JP2014213386A - Method of cutting sealing sheet and device of cutting sealing sheet - Google Patents

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直樹 石井
伸一郎 森
Shinichiro Mori
伸一郎 森
山本 雅之
Masayuki Yamamoto
雅之 山本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately cut a sealing sheet adhered on a semiconductor substrate and formed of a resin composition along a shape of the semiconductor substrate.SOLUTION: A sealing sheet T is cut by fitting a cutter included in a first cutting mechanism along an outer diameter of a substrate W while a notch part V of the sealing sheet T which is adhered and covers the notch formed on the substrate is left. Then, a cutter 64 of a second cutting mechanism forms a cut to a back end by fitting a blade edge with the notch from one opening end of the notch, and is retreated. Then, the substrate W is rotated, and the blade edge of the cutter 64 is fitted with the notch and forms a cut from the other opening end of the notch to the back end to be joined with the first half cut, and the sealing sheet T is cut out in a notch shape.

Description

本発明は、半導体素子を封止するために半導体基板に貼り付けられた樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを半導体基板の形状に切断する封止シート切断方法よび封止シート切断装置に関する。   The present invention relates to a sealing sheet cutting method and a sealing method in which a sealing sheet formed with a sealing layer made of a resin composition attached to a semiconductor substrate for sealing a semiconductor element is cut into the shape of the semiconductor substrate. The present invention relates to a sheet cutting device.

半導体ウエハ(以下、適宜に「ウエハ」という)の回路面に貼り付けられた保護シートを当該半導体ウエハの外径に沿って切断する方法が提案および実施されている。すなわち、カッタの角度および旋回方向を変更させながら半導体ウエハの円弧部分とノッチ部分に当該カッタを沿わせて保護シートを切断している。具体的には、ノッチの近傍からカッタを突き刺してノッチの一方の傾斜面にカッタの側面を沿わせて奥端まで保護テープを切断した後、切断軌道に沿って当該カッタを初期位置まで後退させ、刃先の向きを変更して円弧部分に沿って保護テープを切断する。ノッチの他方の開口端にカッタが到達するとカッタの角度を変更し、ノッチの傾斜面にカッタの側面を沿わせ奥端まで保護テープを切断し、前半の切り込みと繋がらせて保護テープを切り抜いている(特許文献1を参照)。   There has been proposed and practiced a method of cutting a protective sheet attached to a circuit surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer” as appropriate) along the outer diameter of the semiconductor wafer. That is, the protective sheet is cut along the circular arc portion and the notch portion of the semiconductor wafer while changing the angle and the turning direction of the cutter. Specifically, the cutter is pierced from the vicinity of the notch, and the protective tape is cut to the far end along the side of the cutter along one inclined surface of the notch, and then the cutter is retracted to the initial position along the cutting track. Then, change the direction of the cutting edge and cut the protective tape along the arc part. When the cutter reaches the other open end of the notch, change the angle of the cutter, cut the protective tape along the side of the cutter along the inclined surface of the notch and cut the protective tape to the far end, and connect it with the notch in the first half to cut out the protective tape (See Patent Document 1).

特開2009−125871号公報JP 2009-125871 A

従来、バックグラインド処理により薄化されたウエハをダイシング処理した後に、個片に分断された半導体素子ごとに樹脂でモールドして半導体装置を製造している。近年、生産効率の向上を図るために、バックグラインド処理されたウエハの素子形成面の全面に樹脂組成物からなる封止シートを貼り付けて当該封止層を硬化させた後にダイシング処理する方法が提案されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor device is manufactured by dicing a wafer thinned by a back grinding process and then molding the semiconductor element divided into individual pieces with a resin. In recent years, in order to improve production efficiency, there is a method in which a sealing sheet made of a resin composition is attached to the entire surface of an element forming surface of a back-grinded wafer and the sealing layer is cured, followed by a dicing process. Proposed.

当該封止シートは、保護テープに比べて厚みを有するとともに硬度が高いので、切断過程でカッタの切り込み角度を容易に変更することでないといった不都合が生じている。すなわち、ウエハの円弧部分からノッチ部分にかけて切り込み角度を大きく変更しようとすると、封止層またはカッタの刃が欠けたり、或いは、角度変更時の押圧による負荷がノッチ部分にかかりウエハを破損させたりするといった問題が生じている。   Since the sealing sheet has a thickness and higher hardness than the protective tape, there is a disadvantage that the cutting angle of the cutter is not easily changed in the cutting process. In other words, if the cutting angle is greatly changed from the arc part to the notch part of the wafer, the sealing layer or the blade of the cutter may be missing, or the load due to pressing during the angle change may be applied to the notch part and damage the wafer. Such a problem has arisen.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、半導体ウエハに貼り付けられた封止シートをウエハ形状に精度よく切断することのできる封止シート切断方法および封止シート切断装置を提供することを主たる目的とする。   This invention is made in view of such a situation, Comprising: The sealing sheet cutting method and sealing sheet cutting device which can cut | disconnect the sealing sheet affixed on the semiconductor wafer to the wafer shape accurately are provided. The main purpose is to provide.

この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、半導体基板に貼り付けられた樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを切断する封止シート切断方法であって、
前記半導体基板よりも大形の封止シートを当該半導体基板に貼り付ける貼付け過程と、
前記半導体基板に形成されたノッチを覆って貼り付けられた封止シートの当該ノッチ部分を残しつつ、第1切断機構に備わった第1切断刃を半導体基板の外径に沿わせて当該封止シートを切断する第1切断過程と、
前記半導体基板の形状に切り抜かれた封止シートを回収する回収過程と、
前記ノッチの開口端の一方から第2切断機構の第2切断刃をノッチに沿わせて奥端まで切り込みを入れる第2切断過程と、
前記ノッチの開口端の他方から第2切断機構の第2切断刃をノッチに沿わせて奥端まで切り込みを入れて前半の切り込みと繋ぎ合わせてノッチ形状に封止シートを切り抜く第3切断過程と、
を備えたことを特徴とする。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, a sealing sheet cutting method for cutting a sealing sheet formed with a sealing layer made of a resin composition attached to a semiconductor substrate,
A pasting process for pasting a sealing sheet larger than the semiconductor substrate to the semiconductor substrate;
The first cutting blade provided in the first cutting mechanism is placed along the outer diameter of the semiconductor substrate while leaving the notch portion of the sealing sheet attached to cover the notch formed in the semiconductor substrate. A first cutting process for cutting the sheet;
A recovery process of recovering the sealing sheet cut out in the shape of the semiconductor substrate;
A second cutting process in which a second cutting blade of a second cutting mechanism is cut from one of the open ends of the notch to the back end along the notch;
A third cutting step of cutting the sealing sheet into a notch shape by cutting the second cutting blade of the second cutting mechanism from the other of the open ends of the notch to the far end along the notch and joining the cut in the first half; ,
It is provided with.

(作用・効果) 上記方法によれば、第1切断刃の切り込み角度を固定し、封止シートを略半導体基板の形状に切断することができる。また、第1切断過程で残されたノッチ部分を覆う封止シートは、ノッチの各開口端から第2切断刃によって切り込みを入れることができるので、円弧部分からノッチにかけて第2切断刃の切り込み角度を大きく変更する必要がない。換言すれば、半導体基板のノッチ部分、封止層および第2切断刃のいずれに対しても角度変更時に伴う押圧による過剰な負荷がかからない。したがって、半導体基板の破損、封止層および第2切断刃の欠けを回避することができる。さらに、第2切断刃の欠けを回避することにより、長期間にわたり第2切断刃を使用することができる。   (Operation / Effect) According to the above method, the cutting angle of the first cutting blade can be fixed, and the sealing sheet can be cut into a substantially semiconductor substrate shape. Moreover, since the sealing sheet which covers the notch part left in the 1st cutting process can be cut by the second cutting blade from each open end of the notch, the cutting angle of the second cutting blade from the arc part to the notch There is no need to make major changes. In other words, an excessive load is not applied to the notch portion, the sealing layer, and the second cutting blade of the semiconductor substrate due to the pressing accompanying the angle change. Therefore, breakage of the semiconductor substrate and chipping of the sealing layer and the second cutting blade can be avoided. Furthermore, by avoiding chipping of the second cutting blade, the second cutting blade can be used over a long period of time.

なお、上記方法において、第2切断過程および第3切断過程では、ホルダに揺動可能に軸支された第2切断刃を切り込み方向に弾性付勢させながら封止シートに切り込みを入れることが好ましい。   In the above method, in the second cutting process and the third cutting process, it is preferable to cut the sealing sheet while elastically biasing the second cutting blade pivotally supported by the holder in the cutting direction. .

