JP2014216511A - リアクトル - Google Patents

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Abstract

【課題】インダクタンスを高めつつ、小型で冷却し易いリアクトルを提供する。【解決手段】積層された冷却器81の間に配置されるリアクトル2に関する。このリアクトル2は、扁平なケーシング10と、ケーシング10内に互いに逆方向に巻き回され、径方向に配置された一対のコイル12と、ケーシング10内に充填され、コイル12を覆うコア材(高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4)と、を備えている。【選択図】図1

Description

本発明は、コイルを備えるリアクトルに関する。なお、リアクトルはコイルを利用した受動素子であり、インダクタと呼ばれることもある。
ハイブリッド車を含む電気自動車は、バッテリの出力電力を走行用モータの駆動に適した電力に変換する電力変換装置を搭載している。この電力変換装置は大電流を扱うため、インバータ回路や電圧コンバータ回路に用いられるデバイスにも許容電流の大きいものが採用されている。許容電流が大きいデバイスは発熱量が大きく、特に発熱量の大きいデバイスの一つに、電圧コンバータ回路に含まれるリアクトルがある。
リアクトルについては例えば特許文献1の技術が知られており、この特許文献1には、上下部フェライト磁性膜とその間に介装された平面コイルとから成り、上部フェライト磁性膜のコイルの端子部に開孔が形成され、その開孔を通ってコイル端子部に導通する外部電極が上部フェライト上に形成されている表面実装型のリアクトルが開示されている。
特開2001−244123号公報
ところで、電力変換装置に用いるリアクトルでは、大電流を扱うために装置が大型化する傾向があるが、ハイブリッド車等の車両に搭載するためには、小型化を図ることが求められている。また、発熱量が大きいので冷却し易い構造が求められると共に、インダクタンスを高めることも求められている。そこで、本明細書が開示する技術は、インダクタンスを高めつつ、小型で冷却し易いリアクトルを提供する。
本明細書が開示する技術は、積層された冷却器の間に配置されるリアクトルに関する。このリアクトルは、扁平なケーシングと、ケーシング内に互いに逆方向に巻き回され、径方向に配置された一対のコイルと、ケーシング内に充填され、コイルを覆うコア材と、を備えている。
このような構成によれば、コイルに電流を流すと一対のコイルに互いに逆行する磁束が発生し、この逆行する磁束が合わさって大きな磁束が発生する。これにより、リアクトルのインダクタンスを高めることができる。また、扁平なケーシングにより、体格が小さくても冷却器との接触面積を確保することができる。よって、インダクタンスを高めつつ、小型で冷却し易いリアクトルを提供することができる。
また、上記のリアクトルは、ケーシング内に充填されて一対のコイルの隣接部分を覆う高透磁率コア材と、高透磁率コア材の周囲に充填され、高透磁率コア材から露出しているコイルを覆う低透磁率コア材と、を備えていてもよい。なお、「コア材」とは、一般にコイルのコアとして利用される物質であり、通常は「高透磁率」、「低透磁率」とは相対的なものであり、高透磁率コア材は、低透磁率コア材よりも透磁率が高い材料で作られている。
高透磁率コア材及び低透磁率コア材としては、樹脂と磁性材料とを混合したものを用いることができる。この樹脂としては例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。また、磁性材料としては例えばフェライト粉末、鉄粉、珪素合金鉄粉等を用いることができる。
このような構成によれば、一対のコイルで発生した大きな磁束が透磁率の高い高透磁率コア材を通るので、一対のコイルの隣接部分において磁束の漏れを抑制することができる。これにより、磁束の漏れによってリアクトルの周囲に渦電流が生じることを抑制でき、渦電流損を抑制できる。また、高透磁率コア材の周囲に低透磁率コア材が配置されることにより、仮に高透磁率コア材が磁気飽和したとしても、周囲の低透磁率コア材を磁束が通過ことによりケーシング内のコア材全体での磁気飽和を防ぐことができる。
