、組成物の全重量を基準として２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含む。２０重量％より多い量のラバー変性ポリスチレンを含ませることはＵＶ安定性の低下と関係することが観察された。幾つかの態様においては、本組成物は、１５重量％以下、具体的には１０重量％以下、より具体的には５重量％以下、更により具体的には１重量％以下、更により具体的には０．１重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含む。幾つかの態様においては、本組成物はラバー変性ポリスチレンを実質的に含まない。これに関連して「実質的に含まない」とは、ラバー変性ポリスチレンを組成物に意図的に加えないことを意味する。
幾つかの態様においては、本組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まない。「ポリエチレンホモポリマー」という用語はエチレンのホモポリマーを意味する。「ポリプロピレンホモポリマー」という用語はプロピレンのホモポリマーを意味する。これに関連して「実質的に含まない」とは、ポリエチレンホモポリマー又はポリプロピレンホモポリマーを組成物に意図的に加えないことを意味する。幾つかの態様においては、本組成物は１重量％未満のポリエチレンホモポリマー、ポリプロピレンホモポリマー、又はこれらの混合物を含む。幾つかの態様においては、本組成物は、０．５重量％未満、又は０．１重量％未満のこれらのホモポリマーを含み、或いはこれらのホモポリマーを全く含まない。ポリエチレンホモポリマーとしては、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレン（しかしながらコポリマーである線状低密度ポリエチレンではない）が挙げられる。ここで定義されるポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーは非エラストマー材料である。
他の態様、特にエチレン／α−オレフィンコポリマーの存在が必要な態様においては、本組成物には、場合によって、ポリエチレンホモポリマー、ポリプロピレンホモポリマー、又はこれらの混合物を含ませることができる。これらの態様においては、ポリエチレン、ポリプロピレン、又はこれらの混合物の合計量は１〜約３０重量％である。この範囲内において、この量は、具体的には約３〜約２０重量％、より具体的には約５〜約１５重量％であってよい。幾つかの態様においては、本組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを含まない。
本組成物には、場合によって鉱油を含ませることができる。鉱油は、水素化ブロックコポリマー、エチレン／α−オレフィンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えることができる。存在する場合には、鉱油は、組成物の全重量を基準として約２〜約２０重量％の量で用いることができる。具体的には、鉱油の量は、約４〜約１５重量％、より具体的には約７〜約１２重量％であってよい。
可塑剤に関して上記に記載したトリアリールホスフェートに加えて、本組成物には、場合によって１種類以上の更なる難燃剤を含ませることができる。好適な難燃剤としては、例えば、水酸化マグネシウム、メラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、及びこれらの組み合わせが挙げられる。下記の実施例において示すように、（ａ）トリアリールホスフェート、（ｂ）水酸化マグネシウム、及び（ｃ）メラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、又はこれらの混合物を含む組成物において優れた難燃性が示された。幾つかの態様においては、本組成物は、水酸化マグネシウム及びメラミンポリホスフェートを含む難燃剤を含み、本組成物は、３．２ｍｍの厚さにおいてＶ−０又はＶ−１のＵＬ９４等級を示す。ハロゲン化難燃剤を許容することができる用途に関しては、好適な難燃剤としては更に、ハロゲン化ポリオレフィンワックス、オクタブロモジフェニルオキシド、１，２−ビス（トリブロモフェノキシ）エタン、臭素化エポキシオリゴマー、臭素化ポリスチレン、無水クロレンド酸、ポリ（ペンタブロモベンジルアクリレート）、テトラブロモビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）などが挙げられる。
本組成物には、場合によって熱可塑性樹脂技術において公知の他の１種類以上の添加剤を更に含ませることができる。有用な添加剤としては、例えば、安定剤、離型剤、加工助剤、垂れ遅延剤（ドリップ抑制剤）、成核剤、染料、顔料、酸化防止剤、静電防止剤、発泡剤、金属失活剤、抗ブロッキング剤、ナノクレー、香料（香料カプセル封入ポリマーを含む）など、及びこれらの組み合わせが挙げられる。添加剤は、組成物の所望の外観及び物理特性を許容しないほど損なわない量で加えることができる。かかる量は当業者によって過度の実験を行うことなく決定することができる。
幾つかの態様においては、本組成物は上記記載のもの以外の成分を排除することができるか、又は実質的に含まないものであってよい。例えば、本組成物は、ホモポリスチレン（シンジオタクチックポリスチレンを含む）、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、及びポリプロピレングラフトポリスチレンのような他のポリマー材料を実質的に含まないものであってよい。これに関連して「実質的に含まない」という用語は、示された成分のいずれも意図的に加えないことを意味する。
組成物が複数の成分を含むと定義される際には、それぞれの成分は、特に単一の化合物が１つより多い成分の定義を満足することができる場合には化学的に異なるものであると理解される。
幾つかの態様においては、本組成物は、ポリ（アリーレンエーテル）を含む分散相及び水素化ブロックコポリマーを含む連続相を含む。熱可塑性樹脂技術の当業者であれば、特定の組成物がかかる分散相及び連続相を含むかどうかを、例えば電子顕微鏡、並びに四酸化オスミウム及び四酸化ルテニウムなどの当該技術において公知の選択的染料を用いることによって求めることができる。幾つかの態様においては、本組成物は約０．２〜約２０μｍの粒径を有する分散相を含む。
一態様は、約１８〜約３０重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２３〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約４〜約１０重量％のポリブテン；約０．５〜約３重量％のエチレン−プロピレンラバー；約３〜約１０重量％の鉱油；約８〜約１６重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）；約２〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１６重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約１重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、組成物は、ラバー変性ポリスチレン、ポリエチレンホモポリマー、及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物である。幾つかの態様においては、本組成物は約８８以下のＬ*値を示す。幾つかの態様においては、本組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に５００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２の色シフトΔＥを示す。幾つかの態様においては、本組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に１，０００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２の色シフトΔＥを示す。
一態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物である。
本組成物は外観が明色である。具体的には、本組成物はＡＳＴＭ−Ｄ２２４４−０５にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*を示す。幾つかの態様においては、明度値Ｌ*は少なくとも８０であってよい。幾つかの態様においては、明度値Ｌ*は、７０〜約９５、具体的には約７５〜約９０、より具体的には約８０〜約９０、更により具体的には約８５〜約８８であってよい。
本組成物は紫外光に対して非常に安定である。具体的には、本組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９−０６にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４−０５にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥを示す。幾つかの態様においては、色シフトΔＥはキセノンアークに５００又は１０００時間曝露した後に３以下である。幾つかの態様においては、色シフトΔＥはキセノンアークに３００又は５００又は１０００時間曝露した後に２以下又は１以下である。
本組成物は可撓性である。「可撓性」という本用語の１つの客観的相関は曲げ弾性率である。したがって、幾つかの態様においては、本組成物はＡＳＴＭ−Ｄ７９０−０３にしたがって２３℃において測定して３００ＭＰａ以下の曲げ弾性率を示す。幾つかの態様においては、曲げ弾性率は、約２０〜約３００ＭＰａ、具体的には約２０〜約２００ＭＰａ、より具体的には約３５〜約１５０ＭＰａ、更により具体的には約５０〜約１００ＭＰａである。曲げ弾性率の値は、ＡＳＴＭ−Ｄ７９０−０３、方法Ａにしたがって、１．２７ｃｍ（０．５インチ）×１２．７ｃｍ（５インチ）×３．１７５ｍｍ（０．１２５インチ）の寸法を有する試料に関して、５．０８ｃｍ（２インチ）の支持スパン長さ、及び１．２７ｍｍ／分（０．０５インチ／分）のクロスヘッド移動速度を用いて測定することができる。可撓性の他の客観的相関は引張り伸びである。したがって、幾つかの態様においては、本組成物は１００％以上の破断点引張り伸びを示す。幾つかの態様においては、引張り伸びは、具体的には約１００〜約３００％、より具体的には約１５０〜約３００％、更により具体的には約２００〜約３００％、更により具体的には約２５０〜約２９０％である。破断点引張り伸びは、ＡＳＴＭ−Ｄ６３８−０３にしたがって２３℃において、３．２ｍｍの厚さを有するタイプＩの棒状試料、組成物あたり５つの棒状試料、及び５．０８ｃｍ／分（２インチ／分）の試験速度を用いて測定することができる。
