JP2014220408A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014220408A5
JP2014220408A5 JP2013099269A JP2013099269A JP2014220408A5 JP 2014220408 A5 JP2014220408 A5 JP 2014220408A5 JP 2013099269 A JP2013099269 A JP 2013099269A JP 2013099269 A JP2013099269 A JP 2013099269A JP 2014220408 A5 JP2014220408 A5 JP 2014220408A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust pipe
chamber
apc valve
valve
exhausted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013099269A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014220408A (ja
JP6088346B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013099269A priority Critical patent/JP6088346B2/ja
Priority claimed from JP2013099269A external-priority patent/JP6088346B2/ja
Priority to US14/247,603 priority patent/US9418884B2/en
Priority to TW103113016A priority patent/TWI623056B/zh
Priority to KR1020140048657A priority patent/KR102035584B1/ko
Publication of JP2014220408A publication Critical patent/JP2014220408A/ja
Publication of JP2014220408A5 publication Critical patent/JP2014220408A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6088346B2 publication Critical patent/JP6088346B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

チャンバ30の下部には排気管46が接続され、排気管46の末端には真空ポンプが取り付けられている。これにより、エッチングにより生成した反応生成物などが排気管46を通して外部の排ガス処理装置に排気されるようになっている。チャンバ30の近傍の排気管46にはAPCバルブ48(自動圧力コントロールバルブ)が設けられており、チャンバ30内が設定圧力になるようにAPCバルブ48の開度が自動調整される。
JP2013099269A 2013-05-09 2013-05-09 静電チャック及び半導体製造装置 Active JP6088346B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013099269A JP6088346B2 (ja) 2013-05-09 2013-05-09 静電チャック及び半導体製造装置
US14/247,603 US9418884B2 (en) 2013-05-09 2014-04-08 Electrostatic chuck and semiconductor manufacturing device
TW103113016A TWI623056B (zh) 2013-05-09 2014-04-09 靜電夾頭及半導體製造裝置
KR1020140048657A KR102035584B1 (ko) 2013-05-09 2014-04-23 정전 척 및 반도체 제조 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013099269A JP6088346B2 (ja) 2013-05-09 2013-05-09 静電チャック及び半導体製造装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014220408A JP2014220408A (ja) 2014-11-20
JP2014220408A5 true JP2014220408A5 (ja) 2016-01-28
JP6088346B2 JP6088346B2 (ja) 2017-03-01

Family

ID=51864613

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013099269A Active JP6088346B2 (ja) 2013-05-09 2013-05-09 静電チャック及び半導体製造装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9418884B2 (ja)
JP (1) JP6088346B2 (ja)
KR (1) KR102035584B1 (ja)
TW (1) TWI623056B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9853579B2 (en) * 2013-12-18 2017-12-26 Applied Materials, Inc. Rotatable heated electrostatic chuck
JP2017103389A (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 新光電気工業株式会社 静電チャック及び半導体製造装置
JP6531693B2 (ja) * 2016-03-30 2019-06-19 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置、静電チャック装置の製造方法
JP6858035B2 (ja) * 2017-02-27 2021-04-14 新光電気工業株式会社 基板固定具及び基板固定装置
JP6830030B2 (ja) * 2017-04-27 2021-02-17 新光電気工業株式会社 静電チャック及び基板固定装置
US11289355B2 (en) 2017-06-02 2022-03-29 Lam Research Corporation Electrostatic chuck for use in semiconductor processing
JP7378210B2 (ja) * 2019-01-17 2023-11-13 新光電気工業株式会社 セラミック部材の製造方法
KR20230096465A (ko) 2021-12-23 2023-06-30 주식회사 미코세라믹스 세라믹 서셉터의 제조 방법
JP7194306B1 (ja) 2022-07-27 2022-12-21 黒崎播磨株式会社 アルミナ焼結体及び静電チャック

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002231796A (ja) * 2001-01-30 2002-08-16 Kyocera Corp 静電チャック
JP4248833B2 (ja) * 2002-09-12 2009-04-02 株式会社ソディック セラミックス及びその製造方法
US6982125B2 (en) * 2002-12-23 2006-01-03 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. ALN material and electrostatic chuck incorporating same
JP4364593B2 (ja) * 2003-09-29 2009-11-18 新光電気工業株式会社 アルミナ質セラミック板及びその製造方法
KR100918190B1 (ko) * 2005-04-22 2009-09-22 주식회사 코미코 치밀질 질화알루미늄 소결체, 그 제조 방법 및 상기소결체를 이용한 반도체 제조용 부재
JP5042886B2 (ja) 2008-03-06 2012-10-03 太平洋セメント株式会社 静電チャック
JP5644161B2 (ja) * 2010-04-12 2014-12-24 住友電気工業株式会社 半導体保持用の静電チャックおよびその製造方法
JP5593299B2 (ja) * 2011-11-25 2014-09-17 東京エレクトロン株式会社 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014220408A5 (ja)
JP2015513801A5 (ja)
MX2016012204A (es) Accesorio para un aparato electrodomestico portatil.
JP2011523810A5 (ja)
EP3406160A3 (en) An attachment for a handheld appliance
WO2012134055A3 (ko) 진공 그리퍼 장치
JP2015500944A5 (ja)
JP2014148955A5 (ja)
JP2017537928A5 (ja)
JP2016122795A5 (ja)
JP2018501475A5 (ja)
TWD171574S (zh) 低輪廓排氣罩之部分
WO2012145395A3 (en) Fluid pump and method of pumping a fluid
JP2018505773A5 (ja)
JP2013192867A5 (ja)
MY189897A (en) Vacuum insulation body
JP2018502424A5 (ja)
CA2890803C (en) Home cooking appliance having a rear exhaust louver
AU2017260337A1 (en) Ostomy pouch with tortuous path
TWD171078S (zh) 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分
JP2012076309A5 (ja)
TWD171575S (zh) 低輪廓排氣罩之部分
MY167660A (en) Sound muffler and oxygen concentration device comprising the same
JP2010199497A5 (ja)
WO2015135681A3 (de) Verfahren zum abkühlen einer dampfturbine