この方法によれば、ノッチ分部の封止シートを切断する過程で、第2切断刃に過剰な押圧力が作用すると、第2切断刃が進行方向の付勢力に抗して後退する。したがって、第2切断刃や半導体基板などの破損を回避することができる。   According to this method, when an excessive pressing force acts on the second cutting blade in the process of cutting the sealing sheet of the notch portion, the second cutting blade moves backward against the urging force in the traveling direction. Therefore, damage to the second cutting blade and the semiconductor substrate can be avoided.

また、上記方方法において、少なくとも第3切断過程においてノッチ部分を吸引しながら封止シートを切り抜くことが好ましい。   Moreover, in the said method, it is preferable to cut out a sealing sheet, attracting | sucking a notch part at least in a 3rd cutting process.

この方法によれば、ノッチ部分の封止シートの切断時に発生する切り屑を直ちに吸引除去することができる。したがって、切り屑によって半導体基板が汚染されるのを抑制することができる。   According to this method, chips generated when the sealing sheet at the notch portion is cut can be immediately removed by suction. Therefore, it is possible to suppress the semiconductor substrate from being contaminated by chips.

また、上記方方法において、第3切断過程の後にノッチ部分の封止シートの切断不良を検査する検査過程を備えてもよい。   Moreover, in the said method, you may provide the test process which test | inspects the cutting | disconnection defect of the sealing sheet of a notch part after a 3rd cutting process.

この場合、ノッチ部分の封止シートの切断不良を検出することができる。すなわち、当該切断不良を検出した場合、第2切断過程および第3切断過程のうち少なくともいずれか一方を行ってノッチ部分の封止シートを確実に切断除去することができる。   In this case, the cutting failure of the sealing sheet at the notch portion can be detected. That is, when the cutting failure is detected, the sealing sheet at the notch portion can be surely cut and removed by performing at least one of the second cutting process and the third cutting process.

さらに、上記方方法において、第1切断過程ないし第3切断過程は、第1切断刃および第2切断刃を加熱器で加熱しながら封止シートを切断してもよい。   Further, in the above method, in the first cutting process to the third cutting process, the sealing sheet may be cut while heating the first cutting blade and the second cutting blade with a heater.

この方法によれば、加熱器によって封止シートの封止層を軟化させながら切断することができるので、微小なノッチ部分の封止シートを確実に切断除去することができる。   According to this method, since it can cut | disconnect, softening the sealing layer of a sealing sheet with a heater, the sealing sheet of a micro notch part can be cut | disconnected reliably.

また、この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。   The present invention has the following configuration in order to achieve such an object.

すなわち、半導体基板に貼り付けられた樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを切断する封止シート切断装置であって、
前記半導体基板を載置保持する第1保持テーブルと、
前記半導体基板に封止シートを貼り付ける貼付け機構と、
前記半導体基板に形成されたノッチを覆って貼り付けられた封止シートの当該ノッチ部分を残しつつ、半導体基板の外形に第1切断刃を沿わせて当該封止シートを切断する第1切断機構と、
前記半導体基板の形状に切り抜かれた残余の封止シートを回収するシート回収機構と、
前記封止シートの貼り付けられた半導体基板を載置保持しつつ水平移動するとともに、半導体基板の中心軸周りに回転する第2保持テーブルと、
前記第2保持テーブルに載置保持された半導体基板のノッチを検出する検出器と、
第2切断刃の刃縁をノッチに沿わせて当該ノッチ部分を覆う封止シートを切り抜く第2切断機構を備え、
前記検出器によって検出されたノッチの位置情報に基づいて、第2保持テーブルを回転および水平移動させてノッチの開口端と第2切断刃の刃先を対向するよう位置合わせするごとに、第2切断機構に配備された第2切断刃に対して当該第2保持テーブルを往復移動させる過程で、当該第2切断刃をノッチに沿わせてノッチ奥端まで切り込みを入れ、両切り込みをノッチ奥端で繋ぎ合わせてノッチ形状に封止シートを切り抜くように構成した
ことを特徴とする。
That is, a sealing sheet cutting device for cutting a sealing sheet formed with a sealing layer made of a resin composition attached to a semiconductor substrate,
A first holding table for mounting and holding the semiconductor substrate;
A pasting mechanism for pasting a sealing sheet to the semiconductor substrate;
A first cutting mechanism that cuts the sealing sheet along the first cutting blade along the outer shape of the semiconductor substrate while leaving the notch portion of the sealing sheet attached to cover the notch formed on the semiconductor substrate. When,
A sheet recovery mechanism for recovering the remaining sealing sheet cut out in the shape of the semiconductor substrate;
A second holding table that horizontally moves while mounting and holding the semiconductor substrate to which the sealing sheet is attached, and that rotates around the central axis of the semiconductor substrate;
A detector for detecting a notch of the semiconductor substrate placed and held on the second holding table;
A second cutting mechanism for cutting out a sealing sheet covering the notch portion along the notch of the edge of the second cutting blade;
Each time the second holding table is rotated and horizontally moved based on the position information of the notch detected by the detector so as to align the opening end of the notch and the cutting edge of the second cutting blade, the second cutting is performed. In the process of reciprocating the second holding table with respect to the second cutting blade arranged in the mechanism, the second cutting blade is cut along the notch to the notch deep end, and both cuts are made at the notch deep end. It is characterized in that the sealing sheet is cut out in a notch shape by joining.

(作用・効果) この構成によれば、第1切断刃および第2切断刃を半導体基板の円弧部分とノッチ部分とで使い分けることができる。つまり、ノッチ部分を覆う封止シートを切断するとき、ノッチ部分だけを切断する第2切断刃を利用することにより、従来のように切断しながら切断刃の切り込み角度を大きく変更させる必要がない。したがって、上記方法を好適に実施することができる。   (Operation / Effect) According to this configuration, the first cutting blade and the second cutting blade can be selectively used for the arc portion and the notch portion of the semiconductor substrate. That is, when the sealing sheet covering the notch portion is cut, by using the second cutting blade that cuts only the notch portion, it is not necessary to greatly change the cutting angle of the cutting blade while cutting as in the prior art. Therefore, the above method can be suitably performed.

なお、上記装置は、例えば第2切断刃を第2切断機構のホルダに揺動可能に軸支し、かつ、封止シートの切り込み方向に弾性付勢させることが好ましい。   In the above-mentioned device, for example, it is preferable that the second cutting blade is pivotally supported on the holder of the second cutting mechanism so as to be swingable and elastically biased in the cutting direction of the sealing sheet.

この構成によれば、ノッチ分部の封止シートを切断する過程で、第2切断刃に過剰な押圧力が作用すると、第2切断刃が進行方向の付勢力に抗して後退する。したがって、第2切断刃や半導体基板などの破損を回避することができる。   According to this configuration, when an excessive pressing force acts on the second cutting blade in the process of cutting the sealing sheet of the notch portion, the second cutting blade moves backward against the urging force in the traveling direction. Therefore, damage to the second cutting blade and the semiconductor substrate can be avoided.

なお、上記構成において、吸引機構を設けてノッチ分部の封止シートの切断時に発生する切り屑を直ちに吸引除去してもよい。   In the above configuration, a suction mechanism may be provided to immediately suction and remove chips generated when the sealing sheet of the notch portion is cut.

この構成によれば、半導体基板の汚染を回避することができる。   According to this configuration, contamination of the semiconductor substrate can be avoided.

また、第1切断刃および第2切断刃を加熱器で加熱し、封止シートを軟化させながら切断してもよい。   Moreover, you may cut | disconnect, heating a 1st cutting blade and a 2nd cutting blade with a heater, and softening a sealing sheet.

さらに、検出器を設けてノッチ分部の封止シートの切断の有無を検出し、切断不良を検出するように構成してもよい。   Further, a detector may be provided to detect whether or not the sealing sheet at the notch portion is cut and to detect a cutting failure.

本発明の封止シート切断方法および封止シート切断装置によれば、ノッチの形成された半導体基板に貼り付けた封止シートを当該半導体基板の形状に精度よく切断することができる。   According to the sealing sheet cutting method and the sealing sheet cutting apparatus of the present invention, the sealing sheet attached to the semiconductor substrate on which the notch is formed can be accurately cut into the shape of the semiconductor substrate.