また、一対のコイルの径方向の外周が互いに接触していてもよい。このような構成によれば、一対のコイルの隣接部分が互いに接触することにより、ケーシング内でコイルを密に配置することができるので、ケーシングを小さくすることができる。これにより、リアクトルの体格を小型化することができる。
実施形態に係るリアクトルの斜視図である。 図1のII−II断面図である。 図2のIII−III断面図である。 高透磁率コア材及び低透磁率コア材の材料について説明する図である。 リアクトルを含む電力変換装置の斜視図である。 他の実施形態に係るリアクトルの断面図である。 更に他の実施形態に係るリアクトルの斜視図である。 図7のVIII−VIII断面図である。 更に他の実施形態に係るリアクトルの断面図である。
以下、実施形態について添付図面を参照して説明する。図1は、実施形態に係るリアクトルの斜視図である。また、図2は、図1のII−II断面図であり、図3は、図2のIII−III断面図である。なお、図1では、リアクトル2の構成を見易くするためにケーシング10の一部を開放した図を示している。このリアクトル2は、後述の積層冷却器81の間に配置されるものであり、図1〜図3に示すように、扁平なケーシング10と、ケーシング10内に配置された一対のコイル12(第1コイル12a及び第2コイル12b)とを備えている。また、このリアクトル2は、ケーシング10内に充填されたコア材(高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4)を備えている。なお、図1では、高透磁率コア材3は低透磁率コア材4により覆われているので見えていない。また、図1〜図3においてコイル12は、本来は低透磁率コア材4に覆われていて見えないのであるが、理解を助けるために実線で示している。また、図2では、積層冷却器81の一部を仮想線で描いてある。
ケーシング10は、上下の冷却面101と、冷却面101の周囲に固定された側面102とを備えており、冷却面101が冷却器81に対向するように配置されている。冷却面101と側面102は互いに直交しており、冷却面101は冷却器81の積層方向を向いており、側面102は積層方向に沿って延びている。このケーシング10内には一対のコイル12が間隔をあけて並べて配置されている。また、このケーシング10は、積層高さを低くする一方冷却面積を大きくする観点から、冷却面101の面積に対して側面102の面積(高さ)が小さく、扁平になっている。ケーシング10の全体の形状は略直方体であり、そのサイズは縦H、横W、厚みDであり、それらの寸法の関係は横W>縦H>厚みDである。また、座標軸のX方向がリアクトル2と冷却器81の積層方向に相当する。従って、ケーシング10は、積層方向の厚みD(側面102の高さ)が積層方向を向いている冷却面101の縦Hと横Wの長さよりも小さい扁平体である。ケーシング10が扁平体であることによって、冷却器81との広い接触面積を確保する。それゆえ、積層方向の両側に配置した冷却器81への伝熱効率が良い。また、ケーシング10の端部には、スリット103が形成されている。
各コイル12(第1コイル12a及び第2コイル12b)は、例えば銅等の金属の平角線13をフラットワイズ巻きにして形成されており、巻き回される平角線13は、隙間なく巻き回されており、径方向に重なって密着している。フラットワイズ巻きとは、平角線13の平面がコイル12の径方向に重なるように巻き回す構成である。また、平角線13の端部は、ケーシング10のスリット103を通過して外部へ伸びており、図示しない電源に接続される。
また、一対のコイル12は、径方向に隣接して配置されており、軸方向CLが互いに平行に延びるように配置されている。すなわち、一対のコイル12は、軸方向CLに交差する方向に並んで配置されており、径方向の外周が互いに向き合うように配置されている。また、一対のコイル12は、間隔をあけて配置されており、最外周の平角線13の平面が互いに対面している。隣接する第1コイル12aと第2コイル12bとの間隔は近接していることが好ましい。また、各コイル12は、その上下の端面がケーシング10の冷却面101と対向するように配置され、その軸方向CLがケーシング10の厚み方向を向くように配置されている。すなわち、各コイル12は、その軸方向CLがリアクトル2と冷却器81の積層方向(図中のX方向)を向くように配置されている。