本発明は、上記記載の組成物の製造方法を包含する。したがって、一態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約９〜約８０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって；ここで、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）とは約０．３〜約４の重量比で存在し；組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；を示す上記方法である。
他の態様は、約１８〜約３０重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２３〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約４〜約１０重量％のポリブテン；約０．５〜約３重量％のエチレン−プロピレンラバー；約３〜約１０重量％の鉱油；約８〜約１６重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）；約２〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１６重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約１重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって；ここで、組成物はラバー変性ポリスチレン、ポリエチレンホモポリマー、及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す上記方法である。
他の態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって；ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；を示す上記方法である。
他の態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）又はレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）又はこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す上記方法である。
溶融混練中の本組成物の溶融温度は、混合を容易にするのに十分に高いが、組成物の黄変を避けるのに十分に低くなければならない。幾つかの態様においては、溶融温度は３００℃以下、具体的には２７０℃以下でなければならない。溶融混練によって製造される押出材料は、場合によっては、通常のペレット化装置、ダイフェースペレット化装置、又は水中ペレット化装置のような公知の装置を用いてペレット化する前に水浴中で冷却することができる。幾つかの態様においては、溶融混練は押出機内で行い、可塑剤を他の成分とは別に押出機に加える。他の態様においては、可塑剤をポリ（アリーレンエーテル）と予めブレンドし、ポリ（アリーレンエーテル）／可塑剤プレブレンドの添加の下流の位置において水素化ブロックコポリマーを押出機に加える。幾つかの態様においては、得られるプレブレンドを他の成分と溶融混練する前に、ポリ（アリーレンエーテル）、可塑剤、及び紫外線安定剤を予め互いにブレンドする。幾つかの態様においては、ポリ（アリーレンエーテル）／可塑剤の予備ブレンド、又はポリ（アリーレンエーテル）、可塑剤、及び紫外線安定剤の予備ブレンドは、室温において行う。幾つかの態様においては、ポリ（アリーレンエーテル）／可塑剤の予備ブレンド、又はポリ（アリーレンエーテル）、可塑剤、及び紫外線安定剤の予備ブレンドは、室温乃至ほぼポリ（アリーレンエーテル）のガラス転移温度の温度において行う。
本発明は、上記記載の任意の組成物を含む物品、特にケーブル絶縁材を包含する。
本発明は、上記記載の任意の組成物を用いて電線を絶縁する方法を包含する。ここで用いる「電線」とは、検出可能な電気信号を伝導することができる導体を含む線材である。したがって、一態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約９〜約８０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）とは約０．３〜約４の重量比で存在し；組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
本発明は、上記記載の任意の組成物を用いて電線を絶縁する方法を包含する。ここで用いる「電線」とは、検出可能な電気信号を伝導することができる導体を含む線材である。したがって、一態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約９〜約８０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、水素化ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）とは約０．３〜約４の重量比で存在し；組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；組成物はポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
他の態様は、約１８〜約２６重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２３〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約４〜約１０重量％のポリブテン；約１〜約３重量％のエチレン−プロピレンラバー；約６〜約１０重量％の鉱油；約１３〜約１６重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）；約２〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜約０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約１重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、組成物はラバー変性ポリスチレン、ポリエチレンホモポリマー、及びポリプロピレンホモポリマーを実質的に含まず；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
他の態様は、約１０〜約４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；約５〜約４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；約１０〜約５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；約８〜約２５重量％の可塑剤；約１〜約１２重量％の白色顔料；及び約０．１〜約５重量％の紫外線安定剤；を含み；ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及びＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
他の態様は、約２５〜約４５重量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；約２０〜約３５重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；約１０〜約３０重量％の線状低密度ポリエチレン；約２〜約１０重量％のポリブテン；約８〜約２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）又はレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）又はこれらの混合物；約４〜約１０重量％の水酸化マグネシウム；約４〜約１１重量％のメラミンポリホスフェート；約２〜約６重量％の二酸化チタン；約０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；約０．３〜約０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び約０．６〜約１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；を含み；ここで、全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；組成物は、約８０〜約９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；約−１．５〜約０．５のＣＩＥａ*値；約−２．５〜約１．５のＣＩＥｂ*値；ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して約０．１〜約２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及びＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して約５０〜約１００ＭＰａの曲げ弾性率；を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法である。
以下の非限定的な実施例によって本発明を更に説明する。
実施例１〜１１、比較例１：
以下の実施例は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、白色顔料、及び紫外線安定剤を含むブレンドによって示される優れた色安定性を示す。
以下の実施例は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、白色顔料、及び紫外線安定剤を含むブレンドによって示される優れた色安定性を示す。
