JP2014197713A - 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
前記基板搬送装置は、ウエハを保持する保持部を備える。
前記基板保持部に保持された基板の周縁部3箇所の位置を検出するために、前記周縁部における互いに異なる位置に光を照射する3基の光源部と、前記各光源部に対して対となる3基の受光部と、を備えるセンサ部と、
前記センサ部に対して前記基板保持部を相対的に移動させるための駆動部と、
前記基板保持部、駆動部及びセンサ部の各動作を制御するために制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、前記センサ部に対して予め設定された第1の位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出する第1のステップと、
前記基板保持部をセンサ部に対して当該第1の位置からずれた第2の位置に位置させて基板の周縁部の各位置を検出する第2のステップと、
前記基板の切り欠きに光源部の光照射領域が位置している状態を異常状態と呼ぶとすると、前記第1のステップ及び第2のステップの各検出結果に基づいて、
a. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれかで異常状態が発生しており、その位置を特定することができる
b. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれにおいても異常状態が発生していない
c. 前記第1の位置及び第2の位置の両方で異常状態が発生している
d. 前記第1の位置及び第2の位置の少なくともいずれかで異常状態が発生しているが、その位置を特定することができない
のいずれかの結果を導く第3のステップと、
前記第3のステップにおける結果がaまたはbのときには、前記第1の位置または第2の位置で検出した周縁部の各位置に基づいて第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、また前記結果がcまたはdのときには、前記基板の切り欠きから外れた位置に光を照射するために、前記基板保持部をセンサ部に対して、前記第1の位置及び第2の位置と異なる第3の位置に移動させて基板の周縁部の各位置を検出し、当該各位置に基づいて前記受け渡し位置を決定する第4のステップと、
を実行するように制御信号を出力すること特徴とする。
(a)前記センサ部は、4対以上の前記光源部と受光部とを備え、
この4対以上の光源部と受光部とが使用可能であるときには、これら4対以上の光源部と受光部とにより基板の周縁部の各位置が検出される。
(b)前記制御部は、前記第1〜第4のステップからなる第1のモードを実行する代わりに、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、センサ部に対して予め設定された第5の位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出するステップと、
前記ステップで検出した周縁部の各位置に基づいて、前記異常状態が発生しているか否かを判定するステップと、
前記ステップで異常状態が発生していないと判定された場合には、前記第5の位置で検出した周縁部の各位置に基づいて第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、異常状態が発生していると判定された場合には、基板保持部を前記第5の位置からずれた第6の位置に移動させて前記基板の周縁部の各位置を検出し、第5の位置及び第6の位置で検出した基板の周縁部の各位置に基づいて、前記異常状態となる光源部と受光部とからなるセンサ対を特定し、前記センサ対により検出された周縁部の位置以外の各位置に基づいて前記受け渡し位置を決定するステップと、
からなる第2のモードを実行する。
(d)前記第2のモードで、異常状態となる検出部の特定は、前記第5の位置及び第6の位置で夫々検出された基板の各周縁部の位置から演算される当該基板の中心位置の変位量と、第5の位置及び第6の位置で夫々検出された基板の各周縁部の位置から演算される基板の径の大きさと、に基づいて行われる。
(f)前記第3のステップにおける判定は、前記第1の位置で検出した基板の中心位置と、前記第2の位置で検出した基板の中心位置との変位量に基づいて行われる。
Δa[mm]={(a'点の画素数)−(a点の画素数)}×画素間隔[mm] (1)
Δb[mm]={(b'点の画素数)−(b点の画素数)}×画素間隔[mm] (2)
Δc[mm]={(c'点の画素数)−(c点の画素数)}×画素間隔[mm] (3)
Δd[mm]={(d'点の画素数)−(d点の画素数)}×画素間隔[mm] (4)
なお、a点の画素数とは、受光部42のウエハWの中心側における始点からa点までにおける画素の数を意味する。
a'点 (X1',Y1')=(X1−Δasinθ1,Y1−Δacosθ1)
=(X−(R+Δa)sinθ1,Y−(R+Δa)cosθ1) (6)
b点 (X2,Y2)=(X−Rsinθ2,Y+Rcosθ2) (7)
b'点 (X2',Y2')=(X2−Δbsinθ2,Y2+Δbcosθ2)
=(X−(R+Δb)sinθ2,Y+(R+Δb)cosθ2) (8)
c点 (X3,Y3)=(X+Rsinθ3,Y+Rcosθ3) (9)