封止シートの原反ロールを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the original fabric roll of a sealing sheet. 封止シートの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a sealing sheet. 封止シート貼付け装置の全体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole sealing sheet sticking apparatus. 封止シート貼付け装置の平面図である。It is a top view of a sealing sheet sticking apparatus. 封止シート貼付け装置の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of a sealing sheet sticking apparatus. 第1切断機構周りの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure around a 1st cutting mechanism. 第2切断機構周りの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure around the 2nd cutting mechanism. 第2切断機構周りの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure around the 2nd cutting mechanism. 封止シートの貼付け動作を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the sticking operation | movement of a sealing sheet. 第1切断機構による封止シートの切断動作を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows the cutting | disconnection operation | movement of the sealing sheet by a 1st cutting mechanism. 封止シートの剥離動作を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows peeling operation | movement of a sealing sheet. 切り抜かれた封止シートの回収動作を示す概略正面図である。It is a schematic front view which shows collection | recovery operation | movement of the cut-out sealing sheet. 第2切断機構による封止シートの切断動作を示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the cutting | disconnection operation | movement of the sealing sheet by a 2nd cutting mechanism. 第2切断機構による封止シートの切断動作を示す平面図である。It is a top view which shows the cutting | disconnection operation | movement of the sealing sheet by a 2nd cutting mechanism. 第2切断機構による封止シートの切断動作を示す平面図である。It is a top view which shows the cutting | disconnection operation | movement of the sealing sheet by a 2nd cutting mechanism. 変形例のカッタの正面図である。It is a front view of the cutter of a modification. 変形例のカッタの平面図である。It is a top view of the cutter of a modification.

以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。表面に複数個の半導体素子が形成された半導体基板に、樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを貼り付ける場合を例に取って説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. A case where a sealing sheet having a sealing layer made of a resin composition is attached to a semiconductor substrate having a plurality of semiconductor elements formed on the surface will be described as an example.

<封止シート>
封止シートTは、例えば、図1および図2に示すように、長尺の封止シートTを巻き回した原反ロールで供給される。また、当該封止シートTは、封止層Mの両面に保護用の第1剥離ライナS1および第2剥離ライナS2が添設されている。
<Sealing sheet>
The sealing sheet T is supplied with the raw fabric roll which wound the elongate sealing sheet T, for example, as shown in FIG.1 and FIG.2. Further, the sealing sheet T is provided with a protective first release liner S1 and a second release liner S2 on both surfaces of the sealing layer M.

封止層Mは、封止材料からシート形状に形成されている。封止材料としては、例えば、熱硬化性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、熱硬化性ウレタン樹脂、などの熱硬化性樹脂が挙げられる。また、封止材料として、上記した熱硬化性樹脂と、添加剤を適宜の割合で含有する熱硬化性樹脂組成物を挙げることもできる。   The sealing layer M is formed in a sheet shape from a sealing material. Examples of the sealing material include thermosetting silicone resin, epoxy resin, thermosetting polyimide resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, thermosetting urethane resin, and the like. A curable resin is mentioned. Moreover, as a sealing material, the above-mentioned thermosetting resin and the thermosetting resin composition which contains an additive in an appropriate ratio can also be mentioned.

添加剤としては、例えば、充填剤、蛍光体などが挙げられる。充填剤としては、例えば、シリカ、チタニア、タルク、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの無機微粒子、例えば、シリコーン粒子、などの有機微粒子などが挙げられる。蛍光体は、波長変換機能を有しており、例えば、青色光を黄色光に変換することのできる黄色蛍光体、青色光を赤色光に変化することのできる赤色蛍光体などを挙げることができる。黄色蛍光体としては、例えば、YAl12:Ce(YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット):Ce)などのガーネット型蛍光体が挙げられる。赤色蛍光体としては、例えば、CaAlSiN:Eu、CaSiN:Euなどの窒化物蛍光体などが挙げられる。 Examples of the additive include a filler and a phosphor. Examples of the filler include inorganic fine particles such as silica, titania, talc, alumina, aluminum nitride, and silicon nitride, and organic fine particles such as silicone particles. The phosphor has a wavelength conversion function, and examples thereof include a yellow phosphor capable of converting blue light into yellow light, and a red phosphor capable of converting blue light into red light. . Examples of the yellow phosphor include garnet phosphors such as Y 3 Al 5 O 12 : Ce (YAG (yttrium, aluminum, garnet): Ce). Examples of the red phosphor include nitride phosphors such as CaAlSiN 3 : Eu and CaSiN 2 : Eu.

封止層Mは、半導体素子を封止する前において、半固形状に調整されており、具体的には、封止材料が熱硬化性樹脂を含有する場合には、例えば、完全硬化(Cステージ化)する前、つまり、半硬化(Bステージ)状態で調整されている。   The sealing layer M is adjusted to a semi-solid state before sealing the semiconductor element. Specifically, when the sealing material contains a thermosetting resin, for example, complete curing (C It is adjusted before being staged, that is, in a semi-cured (B stage) state.

封止層Mの寸法は、半導体素子および基板の寸法に応じて適宜に設定されている。具体的には、封止シートが長尺のシートとして用意される場合における封止層の左右方向における長さ、つまり、幅は、例えば、100mm以上、好ましくは、200mm以上であり、例えば、1500mm以下、好ましくは、700mm以下である。また、封止層の厚みは、半導体素子に寸法に対応して適宜に設定され、例えば、30μm以上、好ましくは、100μm以上であり、また、例えば、3000μm以下、好ましくは、1000μm以下である。   The dimension of the sealing layer M is appropriately set according to the dimensions of the semiconductor element and the substrate. Specifically, when the sealing sheet is prepared as a long sheet, the length in the left-right direction of the sealing layer, that is, the width is, for example, 100 mm or more, preferably 200 mm or more, for example, 1500 mm. Hereinafter, it is preferably 700 mm or less. The thickness of the sealing layer is appropriately set according to the size of the semiconductor element, and is, for example, 30 μm or more, preferably 100 μm or more, and for example, 3000 μm or less, preferably 1000 μm or less.

第1剥離ライナS1および第2剥離ライナS2は、例えば、ポリエチレンシート、ポリエステルシート(PETなど)、ポリスチレンシート、ポリカーボネートシート、ポリイミドシートなどのポリマーシート、例えば、セラミックシート、例えば、金属箔などが挙げられる。剥離ライナにおいて、封止層と接触する接触面には、フッ素処理などの離型処理を施すこともできる。第1剥離ライナおよび第2剥離ライナの寸法は、剥離条件に応じて適宜に設定され、厚みが、例えば、15μm以上、好ましくは、25μm以上であり、また、例えば、125μm以下、好ましくは、75μm以下である。   Examples of the first release liner S1 and the second release liner S2 include polymer sheets such as polyethylene sheets, polyester sheets (such as PET), polystyrene sheets, polycarbonate sheets, and polyimide sheets, such as ceramic sheets, such as metal foil. It is done. In the release liner, the contact surface in contact with the sealing layer can be subjected to a release treatment such as a fluorine treatment. The dimensions of the first release liner and the second release liner are appropriately set according to the release conditions, and the thickness is, for example, 15 μm or more, preferably 25 μm or more, and for example, 125 μm or less, preferably 75 μm. It is as follows.

<封止シート貼付け装置>
以下、図面を参照し半導体基板(以下、単に「基板」という)に上記封止シートを貼り付ける装置について説明する。
<Sealing sheet pasting device>
Hereinafter, an apparatus for attaching the sealing sheet to a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) will be described with reference to the drawings.

図3は、封止シート貼付け装置の全体構成を示す斜視図、図4は、封止シート貼付け装置の平面図、図5は、封止シート貼付け装置の要部を示す斜視図である。   FIG. 3 is a perspective view showing the entire configuration of the sealing sheet sticking device, FIG. 4 is a plan view of the sealing sheet sticking device, and FIG. 5 is a perspective view showing the main part of the sealing sheet sticking device.