表１に、実施例１〜１２の試料を製造するのに用いた基組成物中の成分を示す。基組成物は、ＵＶ安定剤を除く全ての成分を含む。全ての成分量は重量部で表す。ポリ（アリーレンエーテル）は、クロロホルム中２５℃において測定して０．４６ｄＬ／ｇの固有粘度を有し、GE PlasticsからPPO 646として得られるポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）：CAS Reg. No. 24938-67-8であった（表１において「0.46 IV PPE」）。トリアリールホスフェートは、Great Lakes Chemical Corporationから得られるビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）：CAS Reg. No. 5945-33-5であった（表１において「BPADP」）。水素化ブロックコポリマーは、Kraton Polymers LLCからKraton RP6936として得られる、３９％のポリスチレン含量及び約１６０，０００原子質量単位の数平均分子量を有する線状トリブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンコポリマー：CAS Reg. No. 66070-58-4であった（表１において「SEBS-K6936」）。Sumitomo ChemicalからTPE-SB2400として得られる、約４０重量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン、約１０重量％のエチレン−プロピレンラバー、及び約５０重量％の鉱油を含む溶融混練ブレンド（表１において「SEBS/EPR/MO」）も全水素化ブロックコポリマーに寄与していた。液体ポリブテン、具体的には約８００ＡＭＵの数平均分子量を有するイソブテン−ブテンコポリマーをInnoveneからIndopol H50として得た（表１において「ポリブテン」）。メラミンポリホスフェート：CAS Reg. No. 218768-84-4を、Ciba Specialty ChemicalsからMelapur 200/70として得た（表１において「メラミンポリホスフェート」）。水酸化マグネシウム：CAS Reg. No.1309-32-8を、Kyowa Chemical Industry Co.からKisuma 5Aとして得た（表１において「Mg(OH)2」）。エルカミド：CAS Reg. No. 112-84-5を、Crompton CorporationからKemamide E Ultraとして得た（表１において「エルカミド」）。ヒンダードフェノール酸化防止剤：１，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）ヒドラジン：CAS Reg. No. 32687-78-8を、Ciba Specialty ChemicalsからIrganox MD1024として得た（表１において「Phen. AO-1024」）。ヒンダードフェノール酸化防止剤：オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート：CAS Reg. No. 2082-79-3を、Ciba Specialty ChemicalsからIrganox 1076として得た（表１において「Phen. AO-1076」）。硫化亜鉛：CAS Reg. No. 1314-98-3を、SachtlebenからSachtolith HDとして得た（表１において「ZnS」）。表１において、「MgO」は酸化マグネシウム：CAS Reg. No. 1309-48-4を指す。ポリエチレンカプセル封入香料を、International Flavors and FragrancesからIFI-7191 PBDとして得た（表１において「香料」）。０．２μｍの平均粒径を有する二酸化チタンをDuPontからTi-Pure R103-15として得た（表１において「TiO2」）。ＡＳＴＭ−Ｄ１５１０−０２ａにしたがって測定して２３１ｇ／ｋｇのヨウ素吸収量を有するカーボンブラックをCabotからMonarch 800として得た（表１において「カーボン」）。ピグメントグリーン３６をBASFから得た（表１において「Green36」）。ウルトラマリンブルーをHolliday Pigmentsから得た（表１において「UMブルー」）。黄色着色剤：ピグメントブラウン２４をBASFから得た（表１において「Yellow」）。脂環式エポキシ化合物：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート：CAS Reg. No. 2386-87-0を、DowからERL-4221として得た（表１において「エポキシ」）。ベンゾトリアゾールＵＶ安定剤：２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール：CAS Reg. No. 3147-75-9を、CytecからCyasorb UV5411として得た（表１において「BTZ-1」）。ヒンダードアミン光安定剤：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケート：CAS Reg. No. 52829-07-9を、Ciba Specialty ChemicalsからTinuvin770として得た（表１において「HALS」）。
それぞれの組成物を以下のようにして調製した。押出の前に全ての成分を高速ヘンシェルミキサー内において１分間乾燥ブレンドした。得られた乾燥ブレンドを押出機のフィードスロートに加え、約２５０〜２８５℃において押出し、ペレットに切断した。押出温度は好ましくは約２６５〜２７５℃である。溶融温度が２８５℃より高いと、押出しているペレットの色が変化する可能性がある。押出機は、９６０ｍｍの長さ及び３２：１の長さ／直径比を有するWerner and Pfleidererの３０ｍｍ共回転１０バレル二軸押出機であった。水浴は約２ｍの長さを有する。水浴の温度は１５℃以下に制御する。ペレット化機はJetro Divisionによって製造されたConair Jetroである。幾つかの非常に軟質のＵＶ安定性の材料に関しては、水浴温度は１０℃より低く制御し、ペレット化機はLab Tech Eng. Corp Ltdによって製造された特注のサイドカットラバーチョッパーである。このペレット化機を用いるとペレットの寸法がより均一になる。２１５〜２４０℃において、約５．５ＭＰａ（８００ｌｂ／ｉｎ2）の成形圧及び７７℃の成形型温度を用いて、ペレットから５．０８ｃｍ×７．６２ｃｍ×０．２５４ｃｍ（２インチ×３インチ×０．１００インチ）の寸法のプラスチックカラーチップを成形した。
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９−９９：「室内用途を意図されたプラスチックのキセノンアーク照射に関する標準手順」にしたがって、組成物のＵＶ安定性を試験した。具体的には、この手順は、３５００Ｗのランプ、０．３Ｗ／ｍ2の照射露光量、並びに５５℃の温度及び５５％の相対湿度に制御する能力を有する、AtlasからCi4000として得られる照射装置を用いた。
ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４−０５：「装置で測定した色座標から色の許容差及び色差を算出するための標準手順」にしたがって色差を測定した。色差（ΔＥ）値は、下記のＣＩＥＬＡＢ色差式にしたがって算出した。
ΔＥ＝［（ΔＬ*）2＋（Δａ*）2＋（Δｂ*）2］1/2
ここで、
ΔＬ*＝Ｌ1 *−Ｌ2 *
Δａ*＝ａ1 *−ａ2 *
Δｂ*＝ｂ1 *−ｂ2 *
であり、Ｌ1 *、ａ1 *、及びｂ1 *は、それぞれ、試験に曝露する前の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標であり、Ｌ2 *、ａ2 *、及びｂ2 *は、それぞれ、試験に曝露した後の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標である。
ここで、
ΔＬ*＝Ｌ1 *−Ｌ2 *
Δａ*＝ａ1 *−ａ2 *
Δｂ*＝ｂ1 *−ｂ2 *
であり、Ｌ1 *、ａ1 *、及びｂ1 *は、それぞれ、試験に曝露する前の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標であり、Ｌ2 *、ａ2 *、及びｂ2 *は、それぞれ、試験に曝露した後の明度、赤−緑座標、及び黄−青座標である。
破断点引張り伸びは、ＡＳＴＭ−Ｄ６３８−０３にしたがい、２３℃の温度及び５０ｍｍ／分の引張り速度において、２１０〜２３５℃のバレル温度及び４０〜７０℃の成形型温度を用いて成形した３．２ｍｍの厚さを有するタイプＩ棒状試料を用いて２３℃において測定した。引張り棒状試料は、試験の前に２３℃及び５０％の相対湿度において４８時間コンディショニングした。報告する値は組成物あたり３つの試料の平均値を表す。
表１に、表１の基組成物から構成され、特定量（重量部）の３種類のＵＶ安定剤化合物を加えた実施例１〜１２の試料に関する、引張り伸び値及び曝露時間の関数としてのΔＥ値を示す。「PPE/SEBS」、「BPADP/PPE」、及び「(BTZ+HALS)/PPE」と示される組成の列は、それぞれの成分の重量／重量比を表す（また、「PPE/SEBS」における「SEBS」は、「SEBS-K6936」及び「SEBS/EPR/MO」の両方からのSEBSを含む）。
表１におけるΔＥ値から、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、白色顔料、及び紫外線安定剤を含むブレンドは、キセノンアーク照射後のそれらの低いΔＥ値によって例示されるように優れた色安定性を有することが分かる。実施例１〜１１は異なるＵＶ安定剤を含んでおり、これらは全て１００、２００、及び３００時間後に２未満のΔＥ値を有する。これらの実施例は、１０００時間の曝露後に優れた色安定性を保持して、３未満、及び実施例１、３、４、及び７〜１１のような幾つかの場合においては１未満のΔＥ値を与える。
いかなるＵＶ安定剤も含まない比較例１も、１００、２００、及び３００時間の曝露後に２未満のΔＥ値を示すが、その色安定性は３００〜１０００時間の曝露の間に実質的に低下する。
また、表１におけるデータにより、広範囲のタイプ及び量のＵＶ安定剤を用いて低い色シフトが達成されることも示される。例えば、全てのＵＶ安定化添加剤の合計量は実施例９に関しては約１．２重量％であり、これは１０００時間の曝露後に０．１６のΔＥを示し、一方、実施例６に関しては約１２．０重量％であり、これは１０００時間の曝露後に１．９３のΔＥを示した。ＵＶ安定剤の量の変動に対してＵＶ安定性が安定していることにより、比較的少量のＵＶ安定剤を用いることができ、したがって機械特性、難燃性、及び時間経過に伴う組成物の物理的分離に対するＵＶ安定剤の悪影響を最小にすることができることが示される。
比較例２〜１３：
以下の比較例は、水素化ブロックコポリマーの代わりに耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ：ラバー変性ポリスチレン）を用いるブレンドは上記の実施例１〜１１に関して示したものよりも著しく劣る色安定性を示すことを示す。
以下の比較例は、水素化ブロックコポリマーの代わりに耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ：ラバー変性ポリスチレン）を用いるブレンドは上記の実施例１〜１１に関して示したものよりも著しく劣る色安定性を示すことを示す。