c'点 (X3',Y3')=(X3+Δcsinθ3,Y3+Δccosθ3)
=(X+(R+Δc)sinθ3,Y+(R+Δc)cosθ3) (10)
d点 (X4,Y4)=(X+Rsinθ4,Y−Rcosθ4) (11)
d'点 (X4',Y4')=(X4+Δdsinθ4,Y4−Δdcosθ4)
=(X+(R+Δd)sinθ4,Y−(R+Δd)cosθ4) (12)
従って、式(6)、式(8)、式(10)、式(12)により、a´点(X1´,Y1´)、b´点(X2´,Y2´)、c´点(X3´,Y3´)、d´点(X4´,Y4´)の座標を求めることができる。
算出することができる。例えば、a´点(X1´,Y1´)、b´点(X2´,Y2´)、c´点(X3´,Y3´)の3点からずれ位置における中心位置o´の座標(X´、Y´)を算出する式は、下記式(13)及び(14)で表される。
ΔX(mm)=X’−X (16)
ΔY(mm)=Y’−Y (17)
そして図10で説明したように、このΔX、ΔYと、加熱モジュール21の熱板23の適正位置の座標とに基づいて、中心座標o’が加熱モジュール21の熱板23の適正位置qに重なるようにウエハWを受け渡す際のフォーク3の適正位置pの座標位置が演算される。つまり、ウエハW受け渡し時の基台31の位置及びフォーク3の位置が演算される。そして、そのように演算した位置に基台31が移動し、フォーク3が加熱モジュールに向かって演算された位置へと前進して、ウエハWの中心位置o’が熱板23の適正位置qに重なるように載置される(ステップS4)。
群の各処理モジュール)に搬送され、各処理モジュールで処理が行われる。これにより、ウエハWに反射防止膜が形成される。そして、反射防止膜が形成されたウエハWは、搬送アームA4を介し、棚ユニットU1の受け渡しモジュールTRS4に受け渡される。
W ウエハ
3A、3B フォーク
30 搬送アーム
31 基台
40 基板周縁位置検出機構
4 検出部
41 光源部
42 受光部
5 制御部
56 通常モード実行プログラム
57 臨時モード実行プログラム
前記基板保持部に保持された基板の周縁部少なくとも4箇所の位置を検出するために、前記周縁部における互いに異なる位置に光を照射する光源部と、前記各光源部に対して対となる受光部と、からなるセンサ対を少なくとも4つ備えるセンサ部と、
前記センサ部に対して前記基板保持部を相対的に移動させるための駆動部と、
前記基板保持部、駆動部及びセンサ部の各動作を制御するために制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記各センサ対の受光部の検出結果に基づいて、センサ対ごとに当該センサ対が使用可能であるか使用不可であるかを判定する判定ステップと、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、前記各センサ対に対して予め設定された設定位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出する検出ステップと、
前記判定ステップで使用可能と判定されたセンサ対が4つ以上あるときは少なくとも4つの使用可能なセンサ対により前記検出ステップにて検出された各周縁部の位置に基づいて前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、
前記判定ステップで使用可能と判定されたセンサ対が3つであるときは当該3つのセンサ対により前記検出ステップにて検出された各周縁部の位置に基づいて前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定する決定ステップと、
を実行するように制御信号を出力することを特徴とする。
前記基板の周縁部には切り欠きが設けられ、
前記判定ステップにおいて使用可能なセンサ対が3つであると判定されたときに、
前記制御部は、
前記検出ステップとして、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、前記センサ部に対して予め設定された第1の位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出する第1のステップと、
前記基板保持部をセンサ部に対して当該第1の位置からずれた第2の位置に位置させて基板の周縁部の各位置を検出する第2のステップと、を実行し、
前記決定ステップとして、
使用可能と判定されたセンサ対から前記第1のステップ及び第2のステップで各々取得された周縁部の位置に基づいて、前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定する。
前記基板の切り欠きに光源部の光照射領域が位置している状態を異常状態と呼ぶとすると、前記第1のステップ及び第2のステップの各検出結果に基づいて、
a. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれかで異常状態が発生しており、前記第1の位置及び第2の位置のうちのいずれかで異常状態が発生したかを特定することができる
b. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれにおいても異常状態が発生していない
c. 前記第1の位置及び第2の位置の両方で異常状態が発生している
