JP2014220408A5 - - Google Patents

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チャンバ30の下部には排気管46が接続され、排気管46の末端には真空ポンプが取り付けられている。これにより、エッチングにより生成した反応生成物などが排気管46を通して外部の排ガス処理装置に排気されるようになっている。チャンバ30の近傍の排気管46にはAPCバルブ48(自動圧力コントロールバルブ)が設けられており、チャンバ30内が設定圧力になるようにAPCバルブ48の開度が自動調整される。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9853579B2 (en) * 2013-12-18 2017-12-26 Applied Materials, Inc. Rotatable heated electrostatic chuck
JP2017103389A (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 新光電気工業株式会社 静電チャック及び半導体製造装置
JP6531693B2 (ja) * 2016-03-30 2019-06-19 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置、静電チャック装置の製造方法
JP6858035B2 (ja) * 2017-02-27 2021-04-14 新光電気工業株式会社 基板固定具及び基板固定装置
JP6830030B2 (ja) * 2017-04-27 2021-02-17 新光電気工業株式会社 静電チャック及び基板固定装置
US11289355B2 (en) 2017-06-02 2022-03-29 Lam Research Corporation Electrostatic chuck for use in semiconductor processing
KR20230096465A (ko) 2021-12-23 2023-06-30 주식회사 미코세라믹스 세라믹 서셉터의 제조 방법
JP7194306B1 (ja) 2022-07-27 2022-12-21 黒崎播磨株式会社 アルミナ焼結体及び静電チャック

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002231796A (ja) * 2001-01-30 2002-08-16 Kyocera Corp 静電チャック
JP4248833B2 (ja) * 2002-09-12 2009-04-02 株式会社ソディック セラミックス及びその製造方法
US6982125B2 (en) * 2002-12-23 2006-01-03 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. ALN material and electrostatic chuck incorporating same
JP4364593B2 (ja) * 2003-09-29 2009-11-18 新光電気工業株式会社 アルミナ質セラミック板及びその製造方法
KR100918190B1 (ko) * 2005-04-22 2009-09-22 주식회사 코미코 치밀질 질화알루미늄 소결체, 그 제조 방법 및 상기소결체를 이용한 반도체 제조용 부재
JP5042886B2 (ja) 2008-03-06 2012-10-03 太平洋セメント株式会社 静電チャック
JP5644161B2 (ja) * 2010-04-12 2014-12-24 住友電気工業株式会社 半導体保持用の静電チャックおよびその製造方法
JP5593299B2 (ja) * 2011-11-25 2014-09-17 東京エレクトロン株式会社 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

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