試料の組成を表２に示す。ポリ（アリーレンエーテル）は、GE PlasticsからPPO 630として得られる、クロロホルム中２５℃において測定して０．３１ｄＬ／ｇの固有粘度を有するポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）であった（表２において「0.31 IV PPE」）。１０．３重量％のポリブタジエンラバーを含む耐衝撃性ポリスチレンをGE HuntsmanからNORYL HIPS 3190として得た（表２において「HIPS」）。１９０℃及び２．１６ｋｇの力において測定して約２０ｇ／１０分のメルトフローインデックスを有する線状低密度ポリエチレンをNova ChemicalsからNovapol GM-2024-Aとして得た（表２において「LLDPE-1」）。トリデシルホスフェートをDover Chemicalから得た（表２において「TDP」）。スチレン−アクリロニトリルコポリマー内にカプセル封入されているポリテトラフルオロエチレンは表２において「TSAN」と示す。３２５メッシュの篩によって０．１０重量％未満の残留分を有する酸化鉄をBayerからBayferrox 180MPLとして得た（表２において「酸化鉄」）。ベンゾインをAceto Chemicalから得た（表２において「ベンゾイン」）。レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）：CAS Reg. No. 57583-54-7をAkzo NobelからFyrolflex RDPとして得た（表２において「RDP」）。他の成分は上記に記載した通りである。表２における全ての成分量は重量部で表す。
ＡＳＴＭ−Ｄ６３８−０３にしたがって上記に記載の条件を用いて破断点引張り強さ及び破断点引張り伸びを測定した。
また表２は、１００〜３００時間のキセノンアーク照射後のΔＥ値も示す。３００時間の曝露後のΔＥ値は全ての試料に関して１１．２〜３０．７の範囲であり、これは全て１．５未満であった上記の実施例１〜１１に関する値よりも非常に大きいことに注意されたい。
また表２は、１００〜３００時間のキセノンアーク照射後のΔＥ値も示す。３００時間の曝露後のΔＥ値は全ての試料に関して１１．２〜３０．７の範囲であり、これは全て１．５未満であった上記の実施例１〜１１に関する値よりも非常に大きいことに注意されたい。
比較例１４〜２０：
以下の比較例は、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を用いるブレンドは、水素化ブロックコポリマーを用いるブレンドと比較して著しく劣った色安定性を示すことを更に示す。
以下の比較例は、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を用いるブレンドは、水素化ブロックコポリマーを用いるブレンドと比較して著しく劣った色安定性を示すことを更に示す。
表３に、比較例１４〜２０の組成をそれらの３００時間後のΔＥ値と一緒に示す。キノフタロン染料：４，５，６，７−テトラクロロ−２−［２−（４，５，６，７−テトラクロロ−２，３−ジヒドロ−１，３−ジオキソ−１Ｈ−インデン−２−イル）−８−キノリニル］−Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン（CAS Reg. No. 30125-47-4：ピグメントイエロー１３８）をBASFからPaliotol Yellow K0961 HDとして得た（表３において「CC染料」）。ベンゾトリアゾールＵＶ安定剤：２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミル）ベンゾトリアゾールをCiba Specialty ChemicalsからTinuvin 324として得た（表３において「BTZ-2」）。「全ＵＶ安定剤」は、BTZ-1、BTZ-2、HALS770、及びエポキシの量の合計である。
表３はまた、試料の種々のＣＩＥ色特性も示す。成形したままのカラーチップについて、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４−０５：「装置で測定した色座標から色の許容差及び色差を算出するための標準手順」にしたがってＬ*、ａ*、及びｂ*の初期値を測定した。同じ標準規格にしたがって３００時間のキセノンアーク照射後のｂ*における変化及びΔＥを測定した。
ポリ（アリーレンエーテル）を水素化ブロックコポリマーではなくラバー変性ポリスチレンとブレンドする比較例１４〜２０は非常に劣った色安定性を有することが分かる。具体的には、これらの試料はＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがう３００時間の曝露後に３．０〜３３．５の範囲のΔＥ値を示す。これに対して、ラバー変性ポリスチレンではなく水素化ブロックコポリマーを用いる上記の実施例１〜１１は、３００時間後に０．７２〜１．３９の範囲のΔＥ値を示した。比較例１４〜２０に関しては、３００時間のキセノンアーク照射後のΔｂ*及びΔＥ値が同等であることより、試料の黄変が全色シフトの主たる要素であることが示される。
比較例２１：
本実施例は、トリアリールホスフェートの濃度が８重量％未満である場合に色安定性が悪化し始めることを示す。
本実施例は、トリアリールホスフェートの濃度が８重量％未満である場合に色安定性が悪化し始めることを示す。
組成を表４に詳細に示す。
組成、及びキセノンアーク照射時間の関数としてのΔＥ値を表４に示す。この試料に関しては、水酸化マグネシウムはMartin Marietta Magnesia SpecialtiesからMagshield UFとして得た。メラミンピロホスフェートをBudenheim Iberica Comercial S.A.からBudit 311 MPPとして得た（表４において「メラミンピロホスフェート」）。他の成分は上記に記載した通りである。
組成、及びキセノンアーク照射時間の関数としてのΔＥ値を表４に示す。この試料に関しては、水酸化マグネシウムはMartin Marietta Magnesia SpecialtiesからMagshield UFとして得た。メラミンピロホスフェートをBudenheim Iberica Comercial S.A.からBudit 311 MPPとして得た（表４において「メラミンピロホスフェート」）。他の成分は上記に記載した通りである。
データは、ΔＥ値が３００時間のキセノンアーク照射後に５．８１に上昇することを示す。
実施例１２〜１７：
これらの実施例は、組成物の可撓性及びＵＶ安定性に対するポリ（アリーレンエーテル）の濃度の効果を示す。
これらの実施例は、組成物の可撓性及びＵＶ安定性に対するポリ（アリーレンエーテル）の濃度の効果を示す。
組成を表５に詳細に示す。
ショアＡ硬度は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４０−０５にしたがって、OS-2H操作スタンドを有するRex Model DD-3-Aデジタルデュロメーターを用いて２５℃において測定した。
ショアＡ硬度は、ＡＳＴＭ−Ｄ２２４０−０５にしたがって、OS-2H操作スタンドを有するRex Model DD-3-Aデジタルデュロメーターを用いて２５℃において測定した。
曲げ弾性率値（ＭＰａで表す）は、ＡＳＴＭ−Ｄ７９０−０３、方法Ａにしたがい、１．２７ｃｍ（０．５インチ）×１２．７ｃｍ（５インチ）×３．１７５ｍｍ（０．１２５インチ）の寸法を有する試料に関して２３℃で測定した。支持スパン長さは５．０８ｃｍ（２インチ）であった。クロスヘッド移動速度は１．２７ｍｍ／分（０．０５インチ／分）であった。
PPE/SEBS比において変動するが他は実質的に同じである実施例１３〜１６に関する表５の特性値は、引張り強さ、引張り伸び、曲げ弾性率、及び難燃性が、水素化ブロックコポリマーに対するポリ（アリーレンエーテル）の重量比（即ちPPE/SEBS）が増加するにつれて単調に変動することを示す。しかしながら、PPE/SEBSと色シフト（ΔＥ）との間の相関関係はより複雑である。より高いPPE/SEBS比を有する実施例１５及び１６に対して、０．４２のPPE/SEBS比を有する実施例１３及び０．６８のPPE/SEBS比を有する実施例１４は、１００時間曝露においてそれぞれ約１．８及び１．４のより高いΔＥ値を有するが、これらのΔＥ値はその後２００〜５００時間の曝露の間に下降する。これに対して、実施例１５及び１６はいずれも１００時間において約１のΔＥ値、２００時間後において約０．２へのΔＥの低下、及び３００から４００、更に５００時間へと上昇するΔＥを示す。ΔＥ対時間における相違がPPE/SEBSの関数としての傾向を示すのにもかかわらず、実施例１２〜１７を総合すると、０．２５〜２．１３のPPE/SEBS比及び１０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）濃度に関して、５００時間のような長いキセノンアーク照射に関して２未満のΔＥ値を達成することができることが示される。これらの実験からのデータはまた、１０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）を含む組成物は、導電ケーブル及び同軸ケーブル用の被覆材として用いるのに必要な可撓性、柔軟性、及びＵＶ安定性を示すことができることも示唆する。
実施例１８〜２１：
これらの実施例は、ＵＶ安定性及び物理特性に対するポリブテン濃度の効果を示す。
組成を表６に詳細に示す。１３重量％のポリスチレン含量、及び２３０℃において５ｋｇの力を用いて測定して２２ｇ／１０分のメルトフローを有するポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを、Kraton PolymersからKraton G1657Mとして得た（表６において「SEBS-K1657M」）。
これらの実施例は、ＵＶ安定性及び物理特性に対するポリブテン濃度の効果を示す。
組成を表６に詳細に示す。１３重量％のポリスチレン含量、及び２３０℃において５ｋｇの力を用いて測定して２２ｇ／１０分のメルトフローを有するポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを、Kraton PolymersからKraton G1657Mとして得た（表６において「SEBS-K1657M」）。
特性結果を表６に示す。この結果は、ポリブテンのレベルを増加させることは、一般に色安定性の向上（ΔＥ値の低下）と関係することを示す。ＵＶ安定性の向上の一部はポリブテンの比較的ＵＶ不活性である性質によって与えられると考えられる。しかしながら、最大のポリブテン濃度は全濃度の約８重量％である。したがって、ポリブテン濃度における変動は十分に小さくて、引張り特性及びショアＡ硬度に対して比較的小さな効果を有し、したがってＵＶ安定性に対して比較的小さな効果を有すると考えられる。むしろ、少量のポリブテンを加えることはＵＶ安定性に対して大きな有益な効果を有する。