d. 前記第1の位置及び第2の位置の少なくともいずれかで異常状態が発生しているが、その位置を特定することができない
のいずれかの結果を導く第3の工程と、
前記第3のステップにおける結果がaまたはbのときには、前記第1の位置及び第2の位置のうち異常状態が発生していない位置で検出した周縁部の各位置に基づいて第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、また前記結果がcまたはdのときには、前記基板の切り欠きから外れた位置に光を照射するために、前記基板保持部をセンサ部に対して、前記第1の位置及び第2の位置と異なる第3の位置に移動させて基板の周縁部の各位置を検出し、当該各位置に基づいて前記受け渡し位置を決定する第4の工程と、
を含む。
Claims (4)
- 第1のモジュールから第2のモジュールへ、円形の基板を搬送するために横方向に移動自在な基板保持部を備える基板搬送装置において、
前記基板保持部に保持された基板の周縁部少なくとも4箇所の位置を検出するために、前記周縁部における互いに異なる位置に光を照射する光源部と、前記各光源部に対して対となる受光部と、からなるセンサ対を少なくとも4つ備えるセンサ部と、
前記センサ部に対して前記基板保持部を相対的に移動させるための駆動部と、
前記基板保持部、駆動部及びセンサ部の各動作を制御するために制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記各センサ対の受光部の検出結果に基づいて、センサ対ごとに当該センサ対が使用可能であるか使用不可であるかを判定する判定ステップと、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、前記各センサ対に対して予め設定された設定位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出する検出ステップと、
前記判定ステップで使用可能と判定されたセンサ対が4つ以上あるときは少なくとも4つの使用可能なセンサ対により前記検出ステップにて検出された各周縁部の位置に基づいて前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、
前記判定ステップで使用可能と判定されたセンサ対が3つであるときは当該3つのセンサ対により前記検出ステップにて検出された各周縁部の位置に基づいて前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定する決定ステップと、
を実行するように制御信号を出力することを特徴とする基板搬送装置。 - 前記基板の周縁部には切り欠きが設けられ、
前記判定ステップにおいて使用可能なセンサ対が3つであると判定されたときに、
前記制御部は、
前記検出ステップとして、
前記第1のモジュールから受け取った基板を保持した基板保持部を、前記センサ部に対して予め設定された第1の位置に位置させて前記基板の周縁部の各位置を検出する第1のステップと、
前記基板保持部をセンサ部に対して当該第1の位置からずれた第2の位置に位置させて基板の周縁部の各位置を検出する第2のステップと、を実行し、
前記決定ステップとして、
使用可能と判定されたセンサ対から前記第1のステップ及び第2のステップで各々取得された周縁部の位置に基づいて、前記第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定することを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記決定ステップは、
前記基板の切り欠きに光源部の光照射領域が位置している状態を異常状態と呼ぶとすると、前記第1のステップ及び第2のステップの各検出結果に基づいて、
a. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれかで異常状態が発生しており、前記第1の位置及び第2の位置のうちのいずれかで異常状態が発生したかを特定することができる
b. 前記第1の位置及び第2の位置のいずれにおいても異常状態が発生していない
c. 前記第1の位置及び第2の位置の両方で異常状態が発生している
d. 前記第1の位置及び第2の位置の少なくともいずれかで異常状態が発生しているが、その位置を特定することができない
のいずれかの結果を導く第3のステップと、
前記第3のステップにおける結果がaまたはbのときには、前記第1の位置及び第2の位置のうち異常状態が発生していない位置で検出した周縁部の各位置に基づいて第2のモジュールに対する基板保持部の受け渡し位置を決定し、また前記結果がcまたはdのときには、前記基板の切り欠きから外れた位置に光を照射するために、前記基板保持部をセンサ部に対して、前記第1の位置及び第2の位置と異なる第3の位置に移動させて基板の周縁部の各位置を検出し、当該各位置に基づいて前記受け渡し位置を決定する第4のステップと、
を実行することを特徴とする請求項2記載の基板搬送装置。 - 前記判定ステップにおいて、前記センサ対が使用可能であるかあるか使用不可であるかの判定は、前記受光部が受光する光量あるいは受光する領域の大きさに基づいて行われることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
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