JP2014185168A - 2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの製造方法 - Google Patents

2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】高選択率かつ高収率での2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの製造。
【解決手段】(i)ヘキサフルオロプロピレンを1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンに水素化し;(ii)該ヘキサフルオロプロパンを1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンへ脱フッ化水素化し;(iii)該ペンタフルオロ−1−プロペンを1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンに水素化し;そして(iv)該ペンタフルオロプロパンを2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンに脱フッ化水素化する工程を連続的に実施し、工程(ii)での未反応の1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを、工程(ii)又は工程(iii)の後で工程(iv)の前に分離させ、任意的に、工程(ii)及び/又は(i)に循環させる、2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの連続気相製造法。
【選択図】なし

Description

本発明は、フッ素化合物、即ちフッ素化合物1234yfの製造方法に関する。
ヒドロフルオロカーボン(HFC)、特に2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234yf)のようなヒドロフルオロオレフィンは、冷媒及び熱交換体、消火剤、噴射剤、発泡剤、膨潤剤、誘電性ガス、重合又はモノマー媒体、支持流体(support fluid)、研磨剤、乾燥剤並びに粉体製造ユニット用流体としての特性で知られている化合物である。オゾン層に有害な可能性があるCSC及びHCFCとは異なり、HFOは塩素を含まないので、オゾン層に問題を生じない。
1234yfの製造に関してはいくつかの方法が知られている。
特許文献1は、1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン(HFC 245eb)の熱分解による2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234yf)と1,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234ze)の混合物の製造方法を記載している。
特許文献2は、脱フッ化水素化触媒上における1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン(HFC 245eb)の触媒転化による2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234yf)と1,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234ze)の混合物の製造方法を記載している。
このように、これら2つの上記特許文献は、生成物1234zeを相当量含む混合物の製造に向けられている。
特許文献3は、245ebの脱フッ化水素化(特にニッケル、炭素又はこれら2つの組合せを基材とする触媒上での)による1234yfの製造を記載している。
非特許文献1は、フッ素化合物に対する種々の化学反応を明確に記載している。この文献は、白金担持パラジウム系触媒上において温度を20℃から50℃に上昇させ、次いで50℃に保持する、HFPの実質的に定量的な水素化を記載している。この文献は、KOH懸濁液に通すことによって1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(236ea)を脱フッ化水素化して、1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)を製造することを記載している。この文献は、アルミナ担持パラジウム触媒上における1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)の1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン(245eb)への水素化を記載している。この水素化の間に、水素化分解(水添分解)反応も起こり、相当量の1,1,1,2−テトラフルオロプロパンが生成される。この文献は、KOHの懸濁液を通すことによる1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン(245eb)の2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン(HFO 1234yf)への脱フッ化水素化を記載している。これらの反応は、それぞれ独立して記載されているが、それらを組合せて、調節可能な量のフッ素を含む様々なエチレン、プロピレン及びイソブチレン誘導体を合成可能なことが示されている。
特許文献4は、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(236ea)を1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)へと触媒を用いて脱フッ化水素化した後に水素化を行って所望の化合物を生成させることによる、1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンの製造を記載している。236eaの1225yeへの脱ハロゲン化水素化は気相で行われ、一例では、反応生成物は次の反応器に直接送られ、そこで化合物1225yeの化合物245ebへの水素化が行われる。特許文献4には、前記非特許文献1を参照してヘキサフルオロプロピレン(HFP)を水素化することよって化合物236eaが得られることも示されている。