実施例２２〜２７：
これらの実施例は、ＵＶ安定性及び物理特性に対するＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯ、ポリブテン、ＳＥＢＳ、及びメラミンピロホスフェートの濃度における変動の効果を示す。
これらの実施例は、ＵＶ安定性及び物理特性に対するＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯ、ポリブテン、ＳＥＢＳ、及びメラミンピロホスフェートの濃度における変動の効果を示す。
組成を表７に詳細に示す。上記したように、ＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯは、４０％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン、１０％のエチレン−プロピレンラバー、及び５０％の鉱油の溶融混練ブレンドである。
実施例２６に関する結果、特にその異なる初期の色（所望の明灰色よりも遙かに黄色い）は、この材料の配合又は化合中にいくらかのエラーが起きた可能性があることを示唆している。実施例２６を除いて、表７における結果は、これらの配合物の引張り特性及びＵＶ安定性は、ＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯ、ポリブテン、ＳＥＢＳ、及びメラミンピロホスフェートの濃度における変動に対して安定していることを示す。
実施例２８、比較例２２〜２６：
これらの実施例及び比較例は、水素化ブロックコポリマーのタイプを変動させ、及び水素化ブロックコポリマーをＨＩＰＳに部分的に置き換えることを示す。
これらの実施例及び比較例は、水素化ブロックコポリマーのタイプを変動させ、及び水素化ブロックコポリマーをＨＩＰＳに部分的に置き換えることを示す。
上記の実施例の多くは、水素化ブロックコポリマーとしてKraton A RP6936を用いる。これは、３９％のポリスチレン含量及び約１６０，０００原子質量単位の数平均分子量を有する線状トリブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンコポリマーである。実施例２８は、Kraton PolymersからKraton G1650として得られる、約３０％のポリスチレン含量を有する線状トリブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンコポリマー（表８において「SEBS-KG1650」）を用いる。比較例２２〜２６はＨＩＰＳと異なる水素化ブロックコポリマーとのブレンドを用いる。以下のブロックコポリマーをKraton Polymersから得た：Kraton G1651（表８において「SEBS-KG1651」）は、３３％のポリスチレン含量を有する線状トリブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレンコポリマーである；Kraton D1101（表８において「SBS」）は、３１％のポリスチレン含量を有する線状トリブロックポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンコポリマーである；Kraton G1701（表８において「SEP-KG1701」）は、３７％のポリスチレン含量を有する線状ジブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）コポリマーである；Kraton G1702（表８において「SEP-KG1702」）は、２８％のポリスチレン含量を有する線状ジブロックポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）コポリマーである。
ベンゾフェノン光安定剤：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノンを、Cytec CorporationからCyasorb UV-531として得た（表８において「Cyasorb UV-531」）。
表８における結果は、本発明の組成物のＵＶ安定性の有利性は水素化ブロックコポリマーのポリ（アルケニル芳香族化合物）含量における変動に対して安定していることを示す。ＨＩＰＳの添加並びにブロックコポリマーのタイプ及び量の効果を明確に解明することは可能でないが、実施例２８及び比較例２２〜２６に関する結果は、２０％より大きいＨＩＰＳの濃度はＵＶ安定性に対して実質的な悪影響を与える可能性があることを示唆する。
表８における結果は、本発明の組成物のＵＶ安定性の有利性は水素化ブロックコポリマーのポリ（アルケニル芳香族化合物）含量における変動に対して安定していることを示す。ＨＩＰＳの添加並びにブロックコポリマーのタイプ及び量の効果を明確に解明することは可能でないが、実施例２８及び比較例２２〜２６に関する結果は、２０％より大きいＨＩＰＳの濃度はＵＶ安定性に対して実質的な悪影響を与える可能性があることを示唆する。
実施例２９、比較例２７〜２９：
これらの実施例は、水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレン、並びにトリアリールホスフェートの存在及び不存在の効果を示す。
これらの実施例は、水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレン、並びにトリアリールホスフェートの存在及び不存在の効果を示す。
組成を表９に詳細に示す。
表９における「樹脂の色」は視認検査によって評価した。
ラバー変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を含むが水素化ブロックコポリマーを含まない比較例２７及び２８に関する結果は、試料が３００時間のキセノンアーク照射を示す後にそれぞれ５．０及び１４．８のΔＥ値によって示されるような劣ったＵＶ安定性を示したことを示す。更に、比較例２８は初めは所望の白色よりもむしろ灰色であった。水素化ブロックコポリマーを含むがトリアリールホスフェートを含まない比較例５は劣ったＵＶ安定性を示す。水素化ブロックコポリマー及びトリアリールホスフェートの両方を含む実施例２６は、所望の初期の白色及び優れたＵＶ安定性を示す。
表９における「樹脂の色」は視認検査によって評価した。
ラバー変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）を含むが水素化ブロックコポリマーを含まない比較例２７及び２８に関する結果は、試料が３００時間のキセノンアーク照射を示す後にそれぞれ５．０及び１４．８のΔＥ値によって示されるような劣ったＵＶ安定性を示したことを示す。更に、比較例２８は初めは所望の白色よりもむしろ灰色であった。水素化ブロックコポリマーを含むがトリアリールホスフェートを含まない比較例５は劣ったＵＶ安定性を示す。水素化ブロックコポリマー及びトリアリールホスフェートの両方を含む実施例２６は、所望の初期の白色及び優れたＵＶ安定性を示す。
実施例３０〜３６、比較例３０〜３７：
これらの実施例は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、ＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯ、トリアリールホスフェート、及びポリブテンの濃度を変動させることの効果、並びにトリアリールホスフェートを含まない組成物における水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレンの効果を示す。
これらの実施例は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、ＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯ、トリアリールホスフェート、及びポリブテンの濃度を変動させることの効果、並びにトリアリールホスフェートを含まない組成物における水素化ブロックコポリマー対ラバー変性ポリスチレンの効果を示す。
組成を表１０に詳細に示す。
ＣＩＥ明度値Ｌ*、並びに３００及び５００時間のキセノンアーク照射後のΔＥ値を表１０に示す。全ての組成物は同等の明度値を有していた。種々の比較により、同等の重量部の他の成分を含む組成物におけるトリアリールホスフェート：ＢＰＡＤＰの存在に関係するＵＶ安定性の大きな向上が示される：比較例３１（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．５；５００時間でのΔＥ＝１１．９）対実施例３０（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．９；５００時間でのΔＥ＝０．６）；比較例３２（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．０；５００時間でのΔＥ＝１１．７）対実施例３１（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．８；５００時間でのΔＥ＝０．５）；比較例３３（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．１；５００時間でのΔＥ＝１２．０）対実施例３２（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝１．１；５００時間でのΔＥ＝０．６）；比較例３５（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１７．４；５００時間でのΔＥ＝１７．３）対実施例３５（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．５；５００時間でのΔＥ＝１．５）；比較例３６（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１５．９；５００時間でのΔＥ＝１６．７）対実施例３６（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．８；５００時間でのΔＥ＝１．６）。
