JP2014195009A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空容器内部に配置され減圧された内側でプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置されその上面に前記プラズマを用いた処理の対象の試料が載置される試料台と、この試料台上部の前記試料がその上に載せられる載置面を構成する誘電体製の誘電体膜と、この誘電体膜の内部に配置され前記試料をこの誘電体膜上に吸着して保持するための電力が供給される電極とを備え、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記試料を前記試料台上に保持した後、前記電極に電力を供給して試料を試料台に吸着し前記プラズマを用いてこの試料の処理を開始するプラズマ処理装置。
【選択図】 図7
Description
Claims (10)
- 真空容器内部に配置され減圧された内側でプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置されその上面に前記プラズマを用いた処理の対象の試料が載置される試料台と、この試料台上部の前記試料がその上に載せられる載置面を構成する誘電体製の誘電体膜と、この誘電体膜の内部に配置され前記試料をこの誘電体膜上に吸着して保持するための電力が供給される電極とを備え、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記試料を前記試料台上に保持した後、前記電極に電力を供給して試料を試料台に吸着し前記プラズマを用いてこの試料の処理を開始するプラズマ処理装置。
- 真空容器内部に配置され減圧された内側でプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置されその上面に前記プラズマを用いた処理の対象の試料が載置される試料台と、この試料台上部の前記試料がその上に載せられる載置面を構成する誘電体製の誘電体膜と、この誘電体膜の内部に配置され前記試料をこの誘電体膜上に吸着して保持するための電力が供給される電極とを備え、
前記試料が前記試料台上に載置され当該試料の裏面及び前記誘電体膜の間の隙間空間と前記処理室内部とが連通された状態で、前記処理室内部に不活性ガスを導入して処理室内部を昇圧し、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで試料を試料台の上に保持した後、前記処理室および前記隙間空間を排気し、その後前記電極に電力を供給して試料を試料台に吸着し前記プラズマを用いてこの試料の処理を開始するプラズマ処理装置。
- 請求項2に記載のプラズマ処理装置であって、
前記隙間空間と前記処理室内部とが前記試料台内部に配置された通路を介して連通されたプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記試料を前記電極に電力を供給して吸着し保持した後、前記電極の電力を増大して試料を前記誘電体膜に強く吸着させるプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記電極が前記誘電体膜の前記試料が載置される面の中央部及びその外周部の2つの領域に配置され、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記電極の中央部に電力を供給して前記試料を吸着し保持した後、前記電極の外周部に電力を供給して試料を前記誘電体膜に吸着させるプラズマ処理装置。
- 真空容器内部に配置された処理室内の下部に配置された試料台上の誘電体膜上に処理対象の試料を載置し、前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記試料を前記試料台上に保持した後、前記誘電体膜の内部に配置された膜状の電極に電力を供給して試料を試料台に吸着し前記プラズマを用いてこの試料の処理を開始するプラズマ処理方法。
- 真空容器内部に配置された処理室内の下部に配置された試料台上の誘電体膜上に処理対象の試料を載置し、前記試料が前記試料台上に載置され当該試料の裏面及び前記誘電体膜の間の隙間空間と前記処理室内部とが連通された状態で、前記処理室内部に不活性ガスを導入して処理室内部を昇圧し、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで試料を試料台の上に保持した後、前記処理室および前記隙間空間を排気し、その後前記誘電体膜の内部に配置された膜状の電極に電力を供給して試料を試料台に吸着し前記プラズマを用いてこの試料の処理を開始するプラズマ処理方法。
- 請求項7に記載のプラズマ処理方法であって、
前記隙間空間と前記処理室内部とが前記試料台内部に配置された通路を介して連通されたプラズマ処理方法。
- 請求項6乃至8のいずれかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記試料を前記電極に電力を供給して吸着し保持した後、前記電極の電力を増大して試料を前記誘電体膜に強く吸着させるプラズマ処理方法。
- 請求項6乃至8のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記電極が前記誘電体膜の前記試料が載置される面の中央部及びその外周部の2つの領域に配置され、
前記試料が前記試料台上に載置された状態で、試料温度が所定の温度になるか所定の時間が経過するまで前記電極の中央部に電力を供給して前記試料を吸着し保持した後、前記電極の外周部に電力を供給して試料を前記誘電体膜に吸着させるプラズマ処理方法。
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