JP2014176845A - インクジェット描画装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ステージを長尺化及び大型化する必要なく、振動によるヘッドの位置ずれの発生を抑制し、高精度なメンテナンスを可能とする。
【解決手段】インクジェット描画装置1A、1B、1Cは、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュール5に設けられた液滴吐出ヘッド51と、水平方向に移動可能に構成された描画台11を備えており、液滴吐出ヘッド51のメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットMのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットm1−m3を選択し、該選択されたメンテナンスユニットm1−m3をメンテナンスユニット搬送手段7に設置するメンテナンスユニット選択設置手段14を設けた。
【選択図】図1
【解決手段】インクジェット描画装置1A、1B、1Cは、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュール5に設けられた液滴吐出ヘッド51と、水平方向に移動可能に構成された描画台11を備えており、液滴吐出ヘッド51のメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットMのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットm1−m3を選択し、該選択されたメンテナンスユニットm1−m3をメンテナンスユニット搬送手段7に設置するメンテナンスユニット選択設置手段14を設けた。
【選択図】図1
Description
本発明はインクジェット描画装置に関し、詳しくは、装置基台上のステージを長尺化及び大型化する必要なく、ヘッドのメンテナンスを高精度に行うことのできるインクジェット描画装置に関する。
近年、インクジェット技術を利用した微細加工技術に注目が集まっており、例えば液晶表示パネルに用いられるカラーフィルターや半導体の配線パターン等の製造分野においては、液滴吐出ヘッド(以下、単にヘッドという。)から吐出される各種液滴を、ワーク(被記録材)上の誤差1μm程度の極めて微細なターゲットに対して着弾させるニーズが高まっている。
高精度に着弾位置を制御するためには、ヘッドの位置が正確な位置に設置されていることが望ましい。また、ヘッドを適切にメンテナンスすることで、液滴の着弾位置が適切な位置に着弾するように保守作業を行う必要がある。
従来、ヘッドのメンテナンスを行うものとして、特許文献1には、装置本体に、描画エリアに隣接してメンテナンスエリアを設け、メンテナンス時には、ヘッドを保持したキャリッジをメンテナンスエリアまで移動させることが開示されている。
また、特許文献2には、ヘッドを装置基台上で不動とし、同じ装置基台に設置されたステージ上に、複数種類のメンテナンスユニットをヘッドの直下を含む所定領域を水平移動可能に設け、メンテナンス時には、ステージの移動によって所望のメンテナンスユニットをヘッドの直下まで移動させることが開示されている。
特許文献1記載の技術では、ヘッドのメンテナンスの際にヘッドを保持したキャリッジをメンテナンスエリアまで移動させる必要があるため、キャリッジの移動によって少なからずヘッドのがたつきが生じ、ヘッドの取り付け位置に微細な位置ずれが生じて着弾位置にずれが発生するおそれがある。インクジェット描画装置は、μmオーダーの極めて高精度な着弾位置精度が求められるため、ヘッドの極く僅かな位置ずれも致命的となる。
このためには、特許文献2記載の技術のように、ヘッドを不動とし、メンテナンスユニット側をヘッドの直下まで移動させる構成とすることが望ましいといえる。
しかしながら、ヘッドを不動とする場合、描画対象となるワークを支持する描画台の設置領域及びその移動領域に加えて、メンテナンスユニットの設置領域及びその移動領域も必要となる。メンテナンスユニットは、一般に、ヘッドのノズル面を乾燥等から防ぐためのキャッピングユニット、ノズルから強制的にインクを吸引するサッキングユニット、ノズルから強制的に吐出されるインクを収容するフラッシングトレイ、ノズル面に付着した残留インク等の汚れをふき取るワイピングユニット等の複数種類に亘り、これら複数種類のメンテナンスユニットをステージ上に使用可能に設置する必要がある。従って、その設置場所をステージ上に確保しなくてはならないため、ステージが長尺化及び大型化してしまう問題がある。
しかも、描画台もメンテナンスユニットも共にヘッドに対して高精度に位置決めされる必要があるため、その移動も高精度に行われる必要がある。高精度な移動を行うためのステージは極めて高価であり、コスト高となるばかりでなく、所定のメンテナンスユニットを使用するためにステージを長距離移動させる必要があることから、その移動に伴う振動が装置基台からヘッドに伝わってヘッドの微細な位置ずれが発生する問題もある。
そこで、本発明は、ステージを長尺化及び大型化する必要なく、また、振動によるヘッドの位置ずれの発生を抑制できて、メンテナンスユニットをヘッドに位置決めすることにより高精度なメンテナンスを行うことのできるインクジェット描画装置を提供することを課題とする。
本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
上記課題は、以下の各発明によって解決される。