ＣＩＥ明度値Ｌ*、並びに３００及び５００時間のキセノンアーク照射後のΔＥ値を表１０に示す。全ての組成物は同等の明度値を有していた。種々の比較により、同等の重量部の他の成分を含む組成物におけるトリアリールホスフェート：ＢＰＡＤＰの存在に関係するＵＶ安定性の大きな向上が示される：比較例３１（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．５；５００時間でのΔＥ＝１１．９）対実施例３０（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．９；５００時間でのΔＥ＝０．６）；比較例３２（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．０；５００時間でのΔＥ＝１１．７）対実施例３１（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．８；５００時間でのΔＥ＝０．５）；比較例３３（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１１．１；５００時間でのΔＥ＝１２．０）対実施例３２（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝１．１；５００時間でのΔＥ＝０．６）；比較例３５（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１７．４；５００時間でのΔＥ＝１７．３）対実施例３５（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．５；５００時間でのΔＥ＝１．５）；比較例３６（ＢＰＡＤＰ無し；３００時間でのΔＥ＝１５．９；５００時間でのΔＥ＝１６．７）対実施例３６（ＢＰＡＤＰ有り；３００時間でのΔＥ＝０．８；５００時間でのΔＥ＝１．６）。
比較例３０及び比較例３１を総合すると、トリアリールホスフェートを含まない組成物に関するＨＩＰＳ対ＳＥＢＳの効果が示される。実際、３００時間後により低い（より良好な）ΔＥ値を示すのはＨＩＰＳを含む試料であり、両方の試料は５００時間後に非常に大きなΔＥ値を有する。この比較により、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、及びトリアリールホスフェートを含む組成物の実質的に向上したＵＶ安定性が予期しないものであることが更に示される。
実施例３０〜３２の結果を総合すると、組成物の優れたＵＶ安定性は、ＳＥＢＳの約２５％をＳＥＢＳ／ＥＰＲ／ＭＯブレンドに置き換えても、及びＳＥＢＳの約１５％をポリブテンに置き換えても全く安定していることが示される。
実施例３７、３８、３８Ａ、及び３８Ｂ：
これらの実施例は、本組成物の優れたＵＶ安定性、並びに物理的、電気的、及び難燃特性を更に示す。
これらの実施例は、本組成物の優れたＵＶ安定性、並びに物理的、電気的、及び難燃特性を更に示す。
組成を表１１に詳細に示す。
比誘電率は、ＡＳＴＭ−Ｄ１５０−９８（２００４）：「固体電気絶縁材のＡＣ損失特性及び誘電率（誘電定数）に関する標準的な試験法」にしたがって測定した。試料の形状は、３ｍｍの厚さを有する引張り試験棒状試料であった。試料の両側上において試験固定電極と良好な接触を与えるように試料の表面は平坦でなければならない。試料を８５℃において２時間乾燥した。乾燥後、試料を試験前に２３℃の室温及び５０％の相対湿度において２４時間コンディショニングした。測定回路は、Hewlett Packardによって製造されたAgilent 4291B RF Impedance/Materials Analyzerであり、用いた典型周波数は６０ヘルツ、１メガヘルツ、及び１００メガヘルツであった。
比誘電率は、ＡＳＴＭ−Ｄ１５０−９８（２００４）：「固体電気絶縁材のＡＣ損失特性及び誘電率（誘電定数）に関する標準的な試験法」にしたがって測定した。試料の形状は、３ｍｍの厚さを有する引張り試験棒状試料であった。試料の両側上において試験固定電極と良好な接触を与えるように試料の表面は平坦でなければならない。試料を８５℃において２時間乾燥した。乾燥後、試料を試験前に２３℃の室温及び５０％の相対湿度において２４時間コンディショニングした。測定回路は、Hewlett Packardによって製造されたAgilent 4291B RF Impedance/Materials Analyzerであり、用いた典型周波数は６０ヘルツ、１メガヘルツ、及び１００メガヘルツであった。
試験物品の難燃性は、Underwriter's Laboratory UL94「装置及び設備における部品のためのプラスチック材料の可燃性に関する試験」、５版（１９９６）にしたがって測定した。具体的には、垂直燃焼炎試験を用いた。この手順においては、１２５×１２．５×３．２ｍｍの寸法を有する試験棒状試料を垂直に配置する。１．９ｃｍ（３／４インチ）の炎を試験棒状試料の端部に１０秒間適用して取り除く。消火した時間を測定する（第１燃焼時間）。炎を更に１０秒間再び適用して取り除く。消火した時間を測定する（第２燃焼時間）。Ｖ−０等級に関しては、第１又は第２の炎の適用からの個々の燃焼時間はいずれも１０秒を超えず、５つの試験片の全てに関する燃焼時間の合計は５０秒を超えず、試験片の下方に配置した綿ガーゼ片を発火させる垂れ（ドリップ）粒子は発生せず、クランプまでの燃焼は起こらない。Ｖ−１等級に関しては、第１又は第２の炎の適用からの個々の燃焼時間はいずれも３０秒を超えず、５つの試験片の全てに関する燃焼時間の合計は２５０秒を超えず、試験片の下方に配置した綿ガーゼ片を発火させる垂れ粒子は発生しない。Ｖ−２等級に関しては、第１又は第２の炎の適用からの個々の燃焼時間はいずれも３０秒を超えず、５つの試験片の全てに関する燃焼時間の合計は２５０秒を超えず、試験片の下方に配置した綿ガーゼ片を発火させる垂れ粒子が発生するが、クランプまでの燃焼は起こらない。
表１１における特性結果は、これらの配合物が優れたＵＶ安定性を示し、また、それらを導電ケーブル用の被覆材として用いるのに好適にする物理的、電気的、及び難燃特性を有することを示す。これらの組成物は、ｉＰｏｄのようなソリッドステートのオーディオ及びオーディオ／ビデオプレイヤーと共に用いるケーブル用の被覆材として用いるのに特に好適である。
実施例３９〜４１、比較例３８〜４０：
これらの実施例は、本発明のＵＶ安定化の有利性がポリオレフィンを含む組成物にも拡張されることを更に示す。
これらの実施例は、本発明のＵＶ安定化の有利性がポリオレフィンを含む組成物にも拡張されることを更に示す。
０．９２４ｇ／ｍＬの密度、１２３℃の融点、並びにＡＳＴＭ−Ｄ１２３８にしたがって１９０℃及び２．１６ｋｇの力において測定して２０ｇ／１０分のメルトインデックスを有する線状低密度ポリエチレンを、DowからDNDA-7144 NT7として得た。この線状低密度ポリエチレンは表１２において「LLDPE-2」と示す。他の成分は全て上記に記載したとおりである。
表１２における結果は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、トリアリールホスフェート、ポリオレフィン、及び紫外線安定剤を用いる実施例３９〜４１によって優れたＵＶ安定性が示されたことを示す（１．４３以下の３００時間でのΔＥの値によって示される）。紫外線安定剤を含まない対応する比較例３８〜４０は、遙かに悪いＵＶ安定性を示した（４．６９以上の３００時間でのΔＥの値によって示される）。
実施例４２、比較例４１：
これらの実施例は、本発明のＵＶ安定性の有利性がエチレン／α−オレフィンコポリマーを含む組成物にも拡張されることを示す。
これらの実施例は、本発明のＵＶ安定性の有利性がエチレン／α−オレフィンコポリマーを含む組成物にも拡張されることを示す。
ＩＳＯ−１１８３にしたがって測定して２３℃において０．８８２ｇ／ｍＬの密度、ＡＳＴＭ−Ｄ３４１８にしたがって示差走査熱量測定によって測定して７０℃の融点、並びにＩＳＯ−１１３３にしたがって１９０℃及び２．１６ｋｇの力において測定して１．１ｄｇ／分のメルトフローレートを有するエチレン−オクテンコポリマーを、DEXPLASTOMERSからExact 8201として得た（表１３において「PEO」）。ブチル化トリフェニルホスフェートをSuprestaから得た（表１３において「BTPP」）。他の成分は全て上記に記載した通りである。
表１３における結果は、ポリ（アリーレンエーテル）、水素化ブロックコポリマー、エチレン−オクテンコポリマー、トリアリールホスフェート、及び紫外線安定剤を含む実施例４２は優れたＵＶ安定性を示し、これに対して紫外線安定剤を含まない比較例４１は非常に劣ったＵＶ安定性を示したことを示す。
実施例４３〜４８：
これらの実施例は、難燃剤のタイプ及び量における変動の効果を示す。実施例４３及び４４においては、難燃剤はメラミンポリホスフェートとビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせであり；２つの試料はビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の量において僅かに異なる。実施例４３及び４４は、NagaseからNUCG5381として得られる線状低密度ポリエチレン（表１４において「LLDPE-3」）も含む。実施例４５〜４８は線状低密度ポリエチレンを含まない。実施例４５及び４６においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせである。実施例４７及び４８においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせである。
これらの実施例は、難燃剤のタイプ及び量における変動の効果を示す。実施例４３及び４４においては、難燃剤はメラミンポリホスフェートとビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせであり；２つの試料はビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の量において僅かに異なる。実施例４３及び４４は、NagaseからNUCG5381として得られる線状低密度ポリエチレン（表１４において「LLDPE-3」）も含む。実施例４５〜４８は線状低密度ポリエチレンを含まない。実施例４５及び４６においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせである。実施例４７及び４８においては、難燃剤は、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、及びレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせである。
表１４における結果は、全ての試料が優れたＵＶ安定性を示すことを示す。これらの結果はまた、線状低密度ポリエチレン、並びにメラミンポリホスフェートとビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）の組み合わせの難燃剤を含む実施例４３及び４４は、非常に望ましいＵＬ９４のＶ−０等級を達成したことも示す。また、これらの結果は、線状低密度ポリエチレンを含まない実施例４５〜４８は、幾つかのケーブル被覆材用途に必要な比較的低いショアＡ硬度値を示したことを示す。また、これらの結果は、ＢＰＡＤＰはＵＶ安定性のためにはＲＤＰよりも良好であることを示す。
