JP2014219301A - 外観検査装置及び外観検査方法 - Google Patents

外観検査装置及び外観検査方法 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、撮像装置の調整ばらつきが抑制された外観検査装置及び外観検査方法外観検査装置及び外観検査方法を提供する。【解決手段】倍率調整機構を有し、撮影対象物の画像を撮影する撮像装置と、撮像装置によって撮影された撮影対象物の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成する画像処理装置と、複数の拡大画像を表示する表示装置と、撮像装置の設置位置を調整する位置調整機構とを備え、表示装置に表示された複数の拡大画像を確認しながら位置調整機構によって撮像装置の設置位置を調整し且つ倍率調整機構によって撮像装置の倍率を調整し、設置位置及び倍率が調整された撮像装置によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査を行う。【選択図】図1

Description

本発明は、検査対象物を撮影する撮像装置を用いた外観検査装置及び外観検査方法に関する。
太陽電池セルなどの半導体装置について、傷や異物の付着、クラック、汚れ、むらなどの欠陥の有無や状態が検査される。例えば、カメラなどの撮像装置を用いて得られた画像を用いて半導体装置の外観検査を行う外観検査装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2011−203132号公報
撮像装置を用いた外観検査においては、撮影された画像を目視しながら検査作業者が撮像装置の設置位置や倍率などを調整する。このため、調整された撮像装置の設置位置や倍率に検査作業者の個人差によるばらつきが発生するという問題があった。
上記問題点に鑑み、本発明は、撮像装置の調整ばらつきが抑制された外観検査装置及び外観検査方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様によれば、(イ)倍率調整が可能な撮像装置によって撮影対象物の画像を撮影するステップと、(ロ)撮像装置によって撮影された撮影対象物の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成するステップと、(ハ)表示装置に複数の拡大画像を表示するステップと、(ニ)表示装置に表示された複数の拡大画像を確認しながら撮像装置の設置位置を調整し、且つ撮像装置の倍率を調整するステップと、(ホ)設置位置及び倍率が調整された撮像装置によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査を行うステップとを含む外観検査方法が提供される。
本発明の他の態様によれば、(イ)倍率調整機構を有し、撮影対象物の画像を撮影する撮像装置と、(ロ)撮像装置によって撮影された撮影対象物の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成する画像処理装置と、(ハ)複数の拡大画像を表示する表示装置と、(ニ)撮像装置の設置位置を調整する位置調整機構とを備え、表示装置に表示された複数の拡大画像を確認しながら位置調整機構によって撮像装置の設置位置が調整され且つ倍率調整機構によって撮像装置の倍率が調整されて、設置位置及び倍率が調整された撮像装置によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査が行われる外観検査装置が提供される。
本発明によれば、撮像装置の調整ばらつきが抑制された外観検査装置及び外観検査方法を提供できる。
本発明の第1の実施形態に係る外観検査装置の構成を示す模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る外観検査装置によって拡大される領域の例を示す模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る外観検査装置の表示装置に表示される画像の例を示す模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る外観検査装置により作成される合成画像の例を示す模式図である。 本発明の第1の実施形態に係る外観検査方法を説明するためのフローチャートである。 本発明の第2の実施形態に係る外観検査装置の構成を示す模式図である。 本発明の第2の実施形態に係る外観検査方法を説明するためのフローチャートである。
次に、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであることに留意すべきである。又、以下に示す実施形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施形態は、構成部品の構造、配置などを下記のものに特定するものでない。この発明の実施形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
(第1の実施形態)
図1に示す本発明の第1の実施形態に係る外観検査装置1は、半導体装置などの外観検査に使用される。外観検査装置1は、撮影対象物100の画像を撮影する第1の撮像装置11及び第2の撮像装置12(以下において、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12を総称して「撮像装置10」という。)と、撮像装置10によって撮影された撮影対象物100の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成する画像処理装置20と、画像処理装置20により作成された複数の拡大画像を表示する表示装置30と、撮像装置10の設置位置を調整する位置調整機構40とを備える。
