JP2014205866A - 成膜装置用部材、及び、成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装着性に優れ、高温下においてもガスや脱着時の残留物の発生が少ない成膜装置用部材を提供すること。
【解決手段】防着面を有する基板材料と、前記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする成膜装置用部材、及び、成膜容器内部に、前記成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置。また、前記エラストマー層表面の粘着力は、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下であることが好ましく、また、前記成膜装置用部材は、成膜装置用防着板であることが好ましい。
【選択図】なし
【解決手段】防着面を有する基板材料と、前記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする成膜装置用部材、及び、成膜容器内部に、前記成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置。また、前記エラストマー層表面の粘着力は、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下であることが好ましく、また、前記成膜装置用部材は、成膜装置用防着板であることが好ましい。
【選択図】なし
Description
本発明は、成膜装置用部材、及び、成膜装置に関する。
例えば、スパッタ装置や蒸着装置等の成膜装置は、容器内に収容された基板に対して薄膜を形成する装置であるが、この基板以外の成膜装置内にも薄膜が形成されてしまう。成膜装置では、成膜装置内に付着した膜を一定期間毎に剥離・除去する必要がある。
また、特許文献１には、薄膜形成装置において、基板以外の周辺の機器に付着した物質を捕獲する金属箔を予め支持板に取付け、該金属箔を取付けた支持板の１又は複数枚を薄膜形成装置内の機器に取替え可能に設置したことを特徴とする薄膜形成装置用汚染防止装置が記載されている。
特許文献２には、基板類への成膜処理中に不要な付着膜が成膜される成膜装置用部品において、成膜装置用部品本体と、上記成膜装置用部品本体の表面に形成されて上記付着膜と共に剥離可能な保護膜と、を有することを特徴とする成膜装置用部品が記載されている。
また、特許文献１には、薄膜形成装置において、基板以外の周辺の機器に付着した物質を捕獲する金属箔を予め支持板に取付け、該金属箔を取付けた支持板の１又は複数枚を薄膜形成装置内の機器に取替え可能に設置したことを特徴とする薄膜形成装置用汚染防止装置が記載されている。
特許文献２には、基板類への成膜処理中に不要な付着膜が成膜される成膜装置用部品において、成膜装置用部品本体と、上記成膜装置用部品本体の表面に形成されて上記付着膜と共に剥離可能な保護膜と、を有することを特徴とする成膜装置用部品が記載されている。
真空装置等の成膜装置内で用いられる防着板を含む構造体及び部材については、ガスの発生が少ないことが要求される。更に、成膜条件によっては一定の温度領域まで加熱されるので、高温領域でのガス発生や分解が懸念される成分の使用は望ましくない。そのため防着板を含む部材の固定などは、従来金属や酸化物性のネジやフックを用いて行われていた。これらの方法では、部材の取付け・取外しには一定の技能が必要となり、コストをかけて業者に依頼する、又は、専門の担当者が時間をかけて行うしかなかった。また、上記のような固定を行うため特殊な設計をした装置や改造を施した装置の場合には更に固定金具や固定穴を追設する必要が有り、装置の機能低下や不具合に繋がることもある状況であった。
やむを得ず耐熱性のカプトンテープ等を用いて防着板を含む構造体又は部材を貼り付けて固定する方法も一部では実際に行われているが、粘着層からのガスの放出（デガス）の問題や、高温化で使用された後の粘着層残りの問題が有り限られた条件でしか適用できていないという問題があった。
やむを得ず耐熱性のカプトンテープ等を用いて防着板を含む構造体又は部材を貼り付けて固定する方法も一部では実際に行われているが、粘着層からのガスの放出（デガス）の問題や、高温化で使用された後の粘着層残りの問題が有り限られた条件でしか適用できていないという問題があった。
これに対して防着板の側から、厚みを薄くしたり、強度を下げたりしてチェンバー内部の形状に追従しやすくすることで、家庭用のアルミホイルのような感覚で固定できることを目指すアイデアが提案されているが、凹凸の少ない装置には取り扱い難いという問題があった。また、最近のディスプレイ装置用の大型蒸着装置に適用する場合には、大面積が必要でかつ壁面、ホルダー面に密着していることが望まれている。
やむを得ず、蒸着素材が積層した装置壁面やホルダーなどにブラスト処理をかけて洗浄するなど、手間をかけて再生している状況である。
やむを得ず、蒸着素材が積層した装置壁面やホルダーなどにブラスト処理をかけて洗浄するなど、手間をかけて再生している状況である。
本発明が解決しようとする課題は、装着性に優れ、高温下においてもガスや脱着時の残留物の発生が少ない成膜装置用部材を提供することである。
本発明の上記課題は以下の＜１＞及び＜１２＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜１１＞と共に以下に記載する。
＜１＞防着面を有する基板材料と、上記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする成膜装置用部材、
＜２＞上記エラストマー層表面の粘着力が、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下である、上記＜１＞に記載の成膜装置用部材、
＜３＞上記エラストマー層が、２６０℃で３６０分間加熱した際の質量の減少が１質量％以下である、上記＜１＞又は＜２＞に記載の成膜装置用部材、
＜４＞上記基板材料の引張強度が、２００ＭＰａ未満である、上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜５＞上記基板材料の引張強度が、１５０ＭＰａ未満である、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜６＞上記基板材料が、焼鈍処理された基板材料である、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜７＞上記シリコーンゴムが、シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムである、上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜８＞上記エラストマー層が、シリコーンゴムのエラストマー層である、上記＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜９＞上記シリコーンゴムが、ポリジメチルシロキサン鎖を有するシリコーンゴムである、上記＜８＞に記載の成膜装置用部材、
＜１０＞上記シリコーンゴムが、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサンを少なくとも含む組成物より得られたシリコーンゴムである、上記＜８＞又は＜９＞に記載の成膜装置用部材、
＜１１＞成膜装置用防着板である、上記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜１２＞成膜容器内部に、上記＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置。