この記載は、ベストモードを含む本発明を開示し、また当業者が本発明を製造及び使用することができるような例を用いている。発明の特許範囲は特許請求の範囲によって規定され、当業者が想到する他の例を含むことができる。かかる他の例は、それらが特許請求の範囲の文言と異ならない構造要素を有するか、或いは特許請求の範囲の文言から大きくは異ならない等価の構造要素を含むならば、特許請求の範囲内に含まれると意図される。
全ての引用された特許、特許出願、及び他の参照文献は、その全てを参照として本明細書中に包含する。しかしながら、本出願における用語が、包含された参照文献中の用語と反するか又は対立する場合には、本出願からの用語は、包含された参照文献からの対立する用語に優先する。
本明細書において開示する全ての範囲は、端点を包含するものであり、端点は独立して互いに組み合わせることができる。
発明の説明に関連して（特に特許請求の範囲に関連して）用語「a」、及び「an」、及び「the」、及び同様の指示詞を用いることは、本明細書において他に示すか又は記載によって明確に反しない限りにおいて、単数及び複数の両方を包含すると解釈すべきである。更に、本明細書における「第１」、「第２」などの用語は、順番、量、又は重要性を示すものではなく、１つの要素を他から区別するために用いるものであることを注意すべきである。量に関して用いる修飾語「約」は、示した値を包含するものであり、文脈によって定まる意味を有する（例えば、特定の量の測定値に関係する誤差の程度を包含する）。
発明の説明に関連して（特に特許請求の範囲に関連して）用語「a」、及び「an」、及び「the」、及び同様の指示詞を用いることは、本明細書において他に示すか又は記載によって明確に反しない限りにおいて、単数及び複数の両方を包含すると解釈すべきである。更に、本明細書における「第１」、「第２」などの用語は、順番、量、又は重要性を示すものではなく、１つの要素を他から区別するために用いるものであることを注意すべきである。量に関して用いる修飾語「約」は、示した値を包含するものであり、文脈によって定まる意味を有する（例えば、特定の量の測定値に関係する誤差の程度を包含する）。
Claims (39)
- １０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；
５〜４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；
１０〜５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；
８〜２５重量％の可塑剤；
１〜１２重量％の白色顔料；及び
０．１〜５重量％の紫外線安定剤；
を含み；
組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；
全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；
組成物は、
ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；
を示す組成物。 - 少なくとも８０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*を示す、請求項１に記載の組成物。
- ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に５００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥを示す、請求項１又は２に記載の組成物。
- ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に１０００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥを示す、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
- ＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して３００ＭＰａ以下の曲げ弾性率を示す、請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
- ＡＳＴＭ−Ｄ６３８にしたがって測定して１００％以上の２３℃における引張り伸びを示す、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
- 水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーである、請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
- 水素化ブロックコポリマーの少なくとも一部が、水素化ブロックコポリマー、エチレン−プロピレンコポリマー、及び鉱油を含む溶融混練ブレンドの形態で与えられる、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
- エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンである、請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
- 可塑剤が、安息香酸エステル、ペンタエリトリトールエステル、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、ピロメリット酸エステル、トリアリールホスフェート、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜９のいずれかに記載の組成物。
- 可塑剤がトリアリールホスフェートである、請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
- 可塑剤がビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）である、請求項１〜１１のいずれかに記載の組成物。
- 白色顔料が、硫化亜鉛、二酸化チタン、又はこれらの混合物である、請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
- 紫外線安定剤が、ベンゾフェノンＵＶ吸収剤、ベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤、ヒンダードアミン光安定剤、シンナメートＵＶ吸収剤、オキサニリドＵＶ吸収剤、２−（２’−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンＵＶ吸収剤、ベンゾオキサジノンタイプのＵＶ吸収剤、及びこれらの混合物からなる群から選択されるＵＶ吸収剤である、請求項１〜１３のいずれかに記載の組成物。
- 紫外線安定剤が脂環式エポキシ化合物を更に含む、請求項１４に記載の組成物。
- ポリブテンを更に含む、請求項１〜１５のいずれかに記載の組成物。
- ポリブテンが７００〜１，０００原子質量単位の数平均分子量を有する、請求項１６に記載の組成物。
- １〜３０重量％のポリエチレンホモポリマー、ポリプロピレンホモポリマー、又はこれらの混合物を更に含む、請求項１〜１７のいずれかに記載の組成物。
- 組成物がポリエチレンホモポリマー及びポリプロピレンホモポリマーを含まない、請求項１〜１７のいずれかに記載の組成物。
- ２〜２０重量％の鉱油を更に含む、請求項１〜１９のいずれかに記載の組成物。
- 水酸化マグネシウム、メラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される難燃剤を更に含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の組成物。
- 水酸化マグネシウム及びメラミンポリホスフェートを含む難燃剤を更に含み、３．２ｍｍの厚さにおいてＶ−０のＵＬ９４等級を示す、請求項１〜２１のいずれかに記載の組成物。
- 水酸化マグネシウム及びメラミンポリホスフェートを含む難燃剤を更に含み、３．２ｍｍの厚さにおいてＶ−１のＵＬ９４等級を示す、請求項１〜２１のいずれかに記載の組成物。
- ポリ（アリーレンエーテル）を含む分散相及びエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーを含む連続相を含む、請求項１〜２３のいずれかに記載の組成物。
- 組成物が２５〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）を含み；
ポリ（アリーレンエーテル）がポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）であり；
組成物が２０〜３５重量％の水素化ブロックコポリマーを含み；
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーであり；
組成物が１０〜３０重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーを含み；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり；
組成物が２〜１０重量％のポリブテンを更に含み；
組成物が８〜２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物を更に含み；
組成物が４〜１０重量％の水酸化マグネシウム更に含み；
組成物が４〜１１重量％のメラミンポリホスフェートを更に含み；
組成物が２〜６重量％の白色顔料を含み；
白色顔料が二酸化チタンであり；
紫外線安定剤が、
０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；
０．３〜０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び
０．６〜１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；
を含み；
組成物が、
８０〜９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；
−１．５〜０．５のＣＩＥａ*値；
−２．５〜１．５のＣＩＥｂ*値；
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して５０〜１００ＭＰａの曲げ弾性率；
を示す、請求項１に記載の組成物。 - 組成物がＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に５００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２の色シフトΔＥを示す、請求項２５に記載の組成物。