また、一対のコイル12は、平角線13の巻線方向が互いに逆行するように配置されており、図3に示す例では、一方のコイル12(第1コイル12a)の巻線方向が時計回りになっており、他方のコイル12(第2コイル12b)の巻線方向が反時計回りになっており、互いに逆方向に巻き回されている。これにより、一対のコイル12に電流を流すと、その磁束方向が互いに逆行するように構成されており、図2に示す例では、第1コイル12aの内部に発生する磁束方向が矢印P方向になり、第2コイル12bの内部に発生する磁束方向は矢印Pと逆の矢印Q方向になっている。別言すれば、一対のコイル12は、各々の内部に発生する磁束の方向が互いに逆行する。また、一対のコイル12は直列に連結されており、第1コイル12a及び第2コイル12bの平角線13が両者の隣接部分で連結されている。
また、コイル12の周囲にはコア材(高透磁率コア材3又は低透磁率コア材4)が充填されており、コア材の周囲はケーシング10によって囲まれている。このコア材は、一対のコイル12とケーシング10との隙間や、第1コイル12aと第2コイル12bとの隙間に充填されている。
高透磁率コア材3はケーシング10内の中央部に均一に充填されており、第1コイル12a及び第2コイル12bの隣接部分を覆っている。より詳細には、高透磁率コア材3は、一対のコイル12における向かい合っている側の部分を覆っている。したがって、一対のコイル12において向かい合っていない側の部分は高透磁率コア材3から露出している。ケーシング10内に充填された高透磁率コア材3の横幅Aは特に限定されないが、少なくとも一対のコイル12において向かい合っている側の内周面(内周の平角線13)が覆わる幅が好ましい。本実施形態では、高透磁率コア材3が各コイル12の半分にわたる部分を覆っており、隣接する各コイル12において向かい合っている側の半分が高透磁率コア材3によって封止されている。また、高透磁率コア材3の高さBは特に限定されないが、少なくともコイル12の厚み方向の上端及び下端が覆われる高さが好ましい。本実施形態では、高透磁率コア材3がコイル12の厚み方向の上端及び下端よりも上方及び下方まで充填されて各コイル12を覆っている。また、高透磁率コア材3の縦幅(奥行)Cは特に限定されないが、少なくともコイル12の径方向の外周(最外周の平角線13)が覆われる幅が好ましい。この高透磁率コア材3の透磁率は、低透磁率コア材4の透磁率よりも高く、例えば100H/m以上にすることができる。また、高透磁率コア材3とケーシング10との間には低透磁率コア材4が充填されている。
低透磁率コア材4は、ケーシング10内の中央部から端部まで全体にわたって充填されており、高透磁率コア材3の全体を覆うと共に、一対のコイル12における向かい合っていない側の部分を覆っている。すなわち、低透磁率コア材4は、高透磁率コア材3の周囲に均一に充填されており、高透磁率コア材3及び高透磁率コア材3から露出しているコイル12を覆っている。この低透磁率コア材4の透磁率は、高透磁率コア材3の透磁率よりも低く、例えば10H/m〜20H/mにすることができる。なお、高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4の透磁率は公知の透磁率測定装置を用いて測定できる。
高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4は、樹脂と磁性材料とを混合したものを用いることができる。この樹脂としては例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。また、磁性材料としては例えばフェライト粉末、鉄粉、珪素合金鉄粉等を用いることができ、好ましくは、Fe−6.5Siを用いることができる。また、高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4の材料としては、比透磁率が10〜50の材料を用いることができる。なお、比透磁率は真空の透磁率との比である。より詳細には、高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4の材料としては、図4に示すように、磁場H(A/m)と磁束密度B(T)とのグラフを描いたときに、樹脂にFe−6.5Siを混合した材料のH−B曲線L1と、Fe−3Siの圧粉材料のH−B曲線L2との間の斜線で示す領域に位置する材料を用いることができる。なお、図4のグラフの傾きが透磁率に相当する。