＜１＞防着面を有する基板材料と、上記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする成膜装置用部材、
＜２＞上記エラストマー層表面の粘着力が、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下である、上記＜１＞に記載の成膜装置用部材、
＜３＞上記エラストマー層が、２６０℃で３６０分間加熱した際の質量の減少が１質量％以下である、上記＜１＞又は＜２＞に記載の成膜装置用部材、
＜４＞上記基板材料の引張強度が、２００ＭＰａ未満である、上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜５＞上記基板材料の引張強度が、１５０ＭＰａ未満である、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜６＞上記基板材料が、焼鈍処理された基板材料である、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜７＞上記シリコーンゴムが、シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムである、上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜８＞上記エラストマー層が、シリコーンゴムのエラストマー層である、上記＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜９＞上記シリコーンゴムが、ポリジメチルシロキサン鎖を有するシリコーンゴムである、上記＜８＞に記載の成膜装置用部材、
＜１０＞上記シリコーンゴムが、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサンを少なくとも含む組成物より得られたシリコーンゴムである、上記＜８＞又は＜９＞に記載の成膜装置用部材、
＜１１＞成膜装置用防着板である、上記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材、
＜１２＞成膜容器内部に、上記＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置。
本発明によれば、装着性に優れ、高温下においてもガスや脱着時の残留物の発生が少ない成膜装置用部材を提供することができた。
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
本発明の成膜装置用部材は、防着面を有する基板材料と、上記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする。
本発明の成膜装置用部材は、真空蒸着装置やスパッタ装置等の成膜装置用防着板として好適に用いることができる。
防着板とは、蒸着素材やスパッタリング素材等の成膜材料が成膜装置の内面に直接付着するのを防止し、成膜装置の内面を保護するために設けられた部材であり、定期的に交換可能な部材をいう。
また、本発明の成膜装置用部材は、高温下においてもガスの発生が少ないため、真空蒸着装置用部材として好適に用いることができる。
本発明の成膜装置用部材は、真空蒸着装置やスパッタ装置等の成膜装置用防着板として好適に用いることができる。
防着板とは、蒸着素材やスパッタリング素材等の成膜材料が成膜装置の内面に直接付着するのを防止し、成膜装置の内面を保護するために設けられた部材であり、定期的に交換可能な部材をいう。
また、本発明の成膜装置用部材は、高温下においてもガスの発生が少ないため、真空蒸着装置用部材として好適に用いることができる。
（エラストマー層）
本発明の成膜装置用部材は、基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層を有する。
本発明の成膜装置用部材は、上記エラストマー層を有することにより、装着性に優れ、高温下においてもガスや残留物の発生が少ない部材を得ることができる。
本発明におけるエラストマーとは、ゴム状の弾力性を有する工業用材料の総称であり、シリコーンゴム及びフッ素ゴムが含まれる。
また、上記シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層は、主成分としてシリコーンゴム及び／又はフッ素ゴムを含み、また、シリコーンゴム又はフッ素ゴム以外に、必要に応じ、他の成分を含有していてもよい。他の成分については、後述する。
上記エラストマー層の材質は、粘着力の観点からは、シリコーンゴムが好ましく、高温下におけるガスの発生の観点からは、フッ素ゴムが好ましい。
本発明の成膜装置用部材は、基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層を有する。
本発明の成膜装置用部材は、上記エラストマー層を有することにより、装着性に優れ、高温下においてもガスや残留物の発生が少ない部材を得ることができる。
本発明におけるエラストマーとは、ゴム状の弾力性を有する工業用材料の総称であり、シリコーンゴム及びフッ素ゴムが含まれる。
また、上記シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層は、主成分としてシリコーンゴム及び／又はフッ素ゴムを含み、また、シリコーンゴム又はフッ素ゴム以外に、必要に応じ、他の成分を含有していてもよい。他の成分については、後述する。
上記エラストマー層の材質は、粘着力の観点からは、シリコーンゴムが好ましく、高温下におけるガスの発生の観点からは、フッ素ゴムが好ましい。
本発明の成膜装置用部材における上記エラストマー層表面の粘着力が、１０ｇ重／ｃｍ2以上２，５００ｇ重／ｃｍ2以下であることが好ましく、５０ｇ重／ｃｍ2以上２，０００ｇ重／ｃｍ2以下であることがより好ましく、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、凹凸のある装置表面であっても、成膜装置用部材は容易に接着固定可能であり、また、取り外しも容易である。
なお、１ｇ重／ｃｍ2＝９．８×１０-3Ｎ／ｃｍ2である。
上記粘着力の測定は、ＪＩＳ Ｚ３２８４・ＩＩＷ・ＳＣ／ＩＡ−ＳＰ０５８、ＩＰＣ・ＳＰ−８１９準拠の方法により好適に行うことができる。
なお、１ｇ重／ｃｍ2＝９．８×１０-3Ｎ／ｃｍ2である。
上記粘着力の測定は、ＪＩＳ Ｚ３２８４・ＩＩＷ・ＳＣ／ＩＡ−ＳＰ０５８、ＩＰＣ・ＳＰ−８１９準拠の方法により好適に行うことができる。
具体的には、例えば、（株）レスカ製タッキング試験機を用い加圧１０ｋｇとし、加圧時間は１０秒として粘着力を好適に測定することができる。プローブは室温程度（２５℃）に設定することが好ましい。
本発明の成膜装置用部材における上記エラストマー層は、２６０℃で３６０分間加熱した際の質量の減少が、５質量％以下であることが好ましく、２質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが更に好ましく、０．５質量％以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、高温下においてもガスの発生が少なく、真空蒸着装置用部材として特に好適に用いることができる。
成膜装置用部材の加熱前後における質量減少の測定方法として具体的には、例えば、成膜装置用部材を２６０℃で６時間連続加熱を行い、その前後の質量変化から質量減少を測定する方法が好適に挙げられる。また、加熱処理前後の質量測定は、２５℃、５０％ＲＨの環境にサンプルを放置した後、測定を行うことが好ましい。
成膜装置用部材の加熱前後における質量減少の測定方法として具体的には、例えば、成膜装置用部材を２６０℃で６時間連続加熱を行い、その前後の質量変化から質量減少を測定する方法が好適に挙げられる。また、加熱処理前後の質量測定は、２５℃、５０％ＲＨの環境にサンプルを放置した後、測定を行うことが好ましい。