請求項1記載の発明は、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドを保持し、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュールと、上面に被記録材を支持し、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能に構成された描画台とを有し、前記液滴吐出ヘッドから前記被記録材に向けて液滴を吐出することによって所定の描画を行うインクジェット描画装置であって、
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段と、
前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを選択し、該選択されたメンテナンスユニットを前記メンテナンスユニット搬送手段に設置するメンテナンスユニット選択設置手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット描画装置である。
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段と、
前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを選択し、該選択されたメンテナンスユニットを前記メンテナンスユニット搬送手段に設置するメンテナンスユニット選択設置手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット描画装置である。
請求項2記載の発明は、前記ヘッドモジュールと前記メンテナンスユニット搬送手段によって搬送されるメンテナンスユニットとの相対位置を計測する相対位置計測手段を備え、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項1記載のインクジェット描画装置である。
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項1記載のインクジェット描画装置である。
請求項3記載の発明は、前記メンテナンスユニット選択設置手段は、先端に1つのメンテナンスユニットを保持可能なロボットアームにより構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェット描画装置である。
請求項4記載の発明は、前記メンテナンスユニット選択設置手段は、前記メンテナンスユニット搬送手段を跨ぐように設けられたガントリに沿ってスライド移動可能且つ昇降移動可能に設けられ、下端に1つのメンテナンスユニットを保持可能なハンド部を有していることを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェット描画装置である。
請求項5記載の発明は、前記複数種類のメンテナンスユニットを上面に配置したメンテナンスユニット配置台を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
請求項6記載の発明は、前記ヘッドモジュールと前記描画台は、共通の定盤上に設置されており、前記メンテナンスユニット選択設置手段は、前記定盤上には設置されていないことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
請求項7記載の発明は、前記描画台と前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能で、且つ、前記描画台の上面に対して垂直方向に沿う方向を軸として回転移動可能に構成された共通のステージ上に設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
請求項8記載の発明は、前記描画台は、前記メンテナンスユニットによるメンテナンス時に、該メンテナンスユニットと干渉しない位置まで退避し、前記ヘッドモジュールの下方に前記メンテナンスユニットの挿入スペースを確保するように構成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
請求項9記載の発明は、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドを保持し、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュールと、上面に被記録材を支持し、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能に構成された描画台とを有し、前記液滴吐出ヘッドから前記被記録材に向けて液滴を吐出することによって所定の描画を行うインクジェット描画装置であって、
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段を有し、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、先端にメンテナンスユニットが設置されると共に該先端が前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向及び垂直方向に移動可能なロボットアームにより構成されていることを特徴とするインクジェット描画装置である。
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段を有し、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、先端にメンテナンスユニットが設置されると共に該先端が前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向及び垂直方向に移動可能なロボットアームにより構成されていることを特徴とするインクジェット描画装置である。