また、高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4は、二色成形することができ、まず、一対のコイル12の隣接部分に高透磁率コア材3を射出成形し、その後、高透磁率コア材3の周囲に低透磁率コア材4を射出成形する。
図2、図3に示すように、高透磁率コア材3の第1コイル12aを覆っている部位と、第2コイル12bを覆っている部位は、一対のコイル12aと12bの間で繋がっている。より具体的には、高透磁率コア材3の第1コイル12aを覆っている部位と、第2コイル12bを覆っている部位は、一対のコイル12a、12bの一方端側で連続しているとともに、他方端側でも連続している。なお、本実施例では、高透磁率コア材3は、一つのブロックを形成しており、その一つのブロック内に、一対のコイル12a、12bの隣接部分が埋没している。磁路の観点で表現すると、高透磁率コア材3は、軸線を平行にして巻き線径方向に並んで配置されている一対のコイル12に対して、夫々のコイル内部を通過する環状の磁路が形成されるように、一対のコイル12の隣接部分を覆っている。低透磁率コア材4は、高透磁率コア材3を覆っており、さらに、夫々のコイル12も覆っているとともに夫々のコイル12の内部(コイル12内部のうち高透磁率コア材3が満たされていない範囲)にも充填されている。上記のような構成によれば、一対のコイル12に電流を流すと、図2に示すように、第1コイル12aに矢印P方向の磁束が生じ、これとは逆に、第2コイル12bに矢印Q方向の磁束が生じる。これにより、第1コイル12a及び第2コイル12bの磁束が合わさって一対のコイル12が隣接する部分に大きな磁束Xが生じ、この大きな磁束Xは透磁率が高い高透磁率コア材3を通る。また、高透磁率コア材3から露出している部分における磁束は低透磁率コア材4を通る。
次に、上記のリアクトルが適用された電力変換装置の一例について説明する。図5に、リアクトルを含む電力変換装置の斜視図を示す。電力変換装置90は、ハイブリッド車や電気自動車に搭載され、バッテリの直流電力を昇圧するとともに、誘導モータやPMモータの駆動に適した周波数の交流に変換する。即ち、電力変換装置90は、昇圧コンバータ回路とインバータ回路を含む。よく知られているように、いずれの回路も、いわゆるパワー半導体素子を多数用いる。複数のパワー半導体素子は、平板型の複数の半導体モジュール82に収められている。半導体モジュール82は、1個、あるいは、数個のパワー半導体素子を、樹脂でモールドしたものである。なお、図5では、半導体モジュール82から伸びる端子は図示を省略している。パワー半導体素子は発熱量が大きい。そこで、電力変換装置90では、平板型の複数の半導体モジュール82を平板型の複数の冷却器81で交互に積層する。複数の半導体モジュール82と複数の冷却器81の積層体を積層ユニット80と称する。積層ユニット80には、半導体モジュール82の他にリアクトル2も積層される。即ち、リアクトル2は、その両側を冷却器81で挟持されている。リアクトル2は、昇圧コンバータの一つの部品である。昇圧コンバータの回路は良く知られているので説明は省略する。
積層ユニット80では、隣接する冷却器81が連結パイプ83で連結される。また、積層ユニット80の端の冷却器81には、冷媒供給管84aと冷媒排出管84bが接続されている。冷却器81は、冷媒を通す流路であり、冷媒供給管84aから供給された冷媒は、連結パイプ83を通じて全ての冷却器81に拡がる。冷媒は、冷却器81の流路を流れる間に隣接する半導体モジュール82あるいはリアクトル2を冷却する。半導体モジュール82あるいはリアクトル2の熱を吸収した後の冷媒は、別の連結パイプ83と冷媒排出管84bを通じて外部に排出される。
冷却効率を高めるため、積層ユニット80は、その積層方向に加圧される。積層ユニット80は、筐体91に収められ、その一端は筐体91の内壁に押し当てられ、他端側に板バネ93が挿入される。板バネ93は、筐体91の支柱92に支えられている。積層ユニット80は、電力変換装置90の筐体内部で板バネ93によって積層方向に圧力を受ける。積層ユニット80は、積層方向に加圧されることで、半導体モジュール82と冷却器81、及び、リアクトル2と冷却器81の密着度を高め、冷却器81への熱伝達効率を向上させている。