特許文献5は、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(236ea)を1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)へと触媒を用いて脱フッ化水素化した後に水素化を行って所望の化合物を生成することによる、1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンの製造を記載している。これらの反応は、気相で行われる。特許文献5には、特に前記非特許文献1を参照して、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)を水素化することよって化合物236eaが得られることも示されている。
WO2008/002449 WO2008/002500 WO2007/056194 US−P−5396000 US−P−5679875
Knunyants et al.,Journal of the USSR Academy of Sciences,Chemistry Department,"Reactions of fluoro-olefins"、report 13,"Catalytic hydrogenation of perfluoro-olefins",1960
入手の容易な出発原料から高選択率で、有利には高収率で所望の生成物をもたらす、1234yfを製造する方法に対するニーズがある。
従って、本発明は、
(i)ヘキサフルオロプロピレンを1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンに水素化し;
(ii)前記工程で得られた1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンに脱フッ化水素化し;
(iii)前記工程で得られた1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンへと水素化し;
(iv)前記工程で得られた1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンを2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンへと脱フッ化水素化する
工程を含んでなる、2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの連続気相製造法を提供する。
一部の態様によれば、
−工程(i)及び/又は工程(iii)において水素を化学量論的モル比で投入する。
−工程(ii)を水素の存在下で、好ましくはH2/反応させようとする生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるようにして行い、且つ工程(iv)を水素の不存在下で行う。
−工程(ii)を水素の存在下で、好ましくはH2/反応させようとする生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるようにして行い、且つ工程(iv)を水素の存在下で、好ましくはH2/反応させようとする生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるようにして行う。
−工程(i)の間に水素の総量を投入する。
−H2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が2.3〜30、有利には3〜20である。
−H2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が約2である。
−工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを、工程(ii)の後又は工程(iii)の後であって工程(iv)の前に分離させ、任意的に、工程(ii)及び/又は工程(i)に循還させる。
−工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを工程(iii)及び(iv)の前には分離させず、工程(iv)の間に未反応1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンから追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを生成し、次いでこの追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを分離させて、任意的に、工程(iii)及び/又は、任意的に、工程(ii)に循還させる。
−水素化工程(i)及び(iii)を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行い、任意的に、分離工程が存在する。;
−脱フッ化水素化工程(ii)及び(iv)を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行い、且つ方法が、前記反応器から得られた生成物、特に2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンを含むフラクションとして得られた生成物を分離させるための分離工程も含む。
−1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを含む工程(ii)からの流れを、分離せずに、工程(iii)に直接送り、その間に水素化を行う。
−工程(i)、(ii)及び(iii)を同一反応器中で異なる触媒床上で行う。