請求項10記載の発明は、前記ヘッドモジュールと前記メンテナンスユニット搬送手段によって搬送されるメンテナンスユニットとの相対位置を計測する相対位置計測手段を備え、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項9記載のインクジェット描画装置である。
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項9記載のインクジェット描画装置である。
請求項11記載の発明は、前記メンテナンスユニット搬送手段は、先端に複数種類のメンテナンスユニットを設置した回転テーブルを有していることを特徴とする請求項9又は10記載のインクジェット描画装置である。
請求項12記載の発明は、前記ヘッドモジュールと前記描画台は、共通の定盤上に設置されており、前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記定盤上には設置されていないことを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
請求項13記載の発明は、前記描画台は、前記メンテナンスユニットによるメンテナンス時に、該メンテナンスユニットと干渉しない位置まで退避し、前記ヘッドモジュールの下方に前記メンテナンスユニットの挿入スペースを確保するように構成されていることを特徴とする請求項9〜12のいずれかに記載のインクジェット描画装置である。
本発明によれば、ステージを長尺化及び大型化する必要なく、また、振動によるヘッドの位置ずれの発生を抑制できて、メンテナンスユニットをヘッドに位置決めすることにより高精度なメンテナンスを行うことのできるインクジェット描画装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
<第1の実施形態>
図1は本発明に係るインクジェット描画装置の第1の実施形態を示す側面図、図2はその平面図である。
図1は本発明に係るインクジェット描画装置の第1の実施形態を示す側面図、図2はその平面図である。
インクジェット描画装置1Aは、平面視矩形状の石製の定盤2上に、図中X方向に沿う石製のガントリ3が架設されている。このガントリ3は図1では1点鎖線で示している。ガントリ3には、図中Z方向に沿って昇降移動可能なZステージ4が設けられている。Zステージ4は、ガントリ3に対して昇降移動のみが可能とされ、水平方向には移動不可能に構成されており、その下端にはヘッドモジュール5が設置されている。
図3はヘッドモジュール5の底面図であり、ヘッドモジュール5は、それぞれ液滴を吐出する多数のノズル51aが配列された液滴吐出ヘッド(以下、単にヘッドという。)51が、ベースプレート50にノズル51aの配列方向に沿って千鳥状に配列、保持されることで、図中X方向に沿って長尺となるラインヘッドを構成している。ベースプレート50の底面の四隅の適正位置には、十字型の位置確認用マーカ52が形成されている。また、X方向に沿う2箇所に距離を置いて形成された各位置確認用マーカ52、52を結ぶ直線が各ヘッド51のノズル列方向と平行となるように形成されている。かかるヘッドモジュール5は、各ヘッド51のノズル面が下方を向き、その下方に配置される被記録材(図示せず)の表面に対して平行に対面可能となるように配置され、Z方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動させるためのθ回転機構(図示せず)を介してZステージ4の下端に取り付けられている。
また、Zステージ4の側面には、該Zステージ4の下方を視認するための第1のカメラ6が一体に取り付けられている。この第1のカメラ6は、本実施形態において、下方に配置される後述するメンテナンスユニットMの位置及び姿勢を確認するためのCCD等からなるメンテナンスユニット位置確認用カメラであり、レンズ面6aを下に向けてZステージ4に対して独立して昇降可能に取り付けられている。この第1のカメラ6の昇降移動は、後述するメンテナンスユニットMの位置を画像認識する際に所定位置に形成されたマーカを確認するために行われる。
定盤2の上面には、被記録材(図示せず)を搬送するための搬送ステージ7と、この搬送ステージ7をZ方向に沿う方向を軸としてθ方向に回転移動させるためのθ回転機構8、搬送ステージ7とθ回転機構8とを共に図中Y方向に沿って直線移動させるためのY移動機構9と、搬送ステージ7とθ回転機構8とを共にX方向に沿って直線移動させるためのX移動機構10とを備えている。
なお、X方向とY方向は、定盤2の上面と平行な水平面において互いに直交する方向であり、X方向は副走査方向、Y方向は主走査方向を示す。Z方向は、定盤2の上面に対して垂直方向であり、X方向及びY方向の双方に対して直交する方向である。
搬送ステージ7は、θ回転機構8上に設けられた平面視矩形状の平板であり、その上面には、描画台11と、この描画台11に近接して、上方を視認するための第2のカメラ12とが一体に設置されている。
描画台11の上面は定盤2の上面に対して平行な水平面とされ、ヘッドモジュール5から吐出される液滴を着弾させて所定の描画を行う対象物である被記録材(図示せず)が載置されて支持される。この描画台11は、搬送ステージ7の表面よりも上方に突出して高く形成されている。θ回転機構8の回転中心は、この描画台11の中心位置に設定されている。
第2のカメラ12は、本実施形態において、上方に位置するヘッドモジュール5の位置及び姿勢を確認するためのCCD等からなるヘッド位置確認用カメラであり、レンズ面12aを上に向けて搬送ステージ7の上面の所定位置に横置きされ、搬送ステージ7に対して位置不動に取り付けられている。