上記エラストマー層の厚みは、５０μｍ以上２ｍｍ以下が好ましく、１００μｍ以上５００μｍ以下がより好ましい。上記態様であると、成膜装置内の貼り付ける対象部位の表面凹凸に容易に追従でき、当該対象部位への接着性に優れ、また、取り扱い性に優れる。
また、上記エラストマー層の表面硬度については、ＪＩＳ−Ａでの硬度が１００以下であることが好ましい。上記態様であると、成膜装置内の貼り付ける対象部位の表面凹凸に容易に追従でき、当該対象部位への接着性に優れる。
また、上記エラストマー層の表面硬度については、ＪＩＳ−Ａでの硬度が１００以下であることが好ましい。上記態様であると、成膜装置内の貼り付ける対象部位の表面凹凸に容易に追従でき、当該対象部位への接着性に優れる。
エラストマー層を基板材料上に形成する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により形成することができるが、例えば、原料となる組成物をスクリーン印刷法、ディップ法、ドクターブレード法、ナイフコート法、バーコート法、スピンコート法などを用いて基板材料上に形成する方法を挙げることができる。
＜シリコーンゴム＞
上記エラストマー層の材質として、粘着力の観点から、シリコーンゴムが好適に挙げられる。シリコーンゴムは、耐熱性を有しかつ一定の粘着力を有する点で本願の構成には最適の素材である。
シリコーンゴムとしては、耐熱性の観点から、シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムが好ましい。
上記エラストマー層の材質として、粘着力の観点から、シリコーンゴムが好適に挙げられる。シリコーンゴムは、耐熱性を有しかつ一定の粘着力を有する点で本願の構成には最適の素材である。
シリコーンゴムとしては、耐熱性の観点から、シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムが好ましい。
また、シリコーンゴムとしては、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）が１００〜５０，０００存在する直鎖構造を主成分とするシリコーンゴムが好ましい。また、上記エラストマー層は、揮発性を有する低分子シロキサン（シロキサン結合の数が１０以下）を含まないことが好ましい。低分子シロキサンを含まないシリコーンゴムとしては、低分子シロキサンを予め除去したシリコーン材料を用いてもよいし、低分子シロキサンを除去、固定する目的でシロキサン結合の末端をシラノールで変性した材料を用いてもよい。
低分子シロキサンを含まない材料としては市販材料を適宜用いることができ、具体的には、信越化学工業（株）製のＲＴＶ（Room Temperature Vulcanizing）ゴム（室温硬化型ゴム）の内、低分子量シリコーン低減タイプなどを用いることができる。特に基板材料との接着を意図する場合には、熱硬化型の材料を選ぶことが好ましい。
シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムは、シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを含む混合物を、加水分解反応及び縮合反応することによって得られたシリコーンゴムであることが好ましい。
本発明におけるシリケート化合物とは、ケイ素アルコキシド、及び、ケイ素アルコキシドを縮合して得られるオリゴマー、すなわち、シロキサン（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）骨格を有し、末端にアルコキシ基（ＲＯ）を有する化合物のことである。ここで、アルコキシ基（ＲＯ）のアルキル部分である（Ｒ）は、メチル基、エチル基、プロピル基等が例示される。例えば、Ｒがエチル基の化合物は、エチルシリケートともいう。
シリケート化合物は、高い化学反応性を有しており、縮合反応を円滑に進めることができる。
本発明におけるシリケート化合物とは、ケイ素アルコキシド、及び、ケイ素アルコキシドを縮合して得られるオリゴマー、すなわち、シロキサン（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）骨格を有し、末端にアルコキシ基（ＲＯ）を有する化合物のことである。ここで、アルコキシ基（ＲＯ）のアルキル部分である（Ｒ）は、メチル基、エチル基、プロピル基等が例示される。例えば、Ｒがエチル基の化合物は、エチルシリケートともいう。
シリケート化合物は、高い化学反応性を有しており、縮合反応を円滑に進めることができる。
また、本発明で使用するシリケート化合物としては、例えば、テトラエトキシシラン、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシリケート等が挙げられる。中でも、品質の安定性及び安全性の点から、エチルシリケートが好ましい。
また、上記シリコーンゴムは、粘着力及び高温下におけるガスの発生を抑制する観点から、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサンを少なくとも含む組成物より得られたシリコーンゴムであることが好ましい。
末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンとは、シリケート化合物によりポリジメチルシロキサンの末端を変性処理したものであり、例えば、両末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサンと、主鎖の片側又は両側にアルコキシ基を有するアルコキシシラン部分縮合物とを反応させて得られるものが挙げられる。
上記末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンの重量平均分子量は、５，０００以上１００，０００以下の範囲であることが好ましい。
末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンとは、シリケート化合物によりポリジメチルシロキサンの末端を変性処理したものであり、例えば、両末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサンと、主鎖の片側又は両側にアルコキシ基を有するアルコキシシラン部分縮合物とを反応させて得られるものが挙げられる。
上記末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンの重量平均分子量は、５，０００以上１００，０００以下の範囲であることが好ましい。
上記シリコーンゴムは、粘着力及び高温下におけるガスの発生を抑制する観点から、ポリジメチルシロキサン鎖を有するシリコーンゴムであることが好ましく、リケート化合物と、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサン（変性ポリジメチルシロキサン）とを有する混合物を加水分解及び縮合反応させて得られたシリコーンゴムであることが特に好ましい。
シリケート化合物は、水の存在下にて容易に加水分解するため、シリケート化合物の分子内の少なくとも一部のアルコキシ基が、反応性の高いシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）となる。一方、上記変性ポリジメチルシロキサンも同様に、加水分解をすることにより、水の存在によってシラノール基（「シラノール変性」とも呼ぶ。）となる。これら双方のシラノール基は、高い反応性を有していると同時に、似通った反応性を有しているため、シリケート化合物と変性ポリジメチルシロキサンとを有する混成物を加水分解することによって、シラノールの凝集が加速されることなく、変性ポリジメチルシロキサンとの縮合反応が順調に進行する。これにより、変性ポリジメチルシロキサンやシリケート化合物に低分子のシロキサンが含まれていたとしても、当該低分子のシロキサンも、反応生成物（組成物）中に取り込まれる。つまり、加水分解反応及び縮合反応により、低分子のシロキサンは、組成物を構成する物質の一部となり、単体として存在しなくなる、又は、単体として存在する量が極めて微量（シロキサン結合の数が１５までのシロキサン化合物）となる。このため、組成物から低分子のシロキサンが揮発することがないか、揮発量が極めて微量となり、高温下におけるガスの発生をより抑制することができ、また、柔軟性及び粘着性により優れ、柔軟性及び粘着性が経年劣化しにくい。