図3および図4に示すように、封止シート貼付装置は、基板供給/回収部1、基板搬送機構2、アライメントステージ3、第1保持テーブル4、シート供給部5、セパレータ回収部6、貼付けユニット7、第1切断機構8、剥離ユニット9、シート回収部10、第2切断機構11などが備えられている。ここで、基板供給・回収部1、基板搬送機構2、アライメントステージ3および第1保持テーブル4は、基台12の上面に配備されている。シート供給部5およびシート回収部10は、基台12の上面に立設した縦壁の前面に装備される。貼付けユニット7および剥離ユニット9は、縦壁の下方開口部に臨設され、かつ、ユニット駆動部13は縦壁の背部に配備されている。さらに、第2切断機構11は、基台12の側面に隣接されている。以下、各構成について詳述する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the sealing sheet sticking apparatus includes a substrate supply / recovery unit 1, a substrate transport mechanism 2, an alignment stage 3, a first holding table 4, a sheet supply unit 5, a separator recovery unit 6, and affixing. A unit 7, a first cutting mechanism 8, a peeling unit 9, a sheet collecting unit 10, a second cutting mechanism 11, and the like are provided. Here, the substrate supply / recovery unit 1, the substrate transport mechanism 2, the alignment stage 3, and the first holding table 4 are arranged on the upper surface of the base 12. The sheet supply unit 5 and the sheet collection unit 10 are installed on the front surface of a vertical wall that stands on the upper surface of the base 12. The affixing unit 7 and the peeling unit 9 are provided adjacent to the lower opening of the vertical wall, and the unit driving unit 13 is disposed on the back of the vertical wall. Further, the second cutting mechanism 11 is adjacent to the side surface of the base 12. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

基板供給・回収部1は、封止シートTを貼り付ける前の基板Wおよび封止シートTを貼り付けた後の基板Wを収納するカセットC1、C2を差込み収納してカセット台の上に装填するようになっている。基板Wは、回路面を上向きにし、かつ、上下に所定間隔をおいて多段に各カセットC1、C2に収納されている。   The substrate supply / recovery unit 1 inserts and stores cassettes C1 and C2 for storing the substrate W before the sealing sheet T is pasted and the substrate W after the sealing sheet T is pasted, and is loaded on the cassette base. It is supposed to be. The substrates W are stored in the cassettes C1 and C2 in multiple stages with the circuit surface facing upward and at a predetermined interval in the vertical direction.

基板搬送機構2にロボットアーム14が備わっている。ロボットアーム14は、水平進退、旋回および昇降可能に構成されている。ロボットアーム14の先端に馬蹄形の吸着保持部14aを備えている。吸着保持部14aは、基板供給・回収部1のいずれかのカセットC1、C2から基板Wを取り出し、アライメントステージ3、第1保持テーブル4、第2切断機構11およびウエハ供給・回収部1の順に基板Wを搬送および回収する。   The substrate transfer mechanism 2 is provided with a robot arm 14. The robot arm 14 is configured to be able to advance / retreat horizontally, turn and lift. A horseshoe-shaped suction holding portion 14 a is provided at the tip of the robot arm 14. The suction holding unit 14a takes out the substrate W from one of the cassettes C1 and C2 of the substrate supply / recovery unit 1, and in the order of the alignment stage 3, the first holding table 4, the second cutting mechanism 11, and the wafer supply / recovery unit 1. The substrate W is transported and collected.

アライメントステージ3は、保持面から進退する吸着パッドで基板Wの裏面を吸着保持した状態で回転させながら、基板Wの外周に形成されたアライメント用のノッチを検出し、当該検出結果に基づいて中心合わせを行う。   The alignment stage 3 detects an alignment notch formed on the outer periphery of the substrate W while rotating with the suction pad advancing and retreating from the holding surface while the back surface of the substrate W is sucked and held, and based on the detection result, Align.

第1保持テーブル4は、図6および図9に示すように、基板搬送機構2から移載されて所定の位置合わせ姿勢で載置された基板Wを真空吸着する。また、第1保持テーブル4の上面には、後述する第1切断機構8に備えられたカッタ41を基板Wの外形に沿って旋回させて封止シートTを切断するためにカッタ走行溝15が形成されている。また、第1保持テーブル4のテーブル中心には、基板搬入搬出時に出退する吸着保持部15aが設けられている。   As shown in FIGS. 6 and 9, the first holding table 4 vacuum-sucks the substrate W transferred from the substrate transport mechanism 2 and placed in a predetermined alignment posture. Further, on the upper surface of the first holding table 4, there is a cutter running groove 15 for cutting a sealing sheet T by turning a cutter 41 provided in a first cutting mechanism 8 described later along the outer shape of the substrate W. Is formed. In addition, a suction holding portion 15a that is retracted when the substrate is carried in and out is provided at the center of the first holding table 4.

シート供給部5は、供給ボビン16から繰り出されたセパレータS付きの封止シートTを送りローラ17およびガイドローラ18で巻回案内してナイフエッジ状の剥離案内バー19に導く。さらに、剥離案内バー19の先端での折り返しによって封止シートTからセパレータSを剥離し、セパレータSが剥離された封止シートTを貼付けユニット7に導くよう構成されている。なお、封止シートTから剥離されたセパレータSは、セパレータ回収部6に導かれる。   The sheet supply unit 5 guides the sealing sheet T with the separator S fed from the supply bobbin 16 to be wound and guided by the feed roller 17 and the guide roller 18 to the peeling guide bar 19 having a knife edge shape. Further, the separator S is peeled off from the sealing sheet T by folding at the tip of the peeling guide bar 19, and the sealing sheet T from which the separator S has been peeled is guided to the affixing unit 7. The separator S peeled off from the sealing sheet T is guided to the separator collection unit 6.

送りローラ17は、ピンチローラ20との間に封止シートTを挟持案内するとともに、モータ21によって回転駆動されるようになっている。また、送りローラ17は、必要に応じて封止シートTを強制的に送り出す。   The feed roller 17 sandwiches and guides the sealing sheet T between the feed roller 17 and the pinch roller 20, and is rotated by a motor 21. Further, the feed roller 17 forcibly feeds the sealing sheet T as necessary.

供給ボビン16は、電磁ブレーキに連動連結されて適度の回転抵抗がかけられている。したがって、過剰なシート繰り出しが防止されている。   The supply bobbin 16 is interlocked with an electromagnetic brake and applied with a suitable rotational resistance. Therefore, excessive sheet feeding is prevented.

セパレータ回収部6は、封止シートTから剥離されたセパレータSを巻き取る回収ボビン22が備えられ、モータ23よって正逆に回転駆動制御されるようになっている。   The separator collection unit 6 is provided with a collection bobbin 22 that winds up the separator S peeled off from the sealing sheet T, and is rotationally controlled forward and backward by a motor 23.

貼付けユニット7は、シリンダなどによって上下に位置変更可能な貼付けローラ24を備えている。また、貼付けユニット7全体がガイドレール25に沿って水平移動可能に支持されるとともに、モータ26によって正逆回転駆動されるネジ軸27によって往復ネジ送り駆動されるようになっている。   The affixing unit 7 includes an affixing roller 24 whose position can be changed up and down by a cylinder or the like. The entire pasting unit 7 is supported so as to be horizontally movable along the guide rail 25 and is reciprocally screw-driven by a screw shaft 27 that is driven to rotate forward and backward by a motor 26.

剥離ユニット9は、剥離ローラ28、モータ駆動される送り出しローラ29、ガイドローラ30およびピンチローラ31が備えられている。また、この剥離ユニット9全体がガイドレール25に沿って水平移動可能に支持されるとともに、モータ32によって正逆回転駆動されるネジ軸33によって往復ネジ送り駆動されるようになっている。   The peeling unit 9 includes a peeling roller 28, a motor-driven delivery roller 29, a guide roller 30, and a pinch roller 31. In addition, the entire peeling unit 9 is supported so as to be horizontally movable along the guide rail 25 and is reciprocally screw-driven by a screw shaft 33 that is driven to rotate forward and backward by a motor 32.

ピンチローラ31は、シリンダによって昇降し、送り出しローラ29と協働して封止シートTを挟持する。   The pinch roller 31 is moved up and down by a cylinder and sandwiches the sealing sheet T in cooperation with the feed roller 29.

シート回収部10は、図5および図6に示すように、モータ駆動される回収ボビン35が備えられ、円形に切り抜かれた封止シートTを巻き取る方向に回転駆動される。   As shown in FIGS. 5 and 6, the sheet collection unit 10 includes a motor-driven collection bobbin 35 and is rotationally driven in a direction in which the sealing sheet T cut out in a circular shape is wound up.