−工程(i)、(ii)及び(iii)を、直接連続する3つの反応器中で、中間で分離せずに行う。
−工程(iii)の後に分離を行い、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン及び、任意的に、HFの流れを回収して方法の最初に循還させ、且つ1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン及び、任意的に、水素の流れを回収して工程(iv)に送る。
本発明は連続した4つの反応を利用し、気相中で連続的に用い、反応生成物を、任意的に、必要に応じて処理後(例えば分離後)に、次の工程に送る。
本発明の方法において、反応工程は気相中の流れ上で連続的に行う。従って、化合物1234yfの経済的な製造方法が得られ、出発原料HFPは低コストで商業的入手が容易である。
水素化(hydrogenation)工程は、当業者に知られた常法で行う。当業者ならば、反応が実質的に定量的となるように操作条件を選択することができる。
これらの反応において使用できる触媒は、この目的で周知のものである。特に、第VIII族金属又はレニウムを基材とする触媒が挙げられる。この触媒は、例えば木炭、アルミナ、フッ化アルミニウムなどに担持させてもよいし、させなくてもよい(例えばラネーニッケル)。金属としては、白金又はパラジウム、特にパラジウム、有利には木炭又はアルミナに担持させたものを使用することが可能である。この金属は別の金属、例えば銀、銅、金、テルル、亜鉛、クロム、モリブデン又はタリウムと組み合わせることもできる。これらの水素化触媒は周知である。
触媒は、任意の適当な形態で、例えば固定床又は流動床の形態で、好ましくは固定床として、存在できる。流れの方向は、下向きでも上向きでもよい。触媒床は、発熱反応によって発生する熱流を制御するために、触媒の特定の分布を含むこともできる。従って、反応の発熱を制御するために、特に、触媒の電荷密度勾配(charge density gradient)、気孔率勾配(porosity gradient)の使用を検討することが可能である。例えば前記床の第1の部分がより少量の触媒を含み且つ第2の部分がより多量の触媒を含むことが考えられる。
既知の方法で触媒を再生する工程も考えられる。
窒素のような稀釈ガスの使用も考えられる。
水素化工程は発熱性である。反応温度は、必要に応じて、反応器中にこの目的で設けられる手段を用いて制御できる。温度は反応中に数十℃変動する場合があり、反応(i)は反応(iii)よりも発熱性である。例えば入口温度が20〜150℃の範囲であって、温度の増量が5〜100℃の範囲である場合がある。
接触時間(触媒と総装入物流の体積比)は一般に0.1〜100秒、好ましくは1〜50秒、有利には2〜10秒である。
水素注入量は広範囲に変化できる。H2/装入物比は広範囲に変化でき、特に1(化学量論量)〜30、特に1.5〜20、有利には3〜10であることができる。高い比は、稀釈を起し、それによって反応の発熱がよりよく管理されることになるであろう。
脱フッ化水素(dehydrofluorination)化反応は、当業者に知られた常法でも行われる。
脱フッ化水素化反応は、塩基性溶液、特にKOH溶液に通すことによって行うことができる。
脱フッ化水素化反応は、好ましくは脱フッ化水素化触媒を用いて行う。この触媒は、例えば金属、特に遷移金属又はこのような金属の酸化物、ハロゲン化物若しくはオキシハロゲン化物誘導体を基材とする触媒である。触媒は、例えばFeCl3、オキシフッ化クロム、Ni(Niメッシュ格子を含む)、NiCl2、CrF3及びそれらの混合物である。他の可能な触媒は、木炭に担持された触媒、アンチモン系触媒、アルミニウム系触媒(例えばAlF3及びAl23並びにオキシフッ化アルミニウム及びフッ素化アルミナ)、パラジウム、白金、ロジウム及びルテニウムである。US−P−5396000のカラム1,第50行〜カラム2,第2行又はWO2007/056194の第16頁,第13行〜第23行に示されたリストを参照できる。
一変形態様によれば、混合触媒が使用される。
この触媒はクロムとニッケルを含む。金属元素にして、Cr:Niモル比は一般に0.5〜5、例えば0.7〜2、特に約1である。触媒は、重量ベースで、0.5〜20%のクロム及び0.5〜20%のニッケルを含むことができ、好ましくは各金属を2〜10%含むことができる。
金属は、金属の形態で又は誘導体、特に酸化物、ハロゲン化物又はオキシハロゲン化物の形態で、特に触媒金属の活性化によって得られるハロゲン化物及びオキシハロゲン化物の形態で存在することができる。金属の活性化は必要ではないが、好ましい。
担体はアルミニウムを基材とする。いくつかの可能な担体としては、例えばアルミナ、活性アルミナ又はアルミニウム誘導体が挙げられる。これらのアルミニウム誘導体は特に、例えばUS−P−4902838に記載された又は後述の活性化方法によって得られるアルミニウムハロゲン化物又はオキシハロゲン化物である。
触媒は、クロムとニッケルを活性化されていない形態で若しくは活性化された形態で、これも金属が活性化されているか若しくはされていない担体上に、含むことができる。
触媒は、アルミナ(一般に「活性」アルミナ;この活性アルミナは気孔率の高いアルミナであり、金属活性化処理を既に受けたアルミナとは異なる)から製造できる。第1の工程において、アルミナを、空気及びフッ化水素酸を用いるフッ素化によって、フッ化アルミニウムに又はフッ化アルミニウムとアルミナとの混合物に変換する。アルミナのフッ化アルミニウムへの転化度は本質的には、アルミナのフッ素化を行う温度(一般には200〜450℃、好ましくは250〜400℃)によって異なる。次いで、担体に、クロム塩及びニッケル塩の水溶液を用いて、又はクロム酸、ニッケル塩及びメタノール(クロム還元剤として働く)の水溶液を用いて、含浸を行う。使用できるクロム塩及びニッケル塩は、担体によって吸収され得る量の水中にこれらの塩が可溶であるならば、塩化物若しくは他の塩、例えばシュウ酸塩、蟻酸塩、酢酸塩、硝酸塩及び硫酸塩、又は重クロム酸ニッケルである。触媒は前記のクロム及びニッケル化合物の溶液を用いて、アルミナ(一般に活性化されている)に直接含浸させることによっても製造できる。この場合には、触媒の金属の活性化工程の間に、アルミナの少なくとも一部(例えば70%又はそれ以上)がフッ化アルミニウム又はオキシフッ化アルミニウムに転化される。