以上のような構成を備えるリアクトル2の利点を説明する。本実施形態のリアクトル2によれば、一対のコイル12の磁束方向が互いに逆行することにより、各コイル12の磁束が合わさってより大きな磁束Xを発生させることができる。これにより、リアクトル2のインダクタンスを高めることができる。また、扁平なケーシング10により、体格が小さくても冷却器81との接触面積を確保することができる。よって、インダクタンスを高めつつ、小型で冷却し易いリアクトル2を提供することができる。
また、扁平なケーシング10であると、冷却面101の面積に対して側面102の面積(高さ)が小さいので、厚みDが薄くなり、磁束がケーシング10の外部に漏れやすくなる。特に、一対のコイル12の隣接部分では大きな磁束Xが発生するので、磁束が外部に漏れやすくなる。そこで、上記の構成によれば、一対のコイル12の隣接部分を覆う高透磁率コア材3と、高透磁率コア材3の周囲の低透磁率コア材4とを備えることにより、一対のコイル12で発生した大きな磁束Xが透磁率の高い高透磁率コア材3を通るので、一対のコイル12の隣接部分において磁束の漏れを抑制することができる。これにより、磁束の漏れによってリアクトル2の周囲に渦電流が生じることを抑制でき、渦電流損を抑制できる。すなわち、仮に高い透磁率を有する高透磁率コア材3が無いとすると、発生した大きな磁束Xがリアクトル2の周囲に漏れてしまい、例えばリアクトル2の周囲の冷却器81等に渦電流が生じてしまうことがあるが、本明細書に開示の技術によれば、磁束の漏れを抑制でき、渦電流損を抑制できる。また、高透磁率コア材3の周囲に低透磁率コア材4が配置されることにより、仮に高透磁率コア材3が磁気飽和したとしても、周囲の低透磁率コア材4を磁束が通過ことにより低透磁率コア材4がバックアップとなり、ケーシング10内のコア材全体での磁気飽和を防ぐことができる。
以上、一実施形態について説明したが、具体的な態様は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態ではコイル12が平角線13のフラットワイズ巻きにより形成されていたが、図6に示すように、エッジワイズ巻きにより形成されていてもよい。エッジワイズ巻きとは、平角線13の平面がコイル12の軸方向に重なるように巻き回す構成であり、平角線13の積層方向がコイル12の軸方向に沿っている。
また、図7は更に他の実施形態に係るリアクトルの斜視図であり、図8は図7のVIII−VIII断面図である。図7及び図8において、図1及び図2と同様の構成部分については同一の符号を付して説明を省略している。上述した実施形態では第1コイル12a及び第2コイル12bが離間して配置されていたが、図7及び図8に示すように、一対のコイル12が近接して互いに接触していてもよい。また、上記実施形態では高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4を備えていたが、必ずしも2種類のコア材を充填する必要はなく、1種類のコア材を充填する構成であってもよい。図7及び図8に示す例では、隣接する一対のコイル12(第1コイル12a及び第2コイル12b)の径方向の外周が互いに接触しており、ケーシング10内の全体に低透磁率コア材4が充填されている。第1コイル12a及び第2コイル12bは、互いの隣接部分において最外周の平角線13の平面が隙間無く密着している。この構成では第1コイル12aと第2コイル12bとの絶縁は、各コイル12a、bを被覆するエナメルにより確保される。また、上記実施形態のように高透磁率コア材が一対のコイル12の隣接部分を覆う構成ではなく、低透磁率コア材4が一対のコイル12の全体を覆っている。したがって、第1コイル12a及び第2コイル12bの隣接部分も低透磁率コア材4により覆われている。