第1切断機構8は、昇降可能な可動台42の下部に、第1保持テーブル4の中心上に位置する縦軸心X周りに駆動旋回可能に支持アーム43が装備されている。また、この支持アーム43の遊端側に備えたカッタユニット44に、刃先を下向きにした先細りテーパ状のカッタ41が装着されている。そして、この支持アーム43が、縦軸心X周りに旋回することによって、カッタ41が基板Wの外周に沿って走行して封止シートTを円形に切り抜くように構成されている。   The first cutting mechanism 8 is equipped with a support arm 43 at a lower part of a movable table 42 that can be moved up and down so as to be capable of driving and turning about a longitudinal axis X located on the center of the first holding table 4. Further, a tapered taper cutter 41 with a cutting edge facing downward is mounted on a cutter unit 44 provided on the free end side of the support arm 43. The support arm 43 is configured to turn around the longitudinal axis X so that the cutter 41 travels along the outer periphery of the substrate W and cuts the sealing sheet T into a circle.

第2切断機構11は、第2保持テーブル50、カッタユニット51およびカメラユニット52を備えている。   The second cutting mechanism 11 includes a second holding table 50, a cutter unit 51, and a camera unit 52.

第2保持テーブル50は、図7および図8に示すように、基板Wの直径よりも小径な吸着面を有し、基板搬送機構2から移載されて所定の位置合わせ姿勢で載置された基板Wの裏面を真空吸着する。また、第2保持テーブル50は、第1可動台53および第2可動台54よって前後左右に水平移動するとともに、旋回モータによって中心軸X周りに回転可能に構成されている。   As shown in FIGS. 7 and 8, the second holding table 50 has a suction surface having a diameter smaller than the diameter of the substrate W, and is transferred from the substrate transport mechanism 2 and placed in a predetermined alignment posture. The back surface of the substrate W is vacuum-sucked. Further, the second holding table 50 is configured to horizontally move front and rear and left and right by the first movable base 53 and the second movable base 54 and to be rotatable around the central axis X by a turning motor.

すなわち、第1可動台53は、基板搬送機構2側からカッタユニット51側に向かって基台12に敷設されたガイドレール55に沿って水平移動する。また、第2可動台54は、第1可動台53上でガイドレール55と直交する方向に敷設されたガイドレール56に沿って水平移動する。   In other words, the first movable base 53 moves horizontally along the guide rail 55 laid on the base 12 from the substrate transport mechanism 2 side toward the cutter unit 51 side. The second movable base 54 moves horizontally along the guide rail 56 laid on the first movable base 53 in a direction orthogonal to the guide rail 55.

カッタユニット51は、縦壁60に垂直に敷設されたガイドレール61に沿って昇降可能となるようにシリンダ62に連結された可動台63を備えている。可動台63の下部には、刃先を下向きした先細りテーパ状のカッタ64が、カッタホルダに着脱可能に装着されている。   The cutter unit 51 includes a movable base 63 connected to a cylinder 62 so as to be able to move up and down along a guide rail 61 laid vertically on a vertical wall 60. A tapered taper-shaped cutter 64 with the blade tip facing downward is detachably attached to the cutter holder at the lower part of the movable table 63.

カッタユニット51の下方には、同じガイドレール61に沿って昇降可能となるようシリンダ67に連結された可動台68に吸引ノズル65が、その吸引口をカッタ64に向けて配備されている。当該吸引ノズル65は、外部の真空装置66に連通接続されている。   Below the cutter unit 51, a suction nozzle 65 is arranged on a movable base 68 connected to a cylinder 67 so that it can be moved up and down along the same guide rail 61, with its suction port facing the cutter 64. The suction nozzle 65 is connected in communication with an external vacuum device 66.

カメラユニット52は、カッタユニット51の切断位置から第2保持テーブル50よりに配備されており、ウエハWの外周を裏面側から撮像する。撮像した画像データは、制御部70に送信される。なお、制御部70については、以下の装置の動作説明において後述する。   The camera unit 52 is provided from the second holding table 50 from the cutting position of the cutter unit 51, and images the outer periphery of the wafer W from the back side. The captured image data is transmitted to the control unit 70. The control unit 70 will be described later in the following description of the operation of the apparatus.

次に、上記実施例装置を用いて表面保護用の封止シートTを基板Wの表面に貼付けるための一連の動作を図6から図15に基づいて説明する。   Next, a series of operations for sticking the surface protecting sealing sheet T to the surface of the substrate W using the above-described embodiment apparatus will be described with reference to FIGS.

貼付け指令が出されると、先ず、基板搬送機構2のロボットアーム14がカセット台12に載置されたカセットC1に向けて移動される。ロボットアーム14の基板保持部14aがカセットC1に収容されている基板W同士の隙間に挿入される。基板保持部14aによって基板Wを裏面から吸着保持したロボットアーム14は、カセットC1から基板Wを搬出してアライメントステージ3に移載する。   When a sticking command is issued, first, the robot arm 14 of the substrate transport mechanism 2 is moved toward the cassette C1 placed on the cassette base 12. The substrate holding part 14a of the robot arm 14 is inserted into the gap between the substrates W accommodated in the cassette C1. The robot arm 14 that holds the substrate W by suction from the back surface by the substrate holding portion 14a carries the substrate W out of the cassette C1 and transfers it to the alignment stage 3.

アライメントステージ3に載置された基板Wは、外周に形成されているノッチを利用して位置合わせされる。位置合わせの済んだ基板Wは、再びロボットアーム14によって搬出されて第1保持テーブル4に載置される。   The substrate W placed on the alignment stage 3 is aligned using notches formed on the outer periphery. The aligned substrate W is again carried out by the robot arm 14 and placed on the first holding table 4.

第1保持テーブル4に載置された基板Wは、その中心が第1保持テーブル4の中心上にあるように位置合わせされた状態で吸着保持される。このとき、図6に示すように、貼付けユニット7と剥離ユニット9は左側の初期位置にある。また、第1切断機構8のカッタ41は、上方の初期位置で待機している。   The substrate W placed on the first holding table 4 is sucked and held in a state of being aligned so that the center thereof is on the center of the first holding table 4. At this time, as shown in FIG. 6, the pasting unit 7 and the peeling unit 9 are in the initial position on the left side. Further, the cutter 41 of the first cutting mechanism 8 stands by at an upper initial position.

先ず、剥離ユニット9が、シリンダを作動させてピンチローラ31を下降させて送り出しローラ29とで封止シートTを把持する。   First, the peeling unit 9 operates the cylinder to lower the pinch roller 31 and grips the sealing sheet T with the feed roller 29.

次に、図9に示すように、貼付けローラ24が下降されるとともに貼付けユニット7が前進移動する。この移動に伴って貼付けローラ24で封止シートTを基板Wに押圧しながら前方(図では右方向)に転動する。このとき、基板Wよりも幅広の封止シートTが、基板Wの表面に図中左端から貼付けられてゆく。   Next, as shown in FIG. 9, the sticking roller 24 is lowered and the sticking unit 7 moves forward. Along with this movement, the sticking roller 24 rolls forward (rightward in the figure) while pressing the sealing sheet T against the substrate W. At this time, the sealing sheet T wider than the substrate W is stuck on the surface of the substrate W from the left end in the figure.

図10に示すように、貼付けユニット7が第1保持テーブル4を越えた終端位置に達すると、上方に待機していたカッタ41が下降される。カッタ41は、第1保持テーブル4のカッタ走行溝15において封止シートTに突き刺される。   As shown in FIG. 10, when the sticking unit 7 reaches the end position beyond the first holding table 4, the cutter 41 waiting upward is lowered. The cutter 41 is pierced by the sealing sheet T in the cutter running groove 15 of the first holding table 4.

カッタ41が所定の切断高さ位置まで下降されて停止すると、支持アーム43が所定の方向に回転される。この回転に伴ってカッタ41が縦軸心X周りに旋回し、封止シートTがウエハ外形に沿って円形に切り抜かれる。   When the cutter 41 is lowered to a predetermined cutting height position and stopped, the support arm 43 is rotated in a predetermined direction. With this rotation, the cutter 41 turns around the vertical axis X, and the sealing sheet T is cut out in a circle along the outer shape of the wafer.

基板Wの外周に沿ったシート切断が終了すると、図11に示すように、カッタ41は元の待機位置まで上昇される。同時に剥離ユニット9のピンチローラ31を上昇させて封止シートTの把持を解除し、剥離ユニット9全体が剥離作業の終了位置へ移動する。   When the sheet cutting along the outer periphery of the substrate W is completed, the cutter 41 is raised to the original standby position as shown in FIG. At the same time, the pinch roller 31 of the peeling unit 9 is raised to release the gripping of the sealing sheet T, and the entire peeling unit 9 moves to the end position of the peeling operation.

このとき、剥離ユニット9の移動速度に同調して送り出しローラ29が駆動し、シート回収部10に向けて円形に切り抜かれた封止シートTを送り出す。   At this time, the feeding roller 29 is driven in synchronization with the moving speed of the peeling unit 9, and the sealing sheet T cut out in a circular shape is fed toward the sheet collecting unit 10.