触媒の調製に使用できる活性アルミナ類はよく知られた市販製品である。これらは、一般的に、300〜800℃の温度におけるアルミナ水和物(アルミニウム水酸化物)のか焼によって製造される。(活性化された又はされていない)アルミナ類は多量(1000ppm以下)のナトリウムを含む場合があるが、これによって触媒性能が損なわれることはない。
好ましくは(必ずしも必要でないが)、触媒は状態調整又は活性化させる、即ち事前の「活性化」操作によって、活性且つ安定な(反応条件下で)成分に転化させる。この処理は、「その場で(in situ)」(脱フッ化水素化反応器中で)又は活性化条件に耐えるように設計された適当な装置中で行うことができる。
この活性化工程は一般に以下の工程を含んでなる:
−乾燥工程。この乾燥工程は高温(250〜450℃、好ましくは300〜350℃)で、一般には窒素又は空気の流れの下で行う。任意的に、この工程より前に、第1の段階において、低温(100〜150℃、好ましくは110〜120℃)において空気又は窒素の存在下で乾燥させる第1の工程を行うことができる。乾燥工程の持続時間は10〜50時間であることができる。
−フッ素化工程。このフッ素化工程は、温度が350℃を超えないように、HF含量を制御しながら、フッ化水素酸と窒素の混合物を用いて低温(180〜350℃)において行う。フッ素化工程の持続時間は10〜50時間であることができる。
−任意的に、純粋なフッ化水素酸又は窒素で稀釈されたフッ化水素酸の流れの下での、450℃以下の温度における仕上げ工程。仕上げ工程の持続時間は2〜15時間であることができる。
この操作の間に、触媒前駆体(例えばニッケル及びクロムハロゲン化物、ニッケルクロム酸塩又は重クロム酸塩、酸化クロム)が、対応するフッ化物及び/又はオキシフッ化物に転化され、水及び/又は塩化水素酸が放出される。この活性化後の元素(クロム、ニッケル、フッ素、アルミニウム、酸素)の化学分析によって、触媒の無機組成を確認できる。
このような触媒は、EP−A−486333、特に第3頁,第11行〜第48行,実施例1A、2A及び4A(その部分を参照する)に記載されている。
脱フッ化水素化工程は150〜600℃、好ましくは300〜500℃、有利には300〜450℃、特に300〜400℃の温度で行う。
接触時間(触媒と総装入物流の体積比)は一般に0.1〜100秒、好ましくは1〜50秒、有利には1234yfを生じる反応の場合は2〜20秒、1225yeを生じる反応の場合は5〜40秒である。
反応には稀釈ガス(窒素、ヘリウム又はアルゴン)を使用できる。種々の反応における圧力は大気圧又はそれより低い若しくは高い圧力であることができる。圧力は、反応器毎に適宜変えることができる。
反応は、ハロゲンを含む反応に使用される1つ又はそれ以上の反応器中で行う。このような反応器は当業者に知られており、例えばHastelloy(登録商標)、Inconel(登録商標)、Monel(登録商標)又はフルオロポリマーを基材とするライニングを含むことができる。反応器は、必要に応じて熱交換手段を含むこともできる。
脱フッ化水素化工程前の水素化工程において水素を過剰に使用する場合には、脱フッ化水素化工程において水素が存在するであろう。この工程(ii)に水素を注入することも考えられるが、この水素は工程(i)に由来するものではない。H2/脱フッ化水素化装填材料の比は広範囲に変化させることができ、特に0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10であることができる。
このような水素の存在により、所望の生成物へのより高い選択率、好ましくは経時的により安定な選択率を得ることができる。同様に、重質留分の形成を低減されるので好ましい。水素の存在下において、選択率は所望の生成物1225ye又は1234yfに対して非常に高く、この選択率は好ましくは経時的に安定である。
具体的には、2つの脱フッ化水素化反応に関して、出発原料は式(I)
CF3−CHF−CHFX
(式中、Xは水素又はフッ素である)で表すことができる。従って、出発原料は、式(Ia)
CF3−CHF−CHF2(F236ea)
又は式(Ib)
CF3−CHF−CH2F(F245eb)
に対応することができる。これら2つの場合において、式IにおけるHF除去の結果として、除去されるフッ素に応じて、2つの生成物が得られる。1つは式(II)
CF3−CF=CHX、
もう1つは式(III)
CF3−CH=CFX
である。このため、式(I)の生成物の分子からのHF除去時には選択性の問題がある。例えばHF除去によって1234yfのみを生じることができるF245cbのように、出発原料が、二重結合を持たせようとする末端炭素上にフッ素を含まない場合には、このような選択性の問題は起こらない。
出発原料が式(Ia)の生成物(236ea)である場合には、所望の生成物は式(IIa)、即ち
CF3−CF=CHF(1225ye)
に相当し、所望でない生成物は式(IIIa)、即ち
CF3−CH=CF2(1225zc)
に相当する。
出発原料が式(Ib)の生成物(245eb)である場合には、所望の生成物は式(IIb)、即ち
CF3−CF=CH2(1234yf)
に相当し、所望でない生成物は式(IIIb)、即ち
CF3−CH−CHF(1234ze)
に相当する。
式(II)の生成物への選択率は、それが(IIa)又は(IIb)のいずれであっても、非常に高く、90%超、好ましくは95%超、更に有利には98%と同等又はそれ以上である。
転化率も非常に高い。有利なことに、転化率は経時的に安定である。