撮像装置10には、撮影画像の倍率を調整する倍率調整機構15が付属している。倍率調整機構15を調整することにより、撮像装置10によって撮影された画像の倍率を調整することができる。撮像装置10には、例えば電荷結合素子(CCD)カメラや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)カメラなどを採用可能である。撮像装置10によって撮影された画像のデータは、画像処理装置20に送信される。
外観検査装置1によれば、撮像装置10によって撮影された撮影対象物100の複数の領域の拡大画像が、リアルタイムで表示装置30に表示される。検査作業者は、表示装置30に表示された撮影対象物100の複数の拡大画像を確認しながら、位置調整機構40によって撮像装置10の設置位置を調整し、且つ倍率調整機構15の調整により撮像装置10の倍率を調整する。そして、設置位置や倍率が調整された撮像装置10により撮影された検査対象物の画像を用いて、外観検査が行われる。
位置調整機構40は、第1の撮像装置11の設置位置を調整する第1の調整装置41と、第2の撮像装置12の設置位置を調整する第2の調整装置42を有する。このため、位置調整機構40により、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12をそれぞれ独立に調整できる。
なお、外観検査においては、図示を省略する照明装置によって検査対象物に照明光が照射される。例えば、検査対象物で反射される反射光を検査光として用いて、検査対象物の傷や異物などが検出される。どのような外観検査を行うかによって、照明光の波長や方向、及び撮像装置10の設置位置が決定される。
また、第1の撮像装置11及び第2の撮像装置12によって同時に撮影対象物100を撮影できるように、ステージ60に搭載された撮影対象物100と撮像装置10との間に、光学装置50が配置されている。光学装置50には、撮影対象物100からの検査光を第1の方向と第2の方向、例えば垂直方向と水平方向に分岐する光学素子を使用する。光学装置50を配置することによって、2方向から同時に撮影対象物100を光学的に観察できる。
図1に示した光学装置50は、撮影対象物100からの検査光の一部を上方に透過させ、他の一部を横方向に反射させる。これにより、光学装置50の上方に配置された第1の撮像装置11と、光学装置50の横方向に配置された第2の撮像装置12によって、撮影対象物100について同一領域の画像が同時に撮影される。なお、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12の位置が図1に示した位置に限定されないのはもちろんである。検査光を分岐するために、例えばハーフミラーやダイクロイックミラーなどを光学装置50に採用可能である。
画像処理装置20は、撮像装置10によって撮影された画像の所定の領域を拡大する画像拡大部21と、複数の撮像装置10によってそれぞれ撮影された画像を合成して合成画像を作成する画像合成部22を備える。
画像拡大部21によって拡大される領域の位置及び個数は、任意に設定可能である。画像を目視しながらできるだけ広い領域について撮像装置10の設置位置及び倍率を調整することが好ましいため、拡大する領域は互いに離間して設定される。例えば図2に示すように、矩形状の画像の4隅に設定された領域A1〜領域A4を拡大する。なお、拡大する領域は4箇所とは限られず、例えば各辺の中心領域も含めて8箇所を拡大してもよい。
表示装置30は、画像拡大部21によって作成された拡大画像をリアルタイムで表示する。例えば図3に示すように、表示装置30は領域A1〜領域A4の拡大画像を配列して同時に表示する。検査作業者は、表示装置30に表示された複数の領域の拡大画像を目視しながら、位置調整機構40によって撮像装置10の設置位置を調整すると共に、倍率調整機構15によって撮像装置10の倍率を調整する。
具体的には、撮影対象物100の所望の領域が撮影されるように、位置調整機構40を用いて撮像装置10の設置位置が調整される。更に、外観検査に適した所定の倍率が得られるように、倍率調整機構15によって撮像装置10の倍率が調整される。即ち、適正な位置に適正な大きさで検査対象物が表示装置30に表示されるように、撮像装置10の設置位置及び倍率が調整される。
拡大した画像を用いることにより、外観検査を行う所定の倍率に個人差なく撮像装置10を調整できる。なお、撮像装置10の倍率は、検査対象物の大きさや要求される検査精度などに応じて任意に設定される。例えば、156mm角の基板の外観検査においては、90μm/ピクセル程度に倍率が設定される。
また、複数の領域について拡大することにより、検査対象物の全体に渡って所定の倍率で検査することができる。更に、検査対象物の真上から垂直方向に撮影した画像が取得されていることを確認できる。
上記のように、検査作業者は、表示装置30に表示された撮影対象物100について複数の領域の拡大画像を確認しながら、適切な範囲及び倍率で外観検査を実施できるように撮像装置10の設置位置及び倍率を調整する。このため、図1に示した外観検査装置1によれば、撮像装置10の設置位置や倍率を、検査作業者の個人差が発生しないように調整できる。