シート貼付け処理が終了すると、図12に示すように、剥離ユニット9および貼付けユニット7は、元の待機位置まで戻る。このとき、これら剥離ユニット9および貼付けユニット7の移動速度に応じた長さの封止シートTが、シート供給部5から繰り出される。   When the sheet pasting process ends, as shown in FIG. 12, the peeling unit 9 and the pasting unit 7 return to the original standby position. At this time, the sealing sheet T having a length corresponding to the moving speed of the peeling unit 9 and the pasting unit 7 is fed out from the sheet supply unit 5.

剥離ユニット9および貼付けユニット7が、待機位置に達すると、第1保持テーブル4による基板Wの吸着が解除され、その後に基板Wは、ロボットアーム14の吸着保持部14aに保持されて第1保持テーブル4の上方に持ち上げられ、第2切断機構11へと搬出される。   When the peeling unit 9 and the affixing unit 7 reach the standby position, the suction of the substrate W by the first holding table 4 is released, and then the substrate W is held by the suction holding portion 14a of the robot arm 14 for the first holding. It is lifted above the table 4 and carried out to the second cutting mechanism 11.

ロボットアーム14は、待機位置にある第2保持テーブル50に基板Wを載置する。第2保持テーブル50によって基板Wが吸着されると、吸着保持部14aによる基板Wの吸着を解除する。第2保持テーブル50は、基板Wの外周がカメラユニット52の視野に収まる予め決めた位置まで移動する。   The robot arm 14 places the substrate W on the second holding table 50 in the standby position. When the substrate W is sucked by the second holding table 50, the suction of the substrate W by the suction holding unit 14a is released. The second holding table 50 moves to a predetermined position where the outer periphery of the substrate W is within the field of view of the camera unit 52.

所定位置に第2保持テーブル50が達すると、第2保持テーブル50を回転させながら基板Wの外周の画像を撮像する。取得した画像データを制御部70に送信する。制御部70は、予め取得した基準画像と現時点で取得した実画像から例えばパターンマッチングを利用して基板Wの中心位置を求めるとともにノッチの位置を求める。求めた結果に基づいて制御部70は、カッタ64を所定位置まで下降させるとともに、吸引ノズル65も所定位置まで上昇させる。その後、制御部70は、図14(a)の一点鎖線で示すように、カッタ64とV字状のノッチの奥端とが対向するよう第2保持テーブル50を水平および回転させて基板Wの中心合わせをする。   When the second holding table 50 reaches the predetermined position, an image of the outer periphery of the substrate W is taken while the second holding table 50 is rotated. The acquired image data is transmitted to the control unit 70. The control unit 70 obtains the center position of the substrate W from the reference image obtained in advance and the actual image obtained at the present time by using, for example, pattern matching and obtains the position of the notch. Based on the obtained result, the control unit 70 lowers the cutter 64 to a predetermined position and also raises the suction nozzle 65 to a predetermined position. Thereafter, the controller 70 horizontally and rotates the second holding table 50 so that the cutter 64 and the back end of the V-shaped notch face each other, as shown by a one-dot chain line in FIG. Center it.

次に、制御部70は、図14(b)の一点鎖線で示すように、一方のノッチの開口端から奥端までの側面とカッタ64の刃縁とが平行して接触するように第2保持テーブル50を前後水平並びに中心周りに回転させて位置合わせを行う。   Next, as shown by the alternate long and short dash line in FIG. 14B, the control unit 70 performs the second operation so that the side surface from the opening end to the back end of one notch and the blade edge of the cutter 64 are in parallel contact. The holding table 50 is rotated horizontally around the center and around the center for alignment.

位置合わせが完了すると、第2保持テーブル50の位置が固定され、図14(c)に示すように、カッタ64に向けて第2保持テーブル50を所定距離だけ移動させる。すなわち、カッタ64の刃縁をノッチの側面に沿わせながら奥端まで切り込んでゆく。カッタ64の刃先がノッチ奥端に達すると、第2保持テーブル50を後退させてノッチから引き出す。   When the alignment is completed, the position of the second holding table 50 is fixed, and the second holding table 50 is moved toward the cutter 64 by a predetermined distance as shown in FIG. In other words, the blade edge of the cutter 64 is cut to the back end along the side surface of the notch. When the cutting edge of the cutter 64 reaches the back end of the notch, the second holding table 50 is retracted and pulled out from the notch.

本実施例では、ノッチの深さが数ミリ以下なので、第2保持テーブル50を水平移動させるだけでよい。なお、中心合わせての一点鎖線とカッタ64の刃縁とが成す角度θおよびノッチの深さに応じて、封止シートTを切断する過程で、第2保持テーブル50を進行方向と直交する方向に水平移動させながら刃縁とノッチの側面とを平行に保つようにする。ノッチの奥端からカッタ64を抜き取るとき、第2保持テーブル50を切り込み時と逆の動作で移動せる。   In this embodiment, since the depth of the notch is several millimeters or less, it is only necessary to move the second holding table 50 horizontally. In the process of cutting the sealing sheet T according to the angle θ formed by the one-dot chain line in the center and the blade edge of the cutter 64 and the depth of the notch, the direction in which the second holding table 50 is orthogonal to the traveling direction. The blade edge and the side surface of the notch are kept parallel to each other while being moved horizontally. When the cutter 64 is extracted from the back end of the notch, the second holding table 50 is moved in the reverse operation to that for cutting.

次に、制御部70は、図15(a)に示すように、他方のノッチの開口端から奥端までの側面とカッタ64の刃縁とが平行して接触するように第2保持テーブル50を前後水平並びに中心周りに回転させて位置合わせを行う。   Next, as shown in FIG. 15A, the control unit 70 causes the second holding table 50 so that the side surface from the open end to the back end of the other notch and the blade edge of the cutter 64 are in parallel contact. Rotate the back and forth horizontally and around the center for alignment.

位置合わせが完了すると、前半の切り込み動作と同様に、第2保持テーブル50の位置が固定され、図15(b)に示すように、カッタ64に向けて第2保持テーブル50を所定距離だけ移動させる。すなわち、図15(c)に示すように、カッタ64の刃縁をノッチの側面に沿わせながら奥端まで切り込んで前半の切り込みと繋げてノッチ形状に封止シートTを切り抜く。   When the alignment is completed, the position of the second holding table 50 is fixed and the second holding table 50 is moved by a predetermined distance toward the cutter 64 as shown in FIG. Let That is, as shown in FIG. 15C, the sealing sheet T is cut into a notch shape by cutting the blade 64 of the cutter 64 to the back end along the side surface of the notch and connecting it to the notch of the first half.

このとき、可動台68を上昇させてノッチ部分を基板Wの裏面側から吸引ノズル65で吸引している。したがって、ノッチ部分Vの切断時に発生する切り屑およびノッチ形状に切り抜かれた封止シート片が吸引除去される。   At this time, the movable base 68 is raised and the notch portion is sucked by the suction nozzle 65 from the back side of the substrate W. Therefore, the chips generated when cutting the notch portion V and the sealing sheet piece cut into the notch shape are removed by suction.

なお、封止シートTの吸引時に、ノッチ部分Vから切り抜かれた封止シート片が、吸引ノズル65に吸引されたかどうかを検出器で検出するようにしてもよい。検出器としては、例えば、吸引ノズル65に非接触式の光センサなどを配備してもよいし、或いは封止シート片の吸引時の圧力変化を圧力計または流量変化を流量計で検出するように構成してもよい。   Note that, when the sealing sheet T is sucked, the detector may detect whether the sealing sheet piece cut out from the notch portion V is sucked by the suction nozzle 65. As the detector, for example, a non-contact type optical sensor or the like may be provided in the suction nozzle 65, or the pressure change at the time of suction of the sealing sheet piece is detected by a pressure gauge or the flow rate. You may comprise.

ノッチ分部の封止シートTの切断処理が完了すると、カッタユニット51およびカッタ受台68をそれぞれ待機位置に戻す。同時に第2保持テーブル50は、基板Wをロボットアーム14に受け渡す位置まで移動する。   When the cutting process of the sealing sheet T at the notch portion is completed, the cutter unit 51 and the cutter holder 68 are returned to the standby positions. At the same time, the second holding table 50 moves to a position where the substrate W is transferred to the robot arm 14.