試薬は一般に連続的に供給し、又は適宜、段階的に供給することもできる。行うことができる分離及び/又は循還操作の位置は変えることができ、方法の最初又は中間段階である。
一態様によれば、水素は脱フッ化水素化工程(ii)の間じゅう存在する。この水素はこの工程の間じゅう注入することもできるし、或いは工程(ii)の前に分離されなかった、第1の工程で使用された過剰の水素に由来することもできる。一態様によれば、水素は第1の反応に過剰に投入し、第1の脱ハロゲン化水素化工程(ii)の間じゅう保持し、任意的に、第2の脱フッ化水素化に相当する最終工程(iv)まで保持する。この工程(iv)は水素の不存在下でも実施できる。例えばこの方法に使用する水素の総量を工程(i)において投入し、H2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比を2.3〜30、有利には3〜20とする。この場合には、HFP 1モル当たり水素2.3モルという低いモル比の値に基づけば、第1の脱フッ化水素化工程において水素1.3モルが残り(選択率を、有利には経時的に安定的に、向上させる)、その結果として、H2/ペンタフルオロプロピレンのモル比が1.3となる(第1の脱フッ化水素化工程の転化率及び選択率が定量的であると認められる場合には)。245ebに対する水素化反応の間に水素1モルが消費され、その結果として第2の脱フッ化水素化工程(選択率を再び向上させる)のために水素0.3モルが残る。全ての水素が消費されて、最終反応(iv)が水素の不存在下で行われるように、水素の量を、モル比が約2となるような量とすることも可能である(工程(ii)が定量的と仮定する場合に)。
水素モル比は定量的反応に基づいて表される(特に脱ハロゲン化水素化反応、とりわけ反応(ii)の場合;水素モル比は所望の生成物への転化率及び選択率に応じて再計算される)。
水素は段階的に投入することもでき、追加水素を第2の水素化の前又は各脱フッ化水素化工程の前に(これらの工程を水素の存在下で実施するのが望ましい場合)投入できる。従って、第1の水素化工程をH2/ヘキサフルオロプロピレンモル比1.5で行ってもよく、残りの過剰の水素(HFP 1モル当たり水素約0.5モル)は第1の脱フッ化水素化工程である工程(ii)に保持される。この工程の前に又はこの工程の直後に、H2:1225yeの比が少なくとも1と同等、有利には1超となるように、水素を加えることが可能である(最終脱フッ化水素化工程(iv)を水素の存在下で行って転化率を改善するために)。水素は、必要に応じて、各工程の前に反応媒体に加えることもできる。脱フッ化水素化工程(ii)を水素の存在下で行い、最終工程(iv)を水素の存在下では行わないことも可能である。
1つ又はそれ以上の工程で消費されなかった水素は有利には分離させ、本プロセスに、有利にはプロセスの出発部に循還させる。
水素化反応は好ましくは実質的に定量的である。脱フッ化水素化反応は必ずしも常に定量的ではない。特に、1225yeの形成のための反応(ii)は、必ずしも定量的でなく、未反応236eaが残る場合がある。
従って、未反応化合物236eaは、工程(ii)の後又は工程(iii)の後(で且つ工程(iv)の前)に分離させることができる。236eaと245ebの沸点は、それぞれ、6℃及び22.7℃であって、差が15℃超であるので、分離は工程(iii)の後に行うのが有利である。水素化反応(iii)は236eaには実質的に影響を与えないので、分離はこれら2つの時点で行うことができる。分離されたこの236eaはプロセスに循還させることができる。236eaは、それが反応する工程(ii)の間に循還させることができる。236eaはプロセスの出発部、工程(i)に循還させることもでき、この工程において希釈剤となることができる。236eaの稀釈作用は、第1の水素化反応の発熱を制御できる。
この未反応化合物236eaは、分離せずに、プロセスに、特に工程(iv)まで残すこともできる。その結果として、この脱フッ化水素化工程(iv)の間に、未反応236eaから更なる1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)が形成されるであろう。その後、2つの化合物1225yeと1234yfを分離させ、1225yeを循還させることができる。これら2種のフルオロオレフィンの沸点は似ていることは明らかであるが、これら2つの化合物に分離させることは可能である。循還は工程(ii)及び/又は工程(iii)に行うことができる。この1225yeは、実質的に定量的である工程(iii)の水素化反応の間に定量的に転化されるであろう。
このように、本発明に係るプロセスにおいては、考えられる分離の必要性に応じて、生成物流を制御することが可能である。形成されたHFは、各脱フッ化水素化反応後に、これら2つの反応の間に、又はプロセスの最後においてのみ、分離させることができる。HFは、洗浄又は蒸留によって分離させることができる。形成される可能性があるHFとの共沸混合物もまた、それらが形成された工程の後に、又は次の工程の後に、又はプロセスの最後に分離させることができる。このように、これらの分離工程は、種々の要求に応じて、プロセス中に配置する。一部の分離化合物のみ(例えば未反応236ea)を循還させ且つ他の分離成分を他のプロセスへと送り出すことを想定することも可能である。
有利には、1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−ペンテン(1225ye)は分離せず、それによってこの毒性生成物の取扱を避ける。工程(ii)からの流れを次の工程に直接送ることが可能である。