また、搬送ステージ7の上面は、これら描画台11及び第2のカメラ12の設置スペースよりも更に図中Y方向に沿う側方に張り出しており、この張り出し部分の上面スペースによって、後述するメンテナンスユニットMを設置するためのメンテナンスユニット設置部13を形成している。このメンテナンスユニット設置部13は、複数種類のメンテナンスユニットMのうちのいずれか1種類のメンテナンスユニットMを設置させるに十分な最小限のスペースを有している。このため、複数種類のメンテナンスユニットMによるメンテナンスを可能としながらも搬送ステージ7が無用に大型化することはなく、また、この上に設置されるメンテナンスユニットMをヘッドモジュール5の直下に移動させるために必要な移動距離も常に最小限で済む。
描画台11は搬送ステージ7の表面よりも高く形成されているので、このメンテナンスユニット設置部13の上面との間に大きな高低差が形成される。この高低差は、メンテナンスユニット設置部13に設置可能とされるメンテナンスユニットMの最大高さと同程度とすることで、後述のメンテナンス動作時にヘッドモジュール5とメンテナンスユニット設置部13との間にメンテナンスユニットMを挿入可能なスペースを確保できると共に、ヘッドモジュール5を昇降移動させる際の移動距離を短くすることができる。
メンテナンスユニット設置部13には、設置されたメンテナンスユニットMを、メンテナンス中に移動不能となるように保持するための保持機構13aを備えている。具体的な保持機構13aは特に問わず、例えばメンテナンスユニットMを機械的に係止することによって移動不能にロックするロック機構、メンテナンスユニットMを磁力や空気吸引等によって移動不能に吸着する吸着機構等が挙げられる。
搬送ステージ7は、θ回転機構8によってθ方向に回転移動すると共に、X移動機構10及びY移動機構9に沿って移動することで、Zステージ4に取り付けられたヘッドモジュール5の直下を含む所定領域を水平方向(X、Y方向及びθ方向)に移動可能に構成されている。従って、この搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13に設置されるメンテナンスユニットMは、搬送ステージ7の水平方向の移動によってヘッドモジュール5の直下まで搬送されることが可能であり、この搬送ステージ7によって本発明におけるメンテナンスユニット搬送手段が構成される。
なお、搬送ステージ7のX、Y方向及びθ方向の各位置は、不図示のエンコーダによって高精度に検出されるようになっている。
定盤2の側方には、メンテナンスユニットMを搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13に設置するためのメンテナンスユニット設置機構14が配置されている。メンテナンスユニット設置機構14は、ここでは多関節構造のいわゆるロボットアームからなり、定盤2には設置されておらず、定盤2とは別体構造となっており、定盤2の側方に設置されたメンテナンスユニット配置台15に取り付けられている。メンテナンスユニット配置台15の上面には、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)が選択使用可能に配置されている。
メンテナンスユニット設置機構14は、先端にメンテナンスユニットMをつかんで保持するためのハンド部14aを有しており、このハンド部14aによって、メンテナンスユニット配置台15に配置された複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のうちからいずれか1つのメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)を選択して掴んで保持し、各関節を駆動することによって搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13の位置まで運び、該メンテナンスユニット設置部13上に設置することができるように構成されている。従って、このメンテナンスユニット設置機構14によって本発明に
おけるメンテナンスユニット選択設置手段が構成される。
おけるメンテナンスユニット選択設置手段が構成される。
図1に示すように、定盤2は、装置基台16上にエアサスペンション等の除振機構17を介して載置されている。メンテナンスユニット設置機構14及びメンテナンスユニット配置台15は、図示するようにこの装置基台16上に設けることができるが、装置基台16とは別体として例えば床面上に設置されていてもよい。本実施形態では、メンテナンスユニット設置機構14は定盤2には設置されていないため、その駆動に伴って発生する振動が定盤2に直接伝達されることを防止できる効果がある。従って、メンテナンスユニット設置機構14が装置基台16上に設置されていても、その駆動に伴って発生する振動は除振機構17によって定盤2に直接伝達されることが抑制され、十分に減衰されるため、ヘッドモジュール5の各ヘッド51の取り付け状態に与える影響を低減することができる。しかも、定盤2はメンテナンスユニット設置機構14の設置スペースを必要としないため、高価な定盤2を必要最小限に小型化でき、コストダウンが可能となる。
図4はかかるインクジェット描画装置1Aの内部の概略構成を示すブロック図である。
100は全体を制御する演算部(CPU)であり、ステージコントローラ101、アームコントローラ102、画像処理部103、吐出制御部104をそれぞれ制御する。
ステージコントローラ101は、演算部100からの制御信号に基づいてステージドライバ105、106の駆動を制御し、Zステージ4に取り付けられたヘッドモジュール5をθ方向に回転移動させるためのθ軸モータ110、Zステージ4をZ方向に昇降移動させるためのZ軸モータ111をそれぞれ駆動させる。
また、ステージコントローラ101は、演算部100からの制御信号に基づいてステージドライバ107〜109の駆動を制御し、搬送ステージ7をX方向に移動させるためのX軸モータ112、Y方向に移動させるためのY軸モータ113、θ方向に回転移動させるためのθ軸モータ114をそれぞれ駆動させる。