一方、撮像装置10の調整に検査作業者による個人差があると、撮像装置10により撮影された検査対象物の画像の品質にバラツキが生じる。その結果、安定した外観検査を実施できないおそれがある。しかし、外観検査装置1によれば、検査作業者の個人差が発生しないように調整された撮像装置10を用いて、撮像装置10の調整ばらつきが抑制された外観検査を実施できる。
なお、図2に示したような白地に複数の黒丸が全面に配置された、画像のコントラストが明確な調整用パターンが撮影対象物100として好適に使用される。つまり、目視による調整がしやすいコントラストの明確なパターンを用いて、外観検査の最初に撮像装置10の設置位置や倍率の調整を行う。その後、調整された撮像装置10を用いて、検査対象物の外観検査を行う。上記のように画像のコントラストが明確な調整用パターンを使用することは、例えば検査対象物に目視による調整に適した領域が無い場合などにも有効である。
なお、図2や図3に示したような基準マーカー101を用いて、例えば以下のように撮像装置10の調整を実施することができる。
基準マーカー101は、撮影対象物100の拡大される領域に配置される。一方、撮像装置10が所定の設置位置及び倍率に調整された場合に基準マーカー101と重なるように、表示装置30の拡大画像を表示する表示画面に位置合わせパターン31が配置されている。検査作業者は、表示装置30の表示画面上で基準マーカー101と位置合わせパターン31とが重なるように、撮像装置10の設置位置及び倍率を調整する。これにより、所望の設置位置及び倍率に撮像装置10を容易に調整することができる。
ところで、図1に示したように複数の撮像装置10を用いて検査対象物を撮影することにより、外観検査に使用される多くの情報を同時に取得可能である。例えば、複数の波長で検査対象物の画像を撮影することにより波長毎に特有の情報を得ることができる。検査対象物について複数の波長での画像を同時に取得することにより、検査時間を短縮できる。第1の撮像装置11と第2の撮像装置12には、例えば受光可能な波長が異なるなど、仕様の異なる撮像装置を採用可能である。このように、複数の撮像装置10を用いることにより、種々の特徴ある検査を実行可能である。なお、例えば異なる波長光の画像を撮影する複数の撮像装置10を用意した場合には、複数のカラーフィルタを有する光学装置50によって波長の異なる複数の光に検査光を分岐することができる。
また、検査作業者は、複数の撮像装置10に共通に写っている物体について傷や異物であると判定したり、1つの撮像装置10にのみ写っている物体について不要なものか必要なものかを判定したりする。また、複数の撮像装置10に共通に写っている大きな傷や異物などを消去(キャンセル)した画像をソフトウェアによる画像処理によって作成することにより、これらの大きな傷や異物の無い画像を用いて詳細な検査をすることも可能である。複数の撮像装置10に撮影された画像データを引き算するなどの画像処理により、共通に撮影されたものをキャンセルした画像を得ることができる。
或いは、外観検査の判定に不要な画像情報を、画像処理によってキャンセルすることもできる。例えば、太陽電池セルの検査を行う場合、多結晶ウェハを用いて製造される太陽電池セルの画像には多くの粒界が写っている。このため、傷や異物などと粒界との区別がつきにくく、外観検査に支障が生じる場合がある。複数の撮像装置10に共通に写っている粒界のパターンをソフトウェア的にキャンセルすることにより、粒界のない画像を用いて外観検査を行うことができる。このため、外観検査装置1は、太陽電池セルの検査に好適に使用される。
画像処理装置20の画像合成部22により、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12によってそれぞれ撮影された撮影対象物100の画像を重ね合わせた合成画像がリアルタイムで作成される。即ち、画像合成部22は、第1の撮像装置11により撮影された画像(以下において、「第1の画像」という。)のデータD1と、第2の撮像装置12により撮影された画像(以下において、「第2の画像」という。)のデータD2から、合成画像のデータを作成する。合成画像のデータは、画像処理装置20から表示装置30に送信される。合成画像は、第1の画像と第2の画像の区別がつくように、表示装置30に表示される。
検査作業者は、表示装置30に表示される合成画像を目視することによって、第1の画像と第2の画像との間で撮影対象物100の位置にずれが生じているか否かを判断することができる。合成画像に撮影対象物100の位置ずれが発生している場合、検査作業者は、表示装置30にリアルタイムで表示される合成画像を目視しながら、重ね合わせの位置ずれがない合成画像(以下において「適正合成画像」という。)が得られるように、位置調整機構40を操作して撮像装置10の設置位置を調整する。
第1の調整装置41と第2の調整装置42を有する位置調整機構40により、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12をそれぞれ独立に調整できる。したがって、第1の撮像装置11と第2の撮像装置12により撮影された画像を重ね合わせた時に撮影対象物100の位置ずれがないように、第1の撮像装置11及び第2の撮像装置12を移動させることは容易である。
図4に、画像合成部22によって作成された合成画像において、第1の画像と第2の画像間で撮影対象物100の位置にずれが生じている例を示した。図4において、黒丸印が第1の撮像装置11により撮影された第1の画像における撮影対象物100の画像であり、ハッチングをかけた丸印が第2の撮像装置12により撮影された第2の画像における撮影対象物100の画像である。位置調整機構40により、適正合成画像が得られるまで、撮像装置10の設置位置の調整が行われる。