例えばプロセスは、工程(i)、(ii)及び(iii)を、同一反応器中で異なる触媒床上で行うものであることができる。有利には、この場合には、工程(iii)の後に、分離及び任意的にHF除去を行い、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンの流れを回収してプロセスの出発部に循還させ、1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン及び任意的に(しかし、好ましくは)水素の流れを回収して工程(iv)に送る。1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペン(1225ye)は、反応器中で245ebに転化されるので、分離せず、この毒性生成物1225yeの取扱を回避する。1つの反応器から出た流れが分離されることなく次の反応器に直接送られる、直接連続した3つの反応器も考えることできる。
前述した単一反応器の場合には、反応器は、異なる機能を有する3つの異なる触媒種を含むことができる。HFPの水素化は第1の触媒床で行う(完全転化、事実上100%の選択率)。次に、236eaと過剰の水素が、適当な温度で第2の触媒床を通過する(加熱は例えば電気加熱であることができる)。このとき、反応生成物は1225ye、HF、過剰の水素及び場合によっては未反応236eaである。次いで、これらが第3の触媒床に送られ、そこで水素化が行われる(完全転化、事実上100%選択率)。
単一の反応器又は直接連続した3つの反応器の上記の場合には、次に、245eb、恐らくは過剰の水素、HF(恐らくは共沸混合物との混合物として)、恐らくは未反応236ea(水素化工程前に存在していたもの)を含む出口流が得られる。水素は分離させて、反応器の頂部に(又はプロセスの別の段階に)循還させ、236eaは245ebから分離させる。236eaは、反応器入口に循還させることもできる。HF及び、任意的に、共沸混合物も分離させる(任意的には、一部洗浄による)。
水素化工程(i)及び(iii)を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行うこと、並びに/又は脱フッ化水素化工程(ii)及び(iv)を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行うことも、本プロセスにおいて考えられる。WO2007/117391は、236ea及び245ebの同時脱フッ化水素化による1225zeと1234yfの混合物の製造を記載しているが、これら2種の化合物は、そのプロセス後に分離されない。
同時水素化は第1の反応器中で行い、第1の反応器の出口流は236ea及び245ebを含む。出口流を分離し、236eaは第1の脱フッ化水素化反応器に送り、245ebは第2の脱フッ化水素化反応器に送る。第1の脱フッ化水素化反応器からの出口流は主に1225ye及び、任意的に、未反応236eaを含む。第1の脱フッ化水素化反応器からの出口流は、水素化反応器に送って、この1225yeから化合物245ebを生成させることができる。分離させた236eaは、任意的に、この脱フッ化水素化反応器の頂部に循還させることができる。
本プロセスは、水素化反応器からの出口流(245eb及び236eaを含む)を送ることによって行うこともできるし、或いは2つの水素化反応器からの2つの流れの組合せを単一の脱フッ化水素化反応器に直接送ることもできる。この脱フッ化水素化反応器からの流れは1234yfを含むが、未反応236eaと236eaの脱フッ化水素化によって生じた1225yeも含む。この流れを分離させ、1234yf、1225ye及び236eaを回収する。前に示したように、これら2種のフルオロオレフィンは分離可能である。236eaは脱フッ化水素化反応器の頂部に循還させることができ、1225yeの流れは水素化反応器の頂部に循還させる。これら2種の化合物を水素化反応器の頂部に循還させることも可能である。
以下のことを想起されたい:
−転化率は反応した出発原料の百分率(反応した出発原料のモル数/投入した出発原料のモル数)であり;
−所望の生成物への選択率は形成された所望の生成物のモル数/反応した出発原料のモル数の比であり;
−所望の生成物の収率は形成された所望の生成物のモル数/投入した出発原料のモル数の比であり、所望の生成物の収率は、場合によっては、転化率と選択率の積と定義することが可能である。;
−接触時間は気体毎時空間速度(gas hourly space velocity)(GHSV)の逆数であり;
−空間速度は、標準温度及び標準圧力の条件下における、触媒床の体積に対する気体流の総処理体積の比であり;
−生産性は、単位時間当たり及び触媒単位当たりの得られる所望の生成物の質量(質量又は容量)であり、この生産性は接触時間と関係している。
以下の実施例は、本発明を説明するが、限定するものではない。
実施例1:HFPの236eaへの水素化
触媒10gを16cm3の固定床の形態で含む反応器を用いる。触媒は2%Pd/Cペレット型の触媒である。圧力は1バールとする。
以下の結果が得られる(MRはモル比を意味する)。
Figure 2014185168
実施例2:236eaの1225yeへの脱フッ化水素化
脱フッ化水素化触媒の調製
使用する触媒はNi−Cr/AlF3触媒であり、これを以下のようにして調製する。
先行する工程においてGrace HSAアルミナのフッ素化によって得られた担体343gを、約280℃において空気及びフッ化水素酸(空気中のこの酸の容積濃度は5〜10%)を用いて固定床としてロータリーエバポレーター中に入れる。Grace HSA出発アルミナは以下の物理化学的特性を有する:
−形態 :直径0.5〜2mmのビーズ
−BET表面積 :220m2/g
−気孔容積 :1.3cm3/g
これとは別に、以下の2種の水溶液を調製する:
(a)以下:
−三塩化クロム : 55g
−塩化ニッケル六水和物 :130g
−水 : 63g
を含む塩化ニッケル補充クロム溶液
(b)以下:
−メタノール : 81g
−水 : 8g
を含むメタノール溶液。
これら2種の溶液を温度40℃で大気圧において約2時間にわたって、撹拌しながら担体上に同時に投入する。窒素下における熟成工程後、触媒を窒素下で、次いで真空下で65℃において、次いで約90℃において6時間乾燥させる。