ロボットアーム14が基板Wを吸着保持すると、第2保持テーブル50は基板Wの吸着保持を解除する。その後、ロボットアーム14は、カセットC2へと基板Wを搬送する。   When the robot arm 14 holds the substrate W by suction, the second holding table 50 releases the suction holding of the substrate W. Thereafter, the robot arm 14 transports the substrate W to the cassette C2.

以上で1回の封止シートTの貼付け処理が完了し、以後、所定枚数の基板Wに対してシート貼付け処理が完了するまで上記作動を順次繰り返してゆく。   The above-described operation is sequentially repeated until the pasting process of one sealing sheet T is completed, and thereafter the sheet pasting process is completed on a predetermined number of substrates W.

以上で、上記実施例装置の一連の動作が終了する。   Thus, a series of operations of the above-described embodiment apparatus is completed.

上述のように、第1切断機構8によってウエハWと略同じ円形に封止シートTを切り抜いた後に、第2切断機構11の第2切断刃64によってV字状のノッチ部分Vを覆っている封止シートTを切断することにより、ノッチ部分Vの封止シートTを切断する過程で、従来のカッタの切り込み角度の変更に伴う過剰な押圧が、基板Wおよびカッタ64に作用しなし。したがって、基板Wおよび封止層Mの欠けや割れ、並びにカッタ64の刃こぼれも抑制される。   As described above, the V-shaped notch portion V is covered by the second cutting blade 64 of the second cutting mechanism 11 after the sealing sheet T is cut out in the same circle as the wafer W by the first cutting mechanism 8. By cutting the sealing sheet T, in the process of cutting the sealing sheet T of the notch portion V, excessive pressing accompanying the change of the cutting angle of the conventional cutter does not act on the substrate W and the cutter 64. Therefore, chipping and cracking of the substrate W and the sealing layer M and blade spillage of the cutter 64 are also suppressed.

さらに、ノッチ部分Vの封止シート切断時に基板Wを挟んでカッタ64に吸引ノズル65と対向配備しているので、封止シートTの切断時に発生する切り屑、固形粒子などの塵埃および封止シート片などは、直ちに吸引除去される。したがって、基板Wの汚染を抑制することができる。   In addition, since the suction nozzle 65 is disposed opposite to the cutter 64 with the substrate W sandwiched when the sealing sheet of the notch portion V is cut, dust such as chips and solid particles generated during cutting of the sealing sheet T and sealing Sheet pieces and the like are immediately removed by suction. Therefore, contamination of the substrate W can be suppressed.

なお、本発明は以下のような形態で実施することもできる。   In addition, this invention can also be implemented with the following forms.

(1)上記実施例装置において、第2切断機構11の備わったカッタ64は、図16に示すように、封止シートTの切り込み方向の前後に揺動するよう軸支されているとともに、上部に長孔71にネジ72を挿入して固定することにより、角度を変更可能に構成してもよい。   (1) In the above-described embodiment apparatus, the cutter 64 provided with the second cutting mechanism 11 is pivotally supported so as to swing back and forth in the cutting direction of the sealing sheet T as shown in FIG. Alternatively, the angle may be changed by inserting and fixing the screw 72 into the long hole 71.

さらに、当該構成において、封止シートTの切り込み方向にカッタ64を弾性付勢するのが好ましい。すなわち、封止シートTの切り込み過程で過剰な押圧が刃縁に作用すると弾性付勢に抗してカッタ64が後方に揺動する。したがって、基板Wの欠けや割れ、さらには、カッタ64の刃こぼれを確実に回避することができる。   Furthermore, in the said structure, it is preferable to elastically urge the cutter 64 in the cutting direction of the sealing sheet T. That is, when excessive pressing acts on the blade edge during the cutting process of the sealing sheet T, the cutter 64 swings backward against the elastic bias. Therefore, chipping and cracking of the substrate W and further blade spilling of the cutter 64 can be avoided reliably.

(2)上記実施例装置において、第1切断機構8のカッタ41および第2切断機構11のカッタ64のうち、少なくともカッタ64を加熱器で加熱するように構成してもよい。すなわち、カッタユニット51にヒータを埋設し、カッタ64を加熱するように構成すればよい。この構成によれば、カッタ64の熱によって封止シートTを軟化させながら切断することができる。   (2) In the above-described embodiment apparatus, at least the cutter 64 of the cutter 41 of the first cutting mechanism 8 and the cutter 64 of the second cutting mechanism 11 may be heated by a heater. In other words, a heater may be embedded in the cutter unit 51 and the cutter 64 may be heated. According to this configuration, the sealing sheet T can be cut while being softened by the heat of the cutter 64.

(3)上記実施例では基板Wの円弧部分の封止シートTを先に切断した後、個別の位置に配備した第2切断機構11によってノッチ部分Vの封止シートTを切断していたが、当該構成に限定されない。したがって、例えば、ノッチ部分Vの封止シートTを切断した後に、円弧部分の封止シートTを切断してもよい。   (3) Although the sealing sheet T of the circular arc part of the board | substrate W was cut | disconnected previously in the said Example, the sealing sheet T of the notch part V was cut | disconnected by the 2nd cutting mechanism 11 arrange | positioned in the separate position. The configuration is not limited to this. Therefore, for example, after cutting the sealing sheet T of the notch portion V, the sealing sheet T of the arc portion may be cut.

この場合。第2切断機構11に備わった吸引ノズル65の機能を第1保持テーブル4に持たせればよい。例えば、第1保持テーブル4はチャックテーブルであるので、基板Wの吸着用の溝と封止シート片を吸引回収する部分を区画し、異なる吸引系統で封止シート片のみを回収するよう構成すればよい。なお、ノッチの検出は、アライメントステージ3で行い、当該位置情報に基づいてノッチ部分Vが切断位置にくるようロボットアーム14で載置すればよい。また、位置精度を高めるために、第1保持テーブル4をシート供給方向の前後左右および中心軸周りに回転するよう構成してもよい。   in this case. The first holding table 4 may have the function of the suction nozzle 65 provided in the second cutting mechanism 11. For example, since the first holding table 4 is a chuck table, the suction groove of the substrate W and a portion for sucking and collecting the sealing sheet piece are partitioned, and only the sealing sheet piece is collected by a different suction system. That's fine. The notch may be detected by the alignment stage 3 and placed by the robot arm 14 so that the notch portion V comes to the cutting position based on the position information. Further, in order to improve the positional accuracy, the first holding table 4 may be configured to rotate around the front and rear, right and left in the sheet supply direction and around the central axis.

(4)上記実施例では略円形の半導体基板を例にとって説明したが、長方形や正方形などの四角形の基板などにノッチが形成されている場合に適用することができる。また基板Wに形成されたノッチはV字状に限定されず、湾曲した凹入形状なども含む。   (4) Although the above embodiment has been described by taking a substantially circular semiconductor substrate as an example, the present invention can be applied to a case where a notch is formed on a rectangular substrate such as a rectangle or a square. Moreover, the notch formed in the board | substrate W is not limited to V shape, The curved recessed shape etc. are included.

ノッチが凹入湾曲している場合、カッタ64の刃縁が湾曲形状に追従するよう、カッタホルダとカッタ64を縦軸芯周りに回転するよう構成すればよい。例えば、図17に示すように、縦軸芯周りに回転自在に装着されたカッタ64の切り込み方向の後端寄りの両側面にピンシリンダ73を当接させておき、左右のピンシリンダ73のロッドの付勢力の調整し、ノッチの側面に適度な付勢力でカッタ64の刃縁が接触するように構成する。   When the notch is concavely curved, the cutter holder and the cutter 64 may be configured to rotate around the longitudinal axis so that the blade edge of the cutter 64 follows the curved shape. For example, as shown in FIG. 17, pin cylinders 73 are brought into contact with both side surfaces near the rear end of the cutting direction of the cutter 64 that is rotatably mounted around the longitudinal axis, and the rods of the left and right pin cylinders 73 are The blade edge of the cutter 64 is configured to come into contact with the side surface of the notch with an appropriate biasing force.

