JP2014220408A - 静電チャック及び半導体製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図2及び図3は実施形態の静電チャックを示す図である。図2に示すように、実施形態の静電チャック1では、アルミニウムベース10の上に載置台20が配置されている。載置台20の中には静電電極22及びヒータ24が配置されている。載置台20は酸化アルミニウム(Al2O3)を主成分とするセラミックスから形成される。
SiO2:2.6wt%
MgO:1.0wt%〜1.1wt%
CaO:0.2wt%に固定
また、全てのサンプル1〜7において、それらの相対密度が95.5%以上になるように作成した。なお、加熱時に、ウェハの脱離が問題にならないセラミックスの体積抵抗率のスペックは、1E+16Ωcm〜1E+17Ωcmの範囲とする。
Claims (9)
- 酸化アルミニウム及び酸化イットリウムを含むセラミックスから形成された載置台と、
前記載置台の中に配置された静電電極と
を有し、
前記酸化イットリウムの含有率が0.5wt%〜2.0wt%であることを特徴とする静電チャック。 - 前記酸化イットリウムの含有率が1.0wt%〜2.0wt%であることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 前記静電チャックは、100℃〜200℃の温度で加熱されて使用されることを特徴とする請求項1又は2に記載の静電チャック。
- 前記セラミックスは、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、及び酸化カルシウムを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の静電チャック。
- 前記酸化アルミニウムの含有率は94.2wt%〜96.1wt%であり、前記二酸化ケイ素の含有率は2.6wt%であり、前記酸化マグネシウムの含有率は1.0wt%〜1.1wt%であり、前記酸化カルシウムの含有率は0.2wt%であることを特徴とする請求項4に記載の静電チャック。
- 前記セラミックスの相対密度は、95.5%以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の静電チャック。
- 前記静電チャックは、ヒータを備えていることを特徴とする請求項3に記載の静電チャック。
- 前記静電チャックが150℃で加熱される場合、前記酸化イットリウムの含有率が上がるにつれて、前記セラミックスの体積抵抗率が直線状に上がり、
前記酸化イットリウムの含有率によって前記セラミックスの体積抵抗率を調整することを特徴とする請求項3に記載の静電チャック。 - チャンバと、
前記チャンバに取り付けられた静電チャックとを備え、
前記静電チャックは、
酸化アルミニウム及び酸化イットリウムを含むセラミックスから形成された載置台と、
前記載置台の中に配置された静電電極と
を有し、
前記酸化イットリウムの含有率が0.5wt%〜2.0wt%であることを特徴とする半導体製造装置。
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