含浸された固体500gをインコネル(Inconel)管型反応器中に入れる。触媒を最初に、大気圧において窒素流下で低温で、次いで320℃までの温度で乾燥させる。次いで、触媒を、フッ化水素酸/窒素混合物(窒素中のこの酸の容積濃度は5〜10%)の存在下で320℃において、次いで390℃までの温度においてフッ素化させる。その後、HFの供給を停止させる。窒素によるフラッシュを390℃において15分間続けてから、触媒を窒素流下で60℃まで冷却する。
活性化後の触媒の特性は以下の通りである:
−BET表面積 :40m2/g
−気孔容積 :0.4cm3/g
−化学組成 : Al:25重量%
F :58重量%
Cr:5.3重量%
Ni:6.4重量%.
触媒20gを23cm3固定床の形態で含む反応器を用いる。圧力は1バールとする。
以下の結果が得られる(MRはモル比を意味する)。
Figure 2014185168
実施例3:1225yeの245ebへの水素化
触媒10g(実施例1に用いたのと同一)を16cm3固定床の形態で含む反応器を用いる。圧力は1バールとする。
以下の結果が得られる(MRはモル比を意味する)。
Figure 2014185168
実施例4:245ebの1234yfへの脱フッ化水素化
触媒10g(実施例2に用いたのと同一)を12cm3固定床の形態で含む反応器を用いる。圧力は1バールとする。
以下の結果が得られる(MRはモル比を意味する)。
Figure 2014185168
以下に、本発明の関連態様を記載する。
態様1.(i)ヘキサフルオロプロピレンを1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンに水素化し;
(ii)前記工程で得られた1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンへと脱フッ化水素化し;
(iii)前記工程で得られた1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンに水素化し;
(iv)前記工程で得られた1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンを2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンに脱フッ化水素化する
工程を含んでなる、2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの連続気相製造法。
態様2.前記水素を、工程(i)及び/又は工程(iii)において、化学量論的モル比で投入する態様1に記載の方法。
態様3.工程(ii)を、水素の存在下で、好ましくはH2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるように行い、且つ工程(iv)を水素の不存在下で行う態様1又は2に記載の方法。
態様4.工程(ii)を、水素の存在下で、好ましくはH2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるように行い、且つ工程(iv)を水素の存在下で、好ましくはH2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30、特に0.5〜20、有利には1〜10となるように行う態様1又は2に記載の方法。
態様5.工程(i)の間に水素の総量を導入する態様1〜4のいずれか1項に記載の方法。
態様6.H2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が2.3〜30、有利には3〜20である態様5に記載の方法。
態様7.H2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が約2である態様5に記載の方法。
態様8.工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを、工程(ii)の後又は工程(iii)の後であって工程(iv)の前に分離させ、任意的に、工程(ii)及び/又は工程(i)に循還させる態様1〜7のいずれか1項に記載の方法。
態様9.工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを工程(iii)及び(iv)の前には分離させず、工程(iv)の間に未反応1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンから追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを生成させ、次いでこの追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを分離させて、任意的に、工程(iii)及び/又は任意的に、工程(ii)に循還させる態様1〜7のいずれか1項に記載の方法。
態様10.水素化工程(i)及び(iii)を同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行い、分離工程が任意的に存在する態様1〜9のいずれか1項に記載の方法。
態様11.脱フッ化水素化工程(ii)及び(iv)を、同一反応器中で、好ましくは同一触媒を用いて行う方法で、前記方法が、前記反応器から得られた生成物、特に2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンを含むフラクションとして得られた生成物を分離させるための分離工程も含む態様1〜10のいずれか1項に記載の方法。
態様12.1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを含む工程(ii)からの流れを、分離することなく、工程(iii)に直接送り、その間に水素化を行う態様1〜9のいずれか1項に記載の方法。
態様13.工程(i)、(ii)及び(iii)を、同一反応器中で、異なる触媒床上で行う態様1〜9のいずれか1項に記載の方法。