4 … 第1保持テーブル
5 … シート供給部
7 … 貼付けユニット
8 … 第1切断機構
9 … 剥離ユニット
10 … シート回収部
11 … 第2切断機構
41 … カッタ(第1切断刃)
50 … 第2保持テーブル
64 … カッタ(第2切断刃)
65 … 吸引ノズル
T … 封止シート
V … ノッチ部分
W … 半導体基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 ... 1st holding table 5 ... Sheet supply part 7 ... Pasting unit 8 ... 1st cutting mechanism 9 ... Peeling unit 10 ... Sheet collection | recovery part 11 ... 2nd cutting mechanism 41 ... Cutter (1st cutting blade)
50 ... Second holding table 64 ... Cutter (second cutting blade)
65 ... Suction nozzle T ... Sealing sheet V ... Notch part W ... Semiconductor substrate

Claims (10)

半導体基板に貼り付けられた樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを切断する封止シート切断方法であって、
前記半導体基板よりも大形の封止シートを当該半導体基板に貼り付ける貼付け過程と、
前記半導体基板に形成されたノッチを覆って貼り付けられた封止シートの当該ノッチ部分を残しつつ、第1切断機構に備わった第1切断刃を半導体基板の外径に沿わせて当該封止シートを切断する第1切断過程と、
前記半導体基板の形状に切り抜かれた封止シートを回収する回収過程と、
前記ノッチの開口端の一方から第2切断機構の第2切断刃をノッチに沿わせて奥端まで切り込みを入れる第2切断過程と、
前記ノッチの開口端の他方から第2切断機構の第2切断刃をノッチに沿わせて奥端まで切り込みを入れてノッチ形状に封止シートを切り抜く第3切断過程と、
を備えたことを特徴とする封止シート切断方法。
A sealing sheet cutting method for cutting a sealing sheet having a sealing layer formed of a resin composition attached to a semiconductor substrate,
A pasting process for pasting a sealing sheet larger than the semiconductor substrate to the semiconductor substrate;
The first cutting blade provided in the first cutting mechanism is placed along the outer diameter of the semiconductor substrate while leaving the notch portion of the sealing sheet attached to cover the notch formed in the semiconductor substrate. A first cutting process for cutting the sheet;
A recovery process of recovering the sealing sheet cut out in the shape of the semiconductor substrate;
A second cutting process in which a second cutting blade of a second cutting mechanism is cut from one of the open ends of the notch to the back end along the notch;
A third cutting step of cutting the sealing sheet into a notch shape by cutting the second cutting blade of the second cutting mechanism from the other of the opening ends of the notch into the notch along the notch;
A sealing sheet cutting method comprising:
請求項1に記載の封止シート切断方法において、
前記第2切断過程および第3切断過程は、ホルダに揺動可能に軸支された第2切断刃を切り込み方向に弾性付勢させながら封止シートに切り込みを入れる
ことを特徴とする封止シート切断方法。
In the sealing sheet cutting method according to claim 1,
The second cutting process and the third cutting process are characterized in that the sealing sheet is cut while elastically urging the second cutting blade pivotally supported by the holder in the cutting direction. Cutting method.
請求項1または請求項2に記載の封止シート切断方法において、
前記第2切断過程および第3切断過程のうち、少なくとも第3切断過程においてノッチ部分を吸引しながら封止シートを切り抜く
ことを特徴とする封止シート切断方法。
In the sealing sheet cutting method according to claim 1 or 2,
A sealing sheet cutting method, wherein the sealing sheet is cut out while sucking the notch portion at least in the third cutting process among the second cutting process and the third cutting process.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の封止シート切断方法において、
前記第3切断過程の後、ノッチ部分の封止シートの切断不良を検査する検査過程を備えた
ことを特徴とする封止シート切断方法。
In the sealing sheet cutting method according to any one of claims 1 to 3,
A sealing sheet cutting method comprising: an inspection process for inspecting a cutting failure of the sealing sheet at the notch portion after the third cutting process.
請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の封止シート切断方法において、
前記第1切断過程ないし第3切断過程は、第1切断刃および第2切断刃を加熱器で加熱しながら封止シートを切断する
ことを特徴とする封止シート切断方法。
In the sealing sheet cutting method according to any one of claims 1 to 4,
In the first cutting process to the third cutting process, the sealing sheet is cut while heating the first cutting blade and the second cutting blade with a heater.
半導体基板に貼り付けられた樹脂組成物からなる封止層の形成された封止シートを切断する封止シート切断装置であって、
前記半導体基板を載置保持する第1保持テーブルと、
前記半導体基板に封止シートを貼り付ける貼付け機構と、
前記半導体基板に形成されたノッチを覆って貼り付けられた封止シートの当該ノッチ部分を残しつつ、半導体基板の外形に第1切断刃を沿わせて当該封止シートを切断する第1切断機構と、
前記半導体基板の形状に切り抜かれた残余の封止シートを回収するシート回収機構と、
前記封止シートの貼り付けられた半導体基板を載置保持しつつ水平移動するとともに、半導体基板の中心軸周りに回転する第2保持テーブルと、
前記第2保持テーブルに載置保持された半導体基板のノッチを検出する検出器と、
第2切断刃の刃縁をノッチに沿わせて当該ノッチ部分を覆う封止シートを切り抜く第2切断機構を備え、
前記検出器によって検出されたノッチの位置情報に基づいて、第2保持テーブルを回転および水平移動させてノッチの開口端と第2切断刃の刃先を対向するよう位置合わせするごとに、第2切断機構に配備された第2切断刃に対して当該第2保持テーブルを往復移動させる過程で、当該第2切断刃をノッチに沿わせてノッチ奥端まで切り込みを入れ、両切り込みをノッチ奥端で繋ぎ合わせてノッチ形状に封止シートを切り抜くように構成した
ことを特徴とする封止シート切断装置。
A sealing sheet cutting device for cutting a sealing sheet formed with a sealing layer made of a resin composition attached to a semiconductor substrate,
A first holding table for mounting and holding the semiconductor substrate;
A pasting mechanism for pasting a sealing sheet to the semiconductor substrate;
A first cutting mechanism that cuts the sealing sheet along the first cutting blade along the outer shape of the semiconductor substrate while leaving the notch portion of the sealing sheet attached to cover the notch formed on the semiconductor substrate. When,
A sheet recovery mechanism for recovering the remaining sealing sheet cut out in the shape of the semiconductor substrate;
A second holding table that horizontally moves while mounting and holding the semiconductor substrate to which the sealing sheet is attached, and that rotates around the central axis of the semiconductor substrate;
A detector for detecting a notch of the semiconductor substrate placed and held on the second holding table;
A second cutting mechanism for cutting out a sealing sheet covering the notch portion along the notch of the edge of the second cutting blade;
Each time the second holding table is rotated and horizontally moved based on the position information of the notch detected by the detector so as to align the opening end of the notch and the cutting edge of the second cutting blade, the second cutting is performed. In the process of reciprocating the second holding table with respect to the second cutting blade arranged in the mechanism, the second cutting blade is cut along the notch to the notch deep end, and both cuts are made at the notch deep end. A sealing sheet cutting device characterized in that the sealing sheet is cut out into a notch shape by joining together.
請求項6に記載の封止シート切断装置において、
前記第2切断刃は、第2切断機構のホルダに揺動可能に軸支されており、かつ、封止シートの切り込み方向に弾性付勢されている
ことを特徴とする封止シート切断装置。
In the sealing sheet cutting device according to claim 6,
The said 2nd cutting blade is pivotally supported by the holder of the 2nd cutting mechanism so that rocking is possible, and is elastically urged | biased in the cutting direction of a sealing sheet. The sealing sheet cutting device characterized by the above-mentioned.
請求項6または請求項7に記載の封止シート切断装置において、
前記半導体基板を挟んで第2切断刃と対向配備され、ノッチ部分を吸引する吸引機構を備えた
ことを特徴とする封止シート切断装置。
In the sealing sheet cutting device according to claim 6 or 7,
A sealing sheet cutting device comprising a suction mechanism that is disposed opposite to the second cutting blade with the semiconductor substrate interposed therebetween and sucks a notch portion.
請求項6ないし請求項8のいずれかに記載の封止シート切断装置において、
前記第2切断刃を加熱する加熱器を備えた
ことを特徴とする封止シート切断装置。
In the sealing sheet cutting device according to any one of claims 6 to 8,
A sealing sheet cutting device comprising a heater for heating the second cutting blade.
請求項6ないし請求項9のいずれかに記載の封止シート切断装置において、
前記ノッチ部分の封止シートの切断の有無を検出する検出器と、
当該検出器からの検出信号に基づいて、ノッチ部分の切断不良を判別する判別部を備えた
ことを特徴とする封止シート切断装置。
In the sealing sheet cutting device according to any one of claims 6 to 9,
A detector for detecting the presence or absence of cutting of the sealing sheet of the notch portion;
A sealing sheet cutting apparatus comprising: a determination unit that determines a cutting failure of a notch portion based on a detection signal from the detector.
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