既に述べたように、複数の撮像装置10によって撮影された画像を合成した合成画像を用いて、ソフトウェア的に種々の画像処理を行うことができる。このとき、撮像装置10の設置位置や倍率が適切でないと、所望の画像処理を行うことが困難である。このため、撮像装置10の設置位置や倍率の機械的な調整が行われるが、画像処理を行う場合に、更に各撮像装置10の設置位置と倍率をソフトウェア的に合わせる補正が必要であることが多い。
このため、撮像装置10の機械的な調整が不十分であると、ソフトウェア的に行う補正の補正値が大きくなる。その結果、画像処理に要する時間が増大するなどの問題が生じ、検査結果に及ぼす影響が大きい。
しかし、外観検査装置1を用いることにより、位置調整機構40や倍率調整機構15を用いて撮像装置10の機械的な調整が十分に行われる。このため、ソフトウェア的な調整が容易になり、検査時間の増大などが抑制される。
以下に、図5を参照して、図1に示した外観検査装置1を用いた外観検査方法の例を説明する。
図5に示したように、ステップS11〜ステップS14において、すべての撮像装置10について設置位置及び倍率がそれぞれ調整される。即ち、ステップS11において、1台の撮像装置10を用いて、ステージ60に搭載された撮影対象物100の画像を撮影する。そして、ステップS12において、画像拡大部21が撮像装置10によって撮影された撮影対象物100の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して、複数の拡大画像を作成する。次いで、ステップS13において、表示装置30が複数の拡大画像を表示し、検査作業者が、表示装置30に表示された複数の拡大画像を確認しながら撮像装置10の設置位置及び倍率を調整する。
第1の撮像装置11の調整と第2の撮像装置12の調整とが、ステップS11〜ステップS13によりそれぞれ実施される。そして、ステップS14において、すべての撮像装置10について設置位置及び倍率が調整されている場合には、処理がステップS15に進む。
ステップS15において、第1の撮像装置11により撮影された第1の画像と第2の撮像装置12により撮影された第2の画像から、画像合成部22によって合成画像のデータが作成される。そして、ステップS16において、検査作業者が、表示装置30に表示される合成画像を目視しながら、適正合成画像が得られるまで撮像装置10の設置位置を調整する。
その後、ステップS17において、検査作業者は、調整された撮像装置10により撮影されたステージ60上の検査対象物の画像を用いて検査対象物の外観検査を行う。
なお、検査対象物を用いて撮像装置10の設置位置や倍率の調整を行った場合、即ち設置位置及び倍率の調整時の撮影対象物100が検査対象物である場合には、設置位置及び倍率の調整が完了した状態の画像を用いて検査対象物の外観検査を行うこともできる。
上記に説明した本発明の第1の実施形態に係る外観検査方法以外に、例えば以下のような外観検査方法がある。即ち、撮像装置10の位置は検査作業者が撮像画像の見た目で判断しながら調整する。更に、撮像装置10によってメジャーを撮影し、検査作業者がメジャーの数値を目視で確認しながら倍率を調整する。しかしながらこの方法では、調整された撮像装置の設置位置や倍率に、検査作業者による個人差が発生する。特に、撮像画素数が多い画像の場合には、縮小して表示された画像を使用して倍率調整を行うために、各撮像装置10の倍率が大きく変動することが多い。その結果、例えば、既に述べたように、複数の撮像装置10の設置位置や倍率を合わせる場合の補正値が大きくなり、検査結果に悪影響を及ぼす原因となっていた。
これに対し、外観検査装置1を用いる外観検査方法によれば、撮影対象物100について複数の領域の拡大画像を確認しながら、適切な範囲及び倍率で外観検査を実施できるように撮像装置10の設置位置及び倍率が調整される。このため、撮像装置10の設置位置や倍率が検査作業者の個人差が発生しないように調整され、この調整された撮像装置10によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査が行われる。その結果、撮像装置の調整ばらつきが抑制された外観検査が可能であり、安定した検査結果を得ることができる。
更に、外観検査に複数の撮像装置10を用いる場合に、複数の撮像装置10の撮影画像を合成した合成画像を作成し、この合成画像を用いて撮像装置10が調整される。このため、複数の撮像装置10の設置位置及び倍率の調整が容易である。また、各撮像装置10の倍率が大きく変動することがなく、検査結果に及ぼす影響が抑制される。その結果、検査時間に要する時間の増大が抑制される。
外観検査装置1は、太陽電池セルの外観検査に好適に適用される。また、太陽電池セル以外の、例えば集積回路用半導体基板や液晶基板の外観検査などにも本発明は適用可能であることはもちろんである。
(第2の実施形態)
図6に、本発明の第2の実施形態に係る外観検査装置1を示す。図6に示した外観検査装置1は、1台の撮像装置10(第1の撮像装置11)のみによって検査対象物が撮影される。このため、合成画像を作成する画像合成部22や、撮影対象物100からの検査光を分岐する光学装置50は不要である。その他の構成については、図1に示す第1の実施形態と同様である。