上記シリケート化合物は、下記式（Ｓｉ−１）で表される化合物を含むことが好ましく、また、上記変性ポリジメチルシロキサンは、下記式（Ｓｉ−２）で表される化合物を含むことが好ましく、下記式（Ｓｉ−２）で表される化合物であることがより好ましい。
ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1) （Ｓｉ−１）
（式（Ｓｉ−１）中、Ｒはそれぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは４〜１６の整数を表す。）
ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1)−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）m−ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1) （Ｓｉ−２）
（式（Ｓｉ−２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは４〜１６の整数を表し、ｍは５０を超える整数を表す。）
式（Ｓｉ−１）及び式（Ｓｉ−２）におけるＲはそれぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、エチル基であることが更に好ましい。
また、式（Ｓｉ−２）におけるｍは、１，０００以下の整数であることが好ましい。
ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1) （Ｓｉ−１）
（式（Ｓｉ−１）中、Ｒはそれぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは４〜１６の整数を表す。）
ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1)−（ＯＳｉ（ＣＨ3）2）m−ＳｉnＯ(n-1)（ＯＲ）2(n+1) （Ｓｉ−２）
（式（Ｓｉ−２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは４〜１６の整数を表し、ｍは５０を超える整数を表す。）
式（Ｓｉ−１）及び式（Ｓｉ−２）におけるＲはそれぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、エチル基であることが更に好ましい。
また、式（Ｓｉ−２）におけるｍは、１，０００以下の整数であることが好ましい。
また、シリコーンゴムが、シリケート化合物と、変性ポリジメチルシロキサンとを有する混合物を加水分解及び縮合反応させて得られたシリコーンゴムである場合、上記シリケート化合物と、上記変性ポリジメチルシロキサンとの配合の割合は、Ａ／Ｂのモル比にて、０．１以上１０以下の範囲であることが好ましく、０．５以上２以下の範囲であることがより好ましく、０．８以上１．２以下の範囲であることが更に好ましい。また、上記シリケート化合物は、３量体〜１２量体を含むことが好ましい。
また、シリコーンゴムのエラストマー層は、２６０℃以下でガスクロマトグラフ（ＧＣ−ＭＳ）により測定した場合に、シロキサン結合の数が１５以下のシロキサン化合物を含まないことが好適である。
また、シリコーンゴムのエラストマー層は、２６０℃以下でガスクロマトグラフ（ＧＣ−ＭＳ）により測定した場合に、シロキサン結合の数が１５以下のシロキサン化合物を含まないことが好適である。
上記シリコーンゴムのエラストマー層の形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができるが、例えば、上記シリケート化合物と、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサン（変性ポリジメチルシロキサン）とを有する混合物等のようなシリコーンゴムを形成する原料は、液状のものが多い。
上記シリコーンゴムのエラストマー層の形成方法は、上記シリコーンゴムの原料を、基板材料の防着面の反対の面に塗布し、乾燥焼成処理によって、硬化させて成形することが好ましい。また、エラストマー層の形状は、シート状又は板状であることが好ましい。
また、基板材料とエラストマー層との密着性及び接着性の観点から、基板材料上でゴム化を行うことが好ましい。また、基板材料と密着しやすいように、基板材料とエラストマー層との間にプライマー層を設けてもよい。
上記シリコーンゴムのエラストマー層の形成方法は、上記シリコーンゴムの原料を、基板材料の防着面の反対の面に塗布し、乾燥焼成処理によって、硬化させて成形することが好ましい。また、エラストマー層の形状は、シート状又は板状であることが好ましい。
また、基板材料とエラストマー層との密着性及び接着性の観点から、基板材料上でゴム化を行うことが好ましい。また、基板材料と密着しやすいように、基板材料とエラストマー層との間にプライマー層を設けてもよい。
＜フッ素ゴム＞
上記エラストマー層の材質として、高温下におけるガスの発生を抑制する観点から、フッ素ゴムが好適に挙げられる。
フッ素ゴムとしては、フッ化ビニリデン系ゴム（ＦＫＭ）、テトラフルオロエチレン−プロピレン系ゴム（ＦＥＰＭ）、テトラフルオロエチレン−パープルオロビニルエーテル系ゴム（ＦＦＫＭ）等を挙げられるが、フッ化ビニリデン系ゴムが好ましい。
また、フッ化ビニリデン系ゴム（ＦＫＭ）としては、下記式（Ｆ−１）〜式（Ｆ−３）で表される構造を少なくとも有するフッ素ゴムであることがより好ましく、下記式（Ｆ−１）〜式（Ｆ−３）で表される構造で表されるフッ素ゴムであることが更に好ましい。
上記エラストマー層の材質として、高温下におけるガスの発生を抑制する観点から、フッ素ゴムが好適に挙げられる。
フッ素ゴムとしては、フッ化ビニリデン系ゴム（ＦＫＭ）、テトラフルオロエチレン−プロピレン系ゴム（ＦＥＰＭ）、テトラフルオロエチレン−パープルオロビニルエーテル系ゴム（ＦＦＫＭ）等を挙げられるが、フッ化ビニリデン系ゴムが好ましい。
また、フッ化ビニリデン系ゴム（ＦＫＭ）としては、下記式（Ｆ−１）〜式（Ｆ−３）で表される構造を少なくとも有するフッ素ゴムであることがより好ましく、下記式（Ｆ−１）〜式（Ｆ−３）で表される構造で表されるフッ素ゴムであることが更に好ましい。
また、フッ素ゴムとしては、高温下におけるガスの発生を制御する観点から、シロキサン結合を有するフッ素ゴムが好ましい。
シロキサン結合を有するフッ素ゴムとしては、例えば、末端にシリコーン架橋性基を有するフッ素化ポリエーテル化合物を架橋して得られたフッ素樹脂が好ましく挙げられる。
シリコーン架橋性基としては、例えば、Ｓｉ−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）が好ましく挙げられる。
シロキサン結合を有するフッ素ゴムとしては、例えば、末端にシリコーン架橋性基を有するフッ素化ポリエーテル化合物を架橋して得られたフッ素樹脂が好ましく挙げられる。
シリコーン架橋性基としては、例えば、Ｓｉ−ＯＲ基（Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。）が好ましく挙げられる。