態様14.工程(i)、(ii)及び(iii)を、直接連続する3つの反応器中で、中間で分離することなく、行う態様1〜9のいずれか1項に記載の方法。
態様15.工程(iii)の後に分離を行い、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン及び、任意的に、HFの流れを回収して方法の最初に循還させ、且つ1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン及び、任意的に、水素の流れを回収して工程(iv)に送る態様13又は14に記載の方法。

Claims (14)

  1. (i)ヘキサフルオロプロピレンを1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンに水素化し;
    (ii)前記工程で得られた1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンへと脱フッ化水素化し;
    (iii)前記工程で得られた1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンに水素化し;そして
    (iv)前記工程で得られた1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパンを2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンに脱フッ化水素化する
    工程を含んでなり、前記工程(i)〜(iv)を連続的に実施し、工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを、工程(ii)の後又は工程(iii)の後であって工程(iv)の前に分離させ、任意的に、工程(ii)及び/又は工程(i)に循環させる、2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの連続気相製造法。
  2. 前記水素を、工程(i)及び/又は工程(iii)において、化学量論的モル比で投入する請求項1に記載の方法。
  3. 工程(ii)を、水素の存在下で、H2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30となるように行い、且つ工程(iv)を水素の不存在下で行う請求項1又は2に記載の方法。
  4. 工程(ii)を、水素の存在下で、H2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30となるように行い、且つ工程(iv)を水素の存在下で、H2/反応させる生成物のモル比が0.3〜30となるように行う請求項1又は2に記載の方法。
  5. 工程(i)の間に2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペンの製造に使用する水素の総量を導入する請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が2.3〜30である請求項5に記載の方法。
  7. 2/ヘキサフルオロプロピレンのモル比が2である請求項5に記載の方法。
  8. 工程(ii)の間に反応しなかった1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンを工程(iii)及び(iv)の前には分離させず、工程(iv)の間に未反応1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパンから追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを生成させ、次いでこの追加1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを分離させて、任意的に、工程(iii)及び/又は任意的に、工程(ii)に循環させる請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
  9. 水素化工程(i)及び(iii)を同一反応器中で行い、分離工程が任意的に存在する請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  10. 脱フッ化水素化工程(ii)及び(iv)を、同一反応器中で行う方法で、前記方法が、前記反応器から得られた生成物を分離させるための分離工程も含む請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
  11. 1,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロペンを含む工程(ii)からの流れを、分離することなく、工程(iii)に直接送り、その間に水素化を行う請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  12. 工程(i)、(ii)及び(iii)を、同一反応器中で、異なる触媒床上で行う請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  13. 工程(i)、(ii)及び(iii)を、直接連続する3つの反応器中で、中間で分離することなく、行う請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  14. 工程(iii)の後に分離を行い、1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン及び、任意的に、HFの流れを回収して方法の最初に循環させ、且つ1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン及び、任意的に、水素の流れを回収して工程(iv)に送る請求項12又は13に記載の方法。
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