図7に、図6に示した外観検査装置1を用いた外観検査方法の例を示す。撮像装置10が1台である場合には、図5に示したステップS15〜ステップS16における合成画像の作成及び合成画像を用いた調整は省略される。
即ち、図7に示したステップS21において、第1の撮像装置11を用いて、撮影対象物100の画像を撮影する。そして、ステップS22において、画像拡大部21が撮影対象物100の画像の複数の領域をそれぞれ拡大して、複数の拡大画像を作成する。次いで、ステップS23において、表示装置30が複数の拡大画像を表示し、検査作業者が、表示装置30に表示された複数の拡大画像を確認しながら第1の撮像装置11の設置位置及び倍率を調整する。
その後、ステップS24において、検査作業者は、調整された第1の撮像装置11により撮影された検査対象物の画像を用いて検査対象物の外観検査を行う。
本発明の第2の実施形態に係る外観検査装置1によれば、第1の撮像装置11の設置位置や倍率を、検査作業者の個人差が発生しないように調整できる。他は、第1の実施形態と実質的に同様であるので、重複した記載を省略する。
(その他の実施形態)
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
上記では撮像装置10が2台又は1台である場合を例示的に説明したが、撮像装置10が3台以上であってもよい。例えば、外観検査装置1が検査対象物をそれぞれ搭載する複数のステージ60を有する場合に、各ステージ60に配置された複数の撮像装置10について、外観検査者の個人差なく調整することができる。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
1…外観検査装置
10…撮像装置
11…第1の撮像装置
12…第2の撮像装置
15…倍率調整機構
20…画像処理装置
21…画像拡大部
22…画像合成部
30…表示装置
31…位置合わせパターン
40…位置調整機構
41…第1の調整装置
42…第2の調整装置
50…光学装置
60…ステージ
100…撮影対象物
101…基準マーカー

Claims (11)

  1. 倍率調整が可能な撮像装置によって撮影対象物の画像を撮影するステップと、
    前記撮像装置によって撮影された前記撮影対象物の前記画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成するステップと、
    表示装置に前記複数の拡大画像を表示するステップと、
    前記表示装置に表示された前記複数の拡大画像を確認しながら前記撮像装置の前記設置位置を調整し、且つ前記撮像装置の倍率を調整するステップと、
    前記設置位置及び前記倍率が調整された前記撮像装置によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査を行うステップと
    を含むことを特徴とする外観検査方法。
  2. 複数の撮像装置について前記設置位置及び前記倍率をそれぞれ調整した後に、複数の前記撮像装置によってそれぞれ撮影された前記撮影対象物の画像を重ね合わせた合成画像を作成するステップと、
    前記合成画像に重ね合わせの位置ずれがないように前記複数の撮像装置の前記設置位置を調整するステップと
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の外観検査方法。
  3. 前記撮影対象物に配置された基準マーカーを含む領域について前記拡大画像を作成し、
    前記表示装置の前記拡大画像を表示する画面に配置された位置合わせパターンと前記基準マーカーとを合わせることにより、前記撮像装置の前記設置位置及び前記倍率を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載の外観検査方法。
  4. 矩形状である前記撮影対象物の四隅を撮影することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の外観検査方法。
  5. 前記検査対象物が太陽電池セルであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の外観検査方法。
  6. 前記撮影対象物として前記検査対象物を用いることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の外観検査方法。
  7. 倍率調整機構を有し、撮影対象物の画像を撮影する撮像装置と、
    前記撮像装置によって撮影された前記撮影対象物の前記画像の複数の領域をそれぞれ拡大して複数の拡大画像を作成する画像処理装置と、
    前記複数の拡大画像を表示する表示装置と、
    前記撮像装置の設置位置を調整する位置調整機構と
    を備え、前記表示装置に表示された前記複数の拡大画像を確認しながら前記位置調整機構によって前記撮像装置の前記設置位置が調整され且つ前記倍率調整機構によって前記撮像装置の倍率が調整されて、前記設置位置及び前記倍率が調整された前記撮像装置によって撮影された検査対象物の画像を用いて外観検査が行われることを特徴とする外観検査装置。
  8. 前記撮像装置を複数備え、
    前記画像処理装置が、複数の前記撮像装置によってそれぞれ撮影された前記撮影対象物の画像を重ね合わせた合成画像を作成し、
    前記合成画像を確認しながら前記位置調整機構によって前記撮像装置の前記設置位置が調整されることを特徴とする請求項7に記載の外観検査装置。
  9. 矩形状である前記撮影対象物の四隅を撮影することを特徴とする請求項7又は8に記載の外観検査装置。