フッ素樹脂及びその原材料としては、市販品を使用してもよく、例えば、ダイキン工業（株）製の熱可塑性エラストマー「ダイエルサーモプラスティックＴ−５００シリーズ」のＴ−５３０、信越化学工業（株）製フロロシリコーンゴム、液状フッ素エラストマーＳＩＦＥＬ２６１０などを用いることができる。
＜その他の成分＞
上記エラストマー層には、シリコーンゴム及びフッ素ゴム以外に、必要に応じて、公知の添加剤を添加してもよく、例えば、下記成分が挙げられる。
（１）粉末状の補強剤や充填剤、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、ガラスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等。
補強剤及び充填剤の含有量は、シリコーンゴム及びフッ素ゴムの含有量１００質量部に対し、１０〜１００質量部の範囲であることが好ましい。
上記エラストマー層は、補強剤及び／又は充填剤を添加することにより、高温下に曝しても、成膜装置用部材脱着時の残留物の発生を低減でき、また、接着力の制御が容易となる。
（２）難燃剤、例えば、三酸化アンチモン、臭素化合物及びリン化合物等。
上記エラストマー層には、シリコーンゴム及びフッ素ゴム以外に、必要に応じて、公知の添加剤を添加してもよく、例えば、下記成分が挙げられる。
（１）粉末状の補強剤や充填剤、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、ガラスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等。
補強剤及び充填剤の含有量は、シリコーンゴム及びフッ素ゴムの含有量１００質量部に対し、１０〜１００質量部の範囲であることが好ましい。
上記エラストマー層は、補強剤及び／又は充填剤を添加することにより、高温下に曝しても、成膜装置用部材脱着時の残留物の発生を低減でき、また、接着力の制御が容易となる。
（２）難燃剤、例えば、三酸化アンチモン、臭素化合物及びリン化合物等。
（基板材料）
本発明の成膜装置用部材は、防着面を有する基板材料を有する。
基板材料における防着面は、蒸着素材やスパッタリング素材等の成膜材料を付着させる面であり、上記エラストマー層が設けられている面とは、反対の面である。
上記防着面は、基板材料の材質が露出していてもよいし、露出していなくてもよい。基板材料の材質が露出している部材としては、例えば特開２０１２−１５３９４２号公報に記載されているような部材である。露出していない部材としては、例えば特開平１−３１６４５６号公報に記載されているような部材表面にめっきを施した部材、国際公開第２００８／１４３０８８号に記載されているような部材表面に溶射膜を設けた部材である。
また、上記基板材料の形状は、板状であることが好ましい。また、板状であっても、防着面から見た上記基板材料の形状は、四角形であっても、他の形状でもよく、使用する成膜装置に応じて、任意の形状をとることができる。
上記基板材料の大きさは、特に制限はなく、使用する成膜装置に応じて、適宜選択すればよい。
上記基板材料の材質は、金属材料であることが好ましい。金属材料としては、真空チェンバーの材料として用いられているステンレス鋼（ＳＵＳ）やアルミニウム、又は、安価な銅等の材料をいずれも使用することができる。中でも、アルミニウムが好ましい。
本発明の成膜装置用部材は、防着面を有する基板材料を有する。
基板材料における防着面は、蒸着素材やスパッタリング素材等の成膜材料を付着させる面であり、上記エラストマー層が設けられている面とは、反対の面である。
上記防着面は、基板材料の材質が露出していてもよいし、露出していなくてもよい。基板材料の材質が露出している部材としては、例えば特開２０１２−１５３９４２号公報に記載されているような部材である。露出していない部材としては、例えば特開平１−３１６４５６号公報に記載されているような部材表面にめっきを施した部材、国際公開第２００８／１４３０８８号に記載されているような部材表面に溶射膜を設けた部材である。
また、上記基板材料の形状は、板状であることが好ましい。また、板状であっても、防着面から見た上記基板材料の形状は、四角形であっても、他の形状でもよく、使用する成膜装置に応じて、任意の形状をとることができる。
上記基板材料の大きさは、特に制限はなく、使用する成膜装置に応じて、適宜選択すればよい。
上記基板材料の材質は、金属材料であることが好ましい。金属材料としては、真空チェンバーの材料として用いられているステンレス鋼（ＳＵＳ）やアルミニウム、又は、安価な銅等の材料をいずれも使用することができる。中でも、アルミニウムが好ましい。
基板材料の厚みについても、特に限定するものではないが、３０μｍ〜４００μｍが好ましく、５０μｍ〜２００μｍがより好ましく、１００μｍ〜１５０μｍが特に好ましい。上記範囲であると、部材におけるしわの発生を抑制でき、大判での取り扱い性に優れ、また、複雑な成膜装置の内部形状への追従性に優れる。
基板材料の防着面における防着機能を強化する方法及び手段についても、特に制限はなく、公知の方法や手段により行うことができる。例えば、サンドブラスト法、メッキ法、溶融メッキ法、溶着法、直流電解／交流電解法、化学処理法等の公知の粗面化手法が挙げられる。また、特開２００８−２２３０５７号公報に記載されているような、有機層を用いた表面修飾などの技術を用いても構わない。
また、上記基板材料におけるエラストマー層を形成する面について、表面を処理しても処理しなくてもよい。処理する場合には、例えば、エラストマー層の密着などを確保する目的で上記のような粗面化技術を用いたり、陽極酸化処理などの金属の化成処理技術を用いることができる。
中でも、上記基板材料における防着面に少なくとも粗面化処理を行うことが好ましい。
基板材料の防着面における防着機能を強化する方法及び手段についても、特に制限はなく、公知の方法や手段により行うことができる。例えば、サンドブラスト法、メッキ法、溶融メッキ法、溶着法、直流電解／交流電解法、化学処理法等の公知の粗面化手法が挙げられる。また、特開２００８−２２３０５７号公報に記載されているような、有機層を用いた表面修飾などの技術を用いても構わない。
また、上記基板材料におけるエラストマー層を形成する面について、表面を処理しても処理しなくてもよい。処理する場合には、例えば、エラストマー層の密着などを確保する目的で上記のような粗面化技術を用いたり、陽極酸化処理などの金属の化成処理技術を用いることができる。
中でも、上記基板材料における防着面に少なくとも粗面化処理を行うことが好ましい。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
粗面化処理された基板材料は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施してもよい。
また、基板材料は、陽極酸化処理を施されることが好ましい。
基板材料の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、適宜条件を選択して行うことができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭５４−６３９０２号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
粗面化処理された基板材料は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施してもよい。
また、基板材料は、陽極酸化処理を施されることが好ましい。
基板材料の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、適宜条件を選択して行うことができる。