このような構成によれば、一対のコイル12の隣接部分が互いに接触することにより、ケーシング10内でコイル12を密に配置することができるので、ケーシング10を小さくすることができる。これにより、リアクトル2の体格を小型化することができる。すなわち、仮に一対のコイル12(第1コイル12a及び第2コイル12b)の磁束方向が同方向であると、各コイル12a、bで発生する磁束が通るスペースをそれぞれ確保する必要があり、一対のコイル12a、bを接触しないように離間させる必要があるが、本明細書に開示の技術によれば、一対のコイル12a、bの磁束方向が逆方向なので、各コイル12a、bで発生する磁束が合わさることにより、磁束が通るスペースをそれぞれ確保する必要がない。これにより、一対のコイル12a、bを接触させてリアクトル2の体格を小型化することができる。
また、図7及び図8に示す例ではケーシング10内に低透磁率コア材4が充填されていたが、この構成に限定されるものではなく、低透磁率コア材4に替えて高透磁率コア材3をケーシング10内に充填してもよい。また、ケーシング10内に充填されるコア材の透磁率の大きさは特に限定されるものではない。また、上述した図1〜図3の例と同様に、高透磁率コア材3及び低透磁率コア材4の両者がケーシング10内に充填されていてもよい。すなわち、上述したように、高透磁率コア材3が一対のコイル12の隣接部分を覆い、低透磁率コア材4が高透磁率コア材4から露出している部分のコイル12を覆う構成であってもよい。
また、上記実施形態はコイル12を2個用いる形態であったが、図9に示すように、コイル12を4個用いてもよい。この形態においても、隣接するコイル12の巻線方向が互いに逆行している。また、コイル12の数は特に限定されず更に増やすこともできる。
リアクトル2では、コイル12から冷却器81への熱伝達効率を高めるため、ケーシング10の厚みDをできるだけ小さくし、扁平率を高めることが好ましい。それゆえ、積層方向に見たときのコイル12端部と冷却器81との間の距離は小さい方が好ましい。コイル12端部と冷却器81との間の距離を小さくすると、高透磁率コア材3において、軸線方向に沿ったコイル12端部から外側の厚みが小さくなる。高透磁率コア材3のこの厚みの部位は、一対のコイル12の間で環状に形成される磁路の一部を構成するが、厚みを小さくすることは、その磁路を薄くすることを意味する。磁路が薄くなると、磁力線が通る面積が小さくなり、磁気飽和し易くなる。さらに、一般に、透磁率が高いほど磁気飽和し易くなる。それゆえ、ケーシング10を扁平に構成するととともに、高透磁率コア材3を採用すると、磁気飽和し易くなる。磁気飽和が生じると、コア材の外を通る磁束(いわゆる漏れ磁束)が増加する。他方、リアクトル2のケーシング10の両側には冷却器81が位置しており、冷却器81は金属製であることが多い。扁平なケーシング10内で高透磁率コア材3から漏れる磁束が金属製の冷却器81を通過すると渦電流が生じる。そこで、高透磁率コア材3を低透磁率コア材4で囲む。図4に例示されているように、一般に、透磁率が低いほど、磁気飽和し難い。高透磁率コア材3を低透磁率コア材4で囲むことで、高透磁率コア材3から漏れた磁束を低透磁率コア材4で吸収し、冷却器81を通過する磁束を低減する。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
2;リアクトル
3;高透磁率コア材
4;低透磁率コア材
10;ケーシング
12;コイル
12a;第1コイル
12b;第2コイル
81;冷却器
82;半導体モジュール
83;連結パイプ
84a;冷媒供給管
84b;冷媒排出管
90;電力変換装置
91;筐体
92;支柱
93;板バネ
101;冷却面
102;側面

Claims (3)

  1. 積層された冷却器の間に配置されるリアクトルであって、
    扁平なケーシングと、
    前記ケーシング内に互いに逆方向に巻き回され、径方向に配置された一対のコイルと、
    前記ケーシング内に充填され、前記コイルを覆うコア材と、を備えるリアクトル。
  2. 前記ケーシング内に充填され、前記一対のコイルを覆う高透磁率コア材と、
    前記高透磁率コア材の周囲に充填され、前記高透磁率コア材から露出している前記コイルを覆う低透磁率コア材と、を備える請求項1に記載のリアクトル。
  3. 前記一対のコイルの径方向の外周が互いに接触している、請求項1又は2に記載のリアクトル。
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