  10. 前記検査対象物が太陽電池セルであることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか1項に記載の外観検査装置。
  11. 前記撮影対象物として前記検査対象物を用いることを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載の外観検査装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101824888B1 (ko) * 2016-10-04 2018-02-02 이경자 3차원 형상 측정 장치 및 그의 측정 방법
JP2020012669A (ja) * 2018-07-13 2020-01-23 ファナック株式会社 物体検査装置、物体検査システム、及び検査位置を調整する方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06167321A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Hitachi Ltd リード測定方法および装置並びにそれが使用されたリード検査装置
JPH0915094A (ja) * 1995-06-28 1997-01-17 Asahi Optical Co Ltd 倍率調整機能を備えた光学部材検査装置
JP2001264267A (ja) * 2000-03-15 2001-09-26 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置
JP2003227706A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Mitsutoyo Corp 画像測定装置及び画像測定装置用プログラム
JP2006170622A (ja) * 2004-12-10 2006-06-29 Olympus Corp 外観検査装置
US20090097737A1 (en) * 2004-12-10 2009-04-16 Olympus Corporation Visual inspection apparatus
JP2010239041A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Toray Eng Co Ltd 半導体ウエーハ外観検査装置の検査条件データ生成方法及び検査システム
JP2013053973A (ja) * 2011-09-06 2013-03-21 Shimadzu Corp 太陽電池セル検査装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06167321A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Hitachi Ltd リード測定方法および装置並びにそれが使用されたリード検査装置
JPH0915094A (ja) * 1995-06-28 1997-01-17 Asahi Optical Co Ltd 倍率調整機能を備えた光学部材検査装置
JP2001264267A (ja) * 2000-03-15 2001-09-26 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置
JP2003227706A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Mitsutoyo Corp 画像測定装置及び画像測定装置用プログラム
JP2006170622A (ja) * 2004-12-10 2006-06-29 Olympus Corp 外観検査装置
US20090097737A1 (en) * 2004-12-10 2009-04-16 Olympus Corporation Visual inspection apparatus
JP2010239041A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Toray Eng Co Ltd 半導体ウエーハ外観検査装置の検査条件データ生成方法及び検査システム
JP2013053973A (ja) * 2011-09-06 2013-03-21 Shimadzu Corp 太陽電池セル検査装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101824888B1 (ko) * 2016-10-04 2018-02-02 이경자 3차원 형상 측정 장치 및 그의 측정 방법
WO2018066868A1 (ko) * 2016-10-04 2018-04-12 이경자 3차원 형상 측정 장치 및 그의 측정 방법
JP2020012669A (ja) * 2018-07-13 2020-01-23 ファナック株式会社 物体検査装置、物体検査システム、及び検査位置を調整する方法
US11082621B2 (en) 2018-07-13 2021-08-03 Fanuc Corporation Object inspection device, object inspection system and method for adjusting inspection position

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