また、基板材料の材質は、焼鈍処理された金属材料であることが好ましい。焼鈍処理により基板材料の柔軟性を高めることにより、複雑な成膜装置の内部形状への追従性に優れ、また、成膜装置用部材の装着性により優れる。
焼鈍処理の条件は、特に制限はなく、使用する材質に合わせ適宜選択すればよい。
焼鈍処理の条件は、特に制限はなく、使用する材質に合わせ適宜選択すればよい。
上記基板材料の引張強度は、３００ＭＰａ未満であることが好ましく、２００ＭＰａ未満であることがより好ましく、１５０ＭＰａ未満であることが更に好ましい。また、１０ＭＰａ以上であることが好ましく、３０ＭＰａ以上であることがより好ましく、５０ＭＰａ以上であることが更に好ましい。上記範囲であると、複雑な成膜装置の内部形状への追従性に優れ、また、成膜装置用部材の装着性により優れる。
引張強度の測定方法は、公知の方法により行えばよいが、例えば、（株）島津製作所製の引張試験機（オートグラフＡＧＳ）を用いて測定する方法を好適に挙げることができる。
引張強度の測定方法は、公知の方法により行えばよいが、例えば、（株）島津製作所製の引張試験機（オートグラフＡＧＳ）を用いて測定する方法を好適に挙げることができる。
本発明の成膜装置は、成膜容器内部に、本発明の成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置である。本発明の成膜装置用部材を用いることにより、防着板として十分機能するだけでなく、成膜容器内部に本発明の成膜装置用部材のエラストマー層側で容易に貼り付けることができ、その装着性に優れ、高温下においても発生するガスが少なく、真空性能に優れ、また、高温下においても脱着時に成膜容器内部の貼り付け部分に残る残留物が少ない。
本発明の成膜装置における本発明の成膜装置用部材の数は、特に制限はなく、１つであっても、２以上であってもよい。
成膜装置としては、真空蒸着装置やスパッタ装置が好適に挙げられる。また、上記成膜容器としては、これら装置の真空容器が好適に挙げられる。
本発明の成膜装置における本発明の成膜装置用部材の数は、特に制限はなく、１つであっても、２以上であってもよい。
成膜装置としては、真空蒸着装置やスパッタ装置が好適に挙げられる。また、上記成膜容器としては、これら装置の真空容器が好適に挙げられる。
以下に示す実施例により、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例における形態に限定されるものではない。なお、以下の記載における「部」とは、特に断りのない限り「質量部」を示し、「％」とは特に断りのない限り「質量％」を示すのものとする。
＜基板材料＞
〔アルミニウム基板Ａ（基板材料Ａ）の作製〕
住友軽金属工業（株）製の純度９９．５％のアルミニウム圧延材（Ｈ１８、厚さ０．２ｍｍ）を用意した。厚さ１５０μｍのアルミニウム板（ＪＩＳ １０５０材）の一方の表面（防着面）に、平均粒径３０μｍのパミストンを研磨剤とする、比重１．１２のスラリー液を供給し、回転するローラ状ナイロンブラシを２本にて、アルミニウム板上を移動させて、表面の粗面化処理を行った。使用した、ナイロンブラシの直径は０．５ｍｍ、毛密度は４５０本／ｃｍ2で、ブラシ回転数は１５０ｒｐｍとした。
上記防着面に対し、４０℃に保温した硝酸濃度１０ｇ／Ｌの電解槽を用い、電気量総和が３００Ｃ／ｄｍ2の条件下で電解処理を行った。
上記硝酸処理における交流電源波は、６０Ｈｚの台形波を使用した。電流密度は１００Ａ／ｄｍ2とした。
次いで、上記防着面に対し、４５℃に保温した塩酸濃度１０ｇ／Ｌの電解槽を用い、電気量総和が７０Ｃ／ｄｍ2の条件下で電解処理を行って、防着板を作製した。
上記塩酸処理における交流電源波は、６０Ｈｚの台形波を使用した。電流密度は５０Ａ／ｄｍ2とした。
更に、上記防着面に対し、硫酸濃度２５０ｇ／Ｌで、アルミニウム濃度５％以下の溶液を用い、アルミニウム板を陽極として、直流電圧を４５分間印加して、表面に厚さ１．０μｍの陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム基板Ａを得た。電流密度は５０Ａ／ｄｍ2とした。引張強度は１８０ＭＰａであった。
〔アルミニウム基板Ａ（基板材料Ａ）の作製〕
住友軽金属工業（株）製の純度９９．５％のアルミニウム圧延材（Ｈ１８、厚さ０．２ｍｍ）を用意した。厚さ１５０μｍのアルミニウム板（ＪＩＳ １０５０材）の一方の表面（防着面）に、平均粒径３０μｍのパミストンを研磨剤とする、比重１．１２のスラリー液を供給し、回転するローラ状ナイロンブラシを２本にて、アルミニウム板上を移動させて、表面の粗面化処理を行った。使用した、ナイロンブラシの直径は０．５ｍｍ、毛密度は４５０本／ｃｍ2で、ブラシ回転数は１５０ｒｐｍとした。
上記防着面に対し、４０℃に保温した硝酸濃度１０ｇ／Ｌの電解槽を用い、電気量総和が３００Ｃ／ｄｍ2の条件下で電解処理を行った。
上記硝酸処理における交流電源波は、６０Ｈｚの台形波を使用した。電流密度は１００Ａ／ｄｍ2とした。
次いで、上記防着面に対し、４５℃に保温した塩酸濃度１０ｇ／Ｌの電解槽を用い、電気量総和が７０Ｃ／ｄｍ2の条件下で電解処理を行って、防着板を作製した。
上記塩酸処理における交流電源波は、６０Ｈｚの台形波を使用した。電流密度は５０Ａ／ｄｍ2とした。
更に、上記防着面に対し、硫酸濃度２５０ｇ／Ｌで、アルミニウム濃度５％以下の溶液を用い、アルミニウム板を陽極として、直流電圧を４５分間印加して、表面に厚さ１．０μｍの陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム基板Ａを得た。電流密度は５０Ａ／ｄｍ2とした。引張強度は１８０ＭＰａであった。
〔アルミニウム基板Ｂ（基板材料Ｂ）の作製〕
−焼鈍処理−
上記で得られた防着板を２５０℃、８時間処理することで強度を変えたアルミニウム焼鈍材（アルミニウム基板Ｂ）を得た。引張強度は７０ＭＰａであった。
−焼鈍処理−
上記で得られた防着板を２５０℃、８時間処理することで強度を変えたアルミニウム焼鈍材（アルミニウム基板Ｂ）を得た。引張強度は７０ＭＰａであった。
〔銅基板Ｃ（基板材料Ｃ）〕
市販の銅板（厚さ０．２ｍｍ）を用意した。引張強度は２８０ＭＰａであった。
市販の銅板（厚さ０．２ｍｍ）を用意した。引張強度は２８０ＭＰａであった。
（実施例１〜８、及び、比較例１）
＜エラストマー層の形成＞
下記素材を準備し、表１に記載の基板及びエラストマー層の材質の組み合わせで、それぞれ５００μｍ程度の厚さになるように基板（上記粗面化した面、すなわち防着面の反対の表面）にコートし、各成膜装置用部材を作製した。
なお、フッ素ゴム及びエポキシ樹脂については１２０℃で２時間、シリコーンゴムについては２００℃で１時間、コート後、それぞれ加熱して硬化膜とした。
＜エラストマー層の形成＞
下記素材を準備し、表１に記載の基板及びエラストマー層の材質の組み合わせで、それぞれ５００μｍ程度の厚さになるように基板（上記粗面化した面、すなわち防着面の反対の表面）にコートし、各成膜装置用部材を作製した。
なお、フッ素ゴム及びエポキシ樹脂については１２０℃で２時間、シリコーンゴムについては２００℃で１時間、コート後、それぞれ加熱して硬化膜とした。
＜エラストマー層の材質＞
フッ素ゴム１：ダイキン工業（株）製フッ素樹脂コーティング剤 エフトーンＡＴ１００（フッ素ゴム）を上記条件により硬化させたフッ素ゴム
フッ素ゴム２：信越化学工業（株）製液状フッ素エラストマーＳＩＦＥＬ２６１０（フッ素化ポリエーテル骨格と末端のシリコーン架橋反応基を複合させたフッ素エラストマー）を上記条件により硬化させたフッ素ゴム
シリコーンゴム３：信越化学工業（株）製１液性加熱硬化型シリコーン接着剤（液状ゴム）ＫＥ−１８３０を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
シリコーンゴム４：信越化学工業（株）製シリコーン１液型ＲＴＶゴム（液状ゴム）Ｘ−３２−１９６４を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