- 組成物がＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に１，０００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２の色シフトΔＥを示す、請求項２５又は２６に記載の組成物。
- １０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；
５〜４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；
１０〜５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；
８〜２５重量％の可塑剤；
１〜１２重量％の白色顔料；及び
０．１〜５重量％の紫外線安定剤；
を溶融混練することを含む熱可塑性組成物の製造方法であって、
ここで、組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；
全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；
組成物は、
ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；
を示す上記方法。 - ポリ（アリーレンエーテル）及び可塑剤を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、請求項２８に記載の方法。
- ポリ（アリーレンエーテル）、可塑剤、及び紫外線安定剤を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、請求項２８又は２９に記載の方法。
- ポリ（アリーレンエーテル）の量が２５〜４５重量％であり；
ポリ（アリーレンエーテル）がポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）であり；
水素化ブロックコポリマーの量が２０〜３５重量％であり；
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーであり；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーの量が１０〜３０重量％であり；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり；
組成物が２〜１０重量％のポリブテンを更に含み；
組成物が８〜２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物を更に含み；
組成物が４〜１０重量％の水酸化マグネシウムを更に含み；
組成物が４〜１１重量％のメラミンポリホスフェートを更に含み；
白色顔料の量が２〜６重量％であり；
白色顔料が二酸化チタンであり；
紫外線安定剤が、
０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；
０．３〜０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び
０．６〜１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；
を含み；
組成物は、
８０〜９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；
−１．５〜０．５のＣＩＥａ*値；
−２．５〜１．５のＣＩＥｂ*値；
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して５０〜１００ＭＰａの曲げ弾性率；
を示す、請求項２８に記載の方法。 - ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；及び
ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物；
を、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、請求項３１に記載の方法。 - ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）；
ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物；
脂環式エポキシ樹脂；
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び
ビス（ピペリジニル）セバケートを、水素化ブロックコポリマーとブレンドする前に互いにブレンドする、請求項３１に記載の方法。 - １０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；
５〜４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；
１０〜５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；
８〜２５重量％の可塑剤；
１〜１２重量％の白色顔料；及び
０．１〜５重量％の紫外線安定剤；
を含み；
組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；
全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；
組成物は、
ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；
を示す組成物を含む物品。 - ケーブル絶縁材である、請求項３４に記載の物品。
- 組成物が２５〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）を含み；
ポリ（アリーレンエーテル）がポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）であり；
組成物が２０〜３５重量％の水素化ブロックコポリマーを含み；
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーであり；
組成物が１０〜３０重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーを含み；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり；
組成物が２〜１０重量％のポリブテンを更に含み；
組成物が８〜２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物を更に含み；
組成物が４〜１０重量％の水酸化マグネシウム更に含み；
組成物が４〜１１重量％のメラミンポリホスフェートを更に含み；
組成物が２〜６重量％の白色顔料を含み；
白色顔料が二酸化チタンであり；
紫外線安定剤が、
０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；
０．３〜０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び
０．６〜１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；
を含み；
組成物が、
８０〜９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；
−１．５〜０．５のＣＩＥａ*値；
−２．５〜１．５のＣＩＥｂ*値；
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して５０〜１００ＭＰａの曲げ弾性率；
を示す、請求項３４に記載の物品。 - ケーブル絶縁材である、請求項３６に記載の物品。
- １０〜４５重量％のポリ（アリーレンエーテル）；
５〜４０重量％のアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー；
１０〜５５重量％のエチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマー；
８〜２５重量％の可塑剤；
１〜１２重量％の白色顔料；及び
０．１〜５重量％の紫外線安定剤；
を含み；
組成物は２０重量％以下のラバー変性ポリスチレンを含み；
全ての重量％は組成物の全重量を基準とするものであり；
組成物は、
ＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して少なくとも７０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して３以下のＣＩＥ色シフトΔＥ；
を示す組成物で電線を押出被覆することを含む、電線の絶縁方法。 - ポリ（アリーレンエーテル）の量が２５〜４５重量％であり；
ポリ（アリーレンエーテル）がポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）であり；
水素化ブロックコポリマーの量が２０〜３５重量％であり；
水素化ブロックコポリマーがポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーであり；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーの量が１０〜３０重量％であり；
エチレンとＣ3〜Ｃ12−α−オレフィンとのコポリマーが線状低密度ポリエチレンであり；
組成物が２〜１０重量％のポリブテンを更に含み；
組成物が８〜２５重量％のビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、又はこれらの混合物を更に含み；
組成物が４〜１０重量％の水酸化マグネシウム更に含み；
組成物が４〜１１重量％のメラミンポリホスフェートを更に含み；
白色顔料の量が２〜６重量％であり；
白色顔料が二酸化チタンであり；
紫外線安定剤が、
０．１〜０．６重量％の脂環式エポキシ樹脂；
０．３〜０．７重量％のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール；及び
０．６〜１．５重量％のビス（ピペリジニル）セバケート；
を含み；
組成物が、
８０〜９０の値のＣＩＥ明度値Ｌ*；
−１．５〜０．５のＣＩＥａ*値；
−２．５〜１．５のＣＩＥｂ*値；
ＡＳＴＭ−Ｄ４４５９にしたがってキセノンアーク照射に３００時間曝露した後にＡＳＴＭ−Ｄ２２４４にしたがって測定して０．１〜２のＣＩＥＬＡＢ色シフトΔＥ；及び
ＡＳＴＭ−Ｄ７９０にしたがって２３℃において測定して５０〜１００ＭＰａの曲げ弾性率；
を示す、請求項３８に記載の方法。
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