シリコーンゴム５：ａ）アヅマックス（株）製シラノール末端ポリジメチルシロキサン ＤＭＳ−Ｓ１２に、ｂ）多摩化学工業（株）製エチルシリケート（シリケート４０，ｎ＝４〜６、一部テトラエチルシリケートを含む。）を１：２０の比率で撹拌混合し、加水分解させた“ハイブリッドポリジメチルシロキサン”を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
エポキシ樹脂６：ＤＩＣ（株）製ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂ＥＰＩＣＬＯＮ８５０を上記条件により硬化させたもの
シリコーンゴム７：シリコーンゴム（下記方法により得られたゴム）
フッ素ゴム１：ダイキン工業（株）製フッ素樹脂コーティング剤 エフトーンＡＴ１００（フッ素ゴム）を上記条件により硬化させたフッ素ゴム
フッ素ゴム２：信越化学工業（株）製液状フッ素エラストマーＳＩＦＥＬ２６１０（フッ素化ポリエーテル骨格と末端のシリコーン架橋反応基を複合させたフッ素エラストマー）を上記条件により硬化させたフッ素ゴム
シリコーンゴム３：信越化学工業（株）製１液性加熱硬化型シリコーン接着剤（液状ゴム）ＫＥ−１８３０を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
シリコーンゴム４：信越化学工業（株）製シリコーン１液型ＲＴＶゴム（液状ゴム）Ｘ−３２−１９６４を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
シリコーンゴム５：ａ）アヅマックス（株）製シラノール末端ポリジメチルシロキサン ＤＭＳ−Ｓ１２に、ｂ）多摩化学工業（株）製エチルシリケート（シリケート４０，ｎ＝４〜６、一部テトラエチルシリケートを含む。）を１：２０の比率で撹拌混合し、加水分解させた“ハイブリッドポリジメチルシロキサン”を上記条件により硬化させたシリコーンゴム
エポキシ樹脂６：ＤＩＣ（株）製ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂ＥＰＩＣＬＯＮ８５０を上記条件により硬化させたもの
シリコーンゴム７：シリコーンゴム（下記方法により得られたゴム）
＜シリコーンゴム７の作製方法＞
撹拌装置、温度計、滴下ラインを取り付けた反応容器に、エチルシリケート（ＳｉnＯn-1（ＯＣ2Ｈ5）2(n+1)、多摩化学工業（株）製、シリケート４０，ｎ＝４〜６、又は、シリケート４５，ｎ＝６〜８、それぞれ一部テトラエチルシリケートを含む。）１．０部と、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサン（重量平均分子量；３２，０００相当）（荒川化学工業（株）製ＨＢＳＩＬ０３９）３２．０部とを入れ、大気中（室温）にて約３０分間、撹拌混合し、混成物である原料液Ａを得た。
ここで、エチルシリケートと、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサンで用いられたエチルシリケートとは、同じ種類及び同じ特性を持つエチルシリケートを使用した。
そして、原料液Ａに、必要量の水０．９３部を約１時間かけて滴下して加え、撹拌混合し、加水分解反応及び縮合反応を行った。
その後、撹拌しながら約３０分かけて室温まで自然冷却し、シリコーンゴム７の前駆体を含む組成物を得た。上記組成物を上記条件により硬化させ、シリコーンゴム７を得た。
撹拌装置、温度計、滴下ラインを取り付けた反応容器に、エチルシリケート（ＳｉnＯn-1（ＯＣ2Ｈ5）2(n+1)、多摩化学工業（株）製、シリケート４０，ｎ＝４〜６、又は、シリケート４５，ｎ＝６〜８、それぞれ一部テトラエチルシリケートを含む。）１．０部と、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサン（重量平均分子量；３２，０００相当）（荒川化学工業（株）製ＨＢＳＩＬ０３９）３２．０部とを入れ、大気中（室温）にて約３０分間、撹拌混合し、混成物である原料液Ａを得た。
ここで、エチルシリケートと、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサンで用いられたエチルシリケートとは、同じ種類及び同じ特性を持つエチルシリケートを使用した。
そして、原料液Ａに、必要量の水０．９３部を約１時間かけて滴下して加え、撹拌混合し、加水分解反応及び縮合反応を行った。
その後、撹拌しながら約３０分かけて室温まで自然冷却し、シリコーンゴム７の前駆体を含む組成物を得た。上記組成物を上記条件により硬化させ、シリコーンゴム７を得た。
＜評価方法＞
ａ）粘着力
（株）レスカ製タッキング試験機を用い加圧１０ｋｇとし、加圧時間は１０秒として粘着力を測定した。プローブは室温程度（２５℃）に設定した。単位をｇ重／ｃｍ2として記載した。なお、上記粘着力の測定は、ＪＩＳ Ｚ３２８４・ＩＩＷ・ＳＣ／ＩＡ−ＳＰ０５８、ＩＰＣ・ＳＰ−８１９準拠の方法により行った。
ａ）粘着力
（株）レスカ製タッキング試験機を用い加圧１０ｋｇとし、加圧時間は１０秒として粘着力を測定した。プローブは室温程度（２５℃）に設定した。単位をｇ重／ｃｍ2として記載した。なお、上記粘着力の測定は、ＪＩＳ Ｚ３２８４・ＩＩＷ・ＳＣ／ＩＡ−ＳＰ０５８、ＩＰＣ・ＳＰ−８１９準拠の方法により行った。
ｂ）質量減少
得られた成膜装置用部材を２６０℃で６時間連続加熱を行い、その前後の質量変化から質量減少を測定した。加熱処理前の質量に対する減少量の割合を質量％で示した。２５℃、５０％ＲＨの環境にサンプルを放置した後、測定を行った。
得られた成膜装置用部材を２６０℃で６時間連続加熱を行い、その前後の質量変化から質量減少を測定した。加熱処理前の質量に対する減少量の割合を質量％で示した。２５℃、５０％ＲＨの環境にサンプルを放置した後、測定を行った。
ｃ）排気特性
排気特性は、得られた成膜装置用部材を真空チャンバー内に置き、１０-6ｔｏｒｒ（１．３３×１０-4Ｐａ）まで排気するのに要した時間を測定し、評価した。評価基準は、０．３６ｍ2のアルミニウム板のみを真空チャンバー内に置き、１０-6ｔｏｒｒまで排気するのに要した時間を１として規格化し、基準とした。接着層などの脱ガスが起きる場合には排気時間が長くなる。１．５倍を超えるようでは作業ロスとなるため許容できない。
排気特性は、得られた成膜装置用部材を真空チャンバー内に置き、１０-6ｔｏｒｒ（１．３３×１０-4Ｐａ）まで排気するのに要した時間を測定し、評価した。評価基準は、０．３６ｍ2のアルミニウム板のみを真空チャンバー内に置き、１０-6ｔｏｒｒまで排気するのに要した時間を１として規格化し、基準とした。接着層などの脱ガスが起きる場合には排気時間が長くなる。１．５倍を超えるようでは作業ロスとなるため許容できない。
ｄ）成膜装置用部材の剥れ、装着性及び残存物
３０ｃｍ四方の大きさとした成膜装置用部材を垂直な基材に貼付けて、実際に蒸着環境下に置き、蒸着終了後取り出して評価した。
蒸着環境としては、Ａｕを蒸着する工程において、雰囲気温度として最高到達温度が２００℃になる環境で、のべ３０時間蒸着を実施した。
各項目の評価基準を以下に示す。
３０ｃｍ四方の大きさとした成膜装置用部材を垂直な基材に貼付けて、実際に蒸着環境下に置き、蒸着終了後取り出して評価した。
蒸着環境としては、Ａｕを蒸着する工程において、雰囲気温度として最高到達温度が２００℃になる環境で、のべ３０時間蒸着を実施した。
各項目の評価基準を以下に示す。
＜剥れ評価＞
蒸着終了後、チャンバー内の成膜装置用部材を目視で確認しチャンバー壁面からの剥離がないものをＡ（Good）、一部分剥離していたものをＢ（Acceptable）、剥がれ落ちていたものをＣ（Bad）と評価した。
蒸着終了後、チャンバー内の成膜装置用部材を目視で確認しチャンバー壁面からの剥離がないものをＡ（Good）、一部分剥離していたものをＢ（Acceptable）、剥がれ落ちていたものをＣ（Bad）と評価した。
＜装着性評価＞
蒸着前にチャンバー内に成膜装置用部材を取り付ける際に、内部真空度モニター取付用の穴（サービスポート：直径３０ｍｍφ、深さ２０ｍｍ）の中に、図１に示すように成膜装置用部材を押し入れて該穴形状に馴染むかどうか、取り外し易いかどうかを評価した。目視で円形がわかる場合をＡ（Good）、不自然な形になっている場合をＢ（Acceptable）、穴内部に入れることが容易で無かった場合をＣ（Bad）として評価した。ほぼ元の穴形状にぴったりと馴染んだ場合をＡ+（Excellent）と評価した。また、図２に各評価の場合の一例を示す。図２の（Ａ）が成膜装置用部材を取り付ける前に図１に示す方向２０から内部真空度モニター取付用の穴を目視した模式図であり、（Ｂ）がほぼ元の穴形状にぴったりと馴染んだ場合（Excellent）、（Ｃ）が目視で円形がわかる場合（Good）、（Ｄ）が不自然な形になっている場合（Acceptable）、（Ｅ）が穴内部に入れることが容易で無かった場合（Bad）の一例を示す模式図である。
蒸着前にチャンバー内に成膜装置用部材を取り付ける際に、内部真空度モニター取付用の穴（サービスポート：直径３０ｍｍφ、深さ２０ｍｍ）の中に、図１に示すように成膜装置用部材を押し入れて該穴形状に馴染むかどうか、取り外し易いかどうかを評価した。目視で円形がわかる場合をＡ（Good）、不自然な形になっている場合をＢ（Acceptable）、穴内部に入れることが容易で無かった場合をＣ（Bad）として評価した。ほぼ元の穴形状にぴったりと馴染んだ場合をＡ+（Excellent）と評価した。また、図２に各評価の場合の一例を示す。図２の（Ａ）が成膜装置用部材を取り付ける前に図１に示す方向２０から内部真空度モニター取付用の穴を目視した模式図であり、（Ｂ）がほぼ元の穴形状にぴったりと馴染んだ場合（Excellent）、（Ｃ）が目視で円形がわかる場合（Good）、（Ｄ）が不自然な形になっている場合（Acceptable）、（Ｅ）が穴内部に入れることが容易で無かった場合（Bad）の一例を示す模式図である。
＜残存物評価＞
蒸着終了後、成膜用部材を取り出した後チャンバー内を目視観察し残存物が無い場合をＡ（Good）、残存物がある場合をＣ（Bad）として評価した。
蒸着終了後、成膜用部材を取り出した後チャンバー内を目視観察し残存物が無い場合をＡ（Good）、残存物がある場合をＣ（Bad）として評価した。
ｅ）基板材料の引張強度評価
（株）島津製作所製の引張試験機（オートグラフＡＧＳ）を用いて、基板材料の引張強度を測定した。
（株）島津製作所製の引張試験機（オートグラフＡＧＳ）を用いて、基板材料の引張強度を測定した。
１２：内部真空度モニター用センサー、１４：チャンバー壁材、１６：内部真空度モニター取付用の穴、１８：成膜装置用部材、２０：観測方向
Claims (12)
- 防着面を有する基板材料と、
前記基板材料の防着面とは反対側の面に、シリコーンゴム又はフッ素ゴムのエラストマー層と、を有することを特徴とする
成膜装置用部材。 - 前記エラストマー層表面の粘着力が、８０ｇ重／ｃｍ2以上１，５００ｇ重／ｃｍ2以下である、請求項１に記載の成膜装置用部材。
- 前記エラストマー層が、２６０℃で３６０分間加熱した際の質量の減少が１質量％以下である、請求項１又は２に記載の成膜装置用部材。
- 前記基板材料の引張強度が、２００ＭＰａ未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 前記基板材料の引張強度が、１５０ＭＰａ未満である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 前記基板材料が、焼鈍処理された基板材料である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 前記シリコーンゴムが、シロキサン結合による主鎖骨格を有するシリコーンゴムである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 前記エラストマー層が、シリコーンゴムのエラストマー層である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 前記シリコーンゴムが、ポリジメチルシロキサン鎖を有するシリコーンゴムである、請求項８に記載の成膜装置用部材。
- 前記シリコーンゴムが、末端がシリケート変性されたポリジメチルシロキサンを少なくとも含む組成物より得られたシリコーンゴムである、請求項８又は９に記載の成膜装置用部材。
- 成膜装置用防着板である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の成膜装置用部材。
- 成膜容器内部に、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の成膜装置用部材を少なくとも備えた成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013082412A JP2014205866A (ja) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | 成膜装置用部材、及び、成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2013082412A JP2014205866A (ja) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | 成膜装置用部材、及び、成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014205866A true JP2014205866A (ja) | 2014-10-30 |
Family
ID=52119672
Family Applications (1)
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| JP2013082412A Abandoned JP2014205866A (ja) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | 成膜装置用部材、及び、成膜装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2014205866A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002235166A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-23 | Toppan Printing Co Ltd | パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 |
| JP2008248319A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 真空成膜装置 |
| JP2012097346A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-24 | Achilles Corp | マスク治具 |
-
2013
- 2013-04-10 JP JP2013082412A patent/JP2014205866A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (3)
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