アームコントローラ102は、演算部100からの制御信号に基づいてメンテナンスユニット設置機構14であるロボットアームを駆動させて各種動作を制御する。
画像処理部103は、演算部100からの制御信号に基づいてカメラコントローラ115の駆動を制御し、Zステージ4に取り付けられた第1のカメラ6及び搬送ステージ7上に取り付けられた第2のカメラ12の撮像動作及び撮像された画像の処理を行う。
吐出制御部104は、演算部100からの制御信号に基づいてヘッドモジュール5の各ヘッド51の駆動を制御し、所定の描画データに基づくインク滴下処理を行う。
ここで、各種のメンテナンスユニットMについて説明する。
図5はワイピングユニットm1の平面図を示しており、ワイピングユニットm1は、平面視矩形状の基盤200上に、ヘッドモジュール5の2列のヘッド列に対応する2列に配列されたワイプ材201を備えている。
各ワイプ材201は、ヘッド51のノズル面の幅と同程度の幅を有する長尺なテープ状に形成されており、それぞれローラ202に巻回され、基盤200上の一方端部にヘッド51の列間と同間隔で並設されている。ワイプ材201の先端は基盤200の他方端部に配置された巻き取りローラ203によって巻き取り可能となっている。204は巻き取りローラ203を回転させるモータである。
ローラ202と巻き取りローラ203との間には、各ワイプ材201を表裏から挟む2対の支持ローラ対205、205がそれぞれ配置され、その間のワイプ材201に所定の張力を付与している。2対の支持ローラ対205、205の離間距離は、ヘッドモジュール5に配列された全ヘッド51を含めた副走査方向の幅(記録幅)よりも若干大きく形成されており、この2対の支持ローラ対205、205に挟まれるワイプ材201の表面によって、ヘッドモジュール5の各ヘッド51のノズル面を摺擦するワイプ面を構成している。このワイプ面の裏面側には、各ヘッド51に対応するワイパーヘッド206が配置されており、ワイピング時に、ワイプ材201の裏面を支持し、ワイプ面を各ヘッド51のノズル面に当接させて摺擦効果を補強する。
基盤200の上面の四隅の適正位置には、十字型の位置決めマーカ207が形成されている。
このワイピングユニットm1は、搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13上に設置されて位置決めされ、各ワイプ材201とヘッド51とが当接した後、モータ204の駆動によりワイプ材201を巻き取り軸203に巻き取ることによって、各ヘッド51のノズル面を摺擦し、ノズル面のクリーニングを行う。
各モータ204を駆動させるための電源は、不図示の電源コネクタに接続された電源コードから供給されるようにしてもよいし、図2に示されるように、メンテナンスユニット設置部13上に電源供給用の電極13bを設けておき、ワイピングユニットm1が設置された際に該ワイピングユニットm1に設けた電極(図示せず)と導通させることで描画装置本体側から供給されるようにしてもよい。
図6はサッキングユニットm2の平面図を示しており、サッキングユニットm2は、平面視矩形状の基盤300上に、ヘッドモジュール5の各ヘッド51に対応する数及び配置のサッキング用キャップ301を備えている。各サッキング用キャップ301にはサッキングパイプ302の一端が接続されている。サッキングパイプ302の他端は不図示の吸引ポンプと繋がり、該吸引ポンプの駆動によって各サッキング用キャップ301内の空気を吸引するようになっている。
また、基盤300の上面の四隅の適正位置には、十字型の位置決めマーカ303が形成されている。
このサッキングユニットm2は、搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13上に設置されて位置決めされ、各サッキング用キャップ301と各ヘッド51とが当接して密着した後、吸引ポンプの駆動により各サッキング用キャップ301内を負圧状態にすることによって、各ヘッド51のノズル51aから強制的にインクを吸引し、インク詰まりの解消や気泡の排出を行う。また、密着の後、吸引ポンプを駆動させずにおくことで、各ヘッド51のノズル面を密封し、ノズル51aの乾燥を防止するように機能させることもできる。
図7はフラッシングトレイm3の平面図を示しており、フラッシングトレイm3は、平面視矩形状の基盤400上に、ヘッドモジュール5の全ヘッド51を囲むことができる程度の大きさの受け皿401を有している。
また、基盤400の上面の四隅の適正位置には、十字型の位置決めマーカ402が形成されている。
このフラッシングトレイm3は、搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13上に設置されて位置決めされ、ヘッドモジュール5の下方に配置された後、ノズル詰まりの解消、各ノズル51aの均質化等の目的で各ノズル51aから強制吐出された液滴を受け皿401内に受け入れる。
これら各種のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)は、メンテナンスユニット配置台15上に配置されている。それらの位置は厳密には規定されていないため、メンテナンスユニット設置機構14は、アームを駆動させ、所望のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)を掴んだ後、ヘッドモジュール5の各ヘッド51に対して正確に位置決めする必要がある。
次に、かかるインクジェット描画装置1Aによるメンテナンス動作について、図8〜図10に示すフローチャート、図11〜図15に示すインクジェット描画装置1Aの動作を示す平面図を用いて説明する。なお、以下に説明するメンテナンス動作は、演算部100内の所定の記録領域又は不図示の記憶装置に予め記憶された所定のプログラムに従って演算部100の制御によって実行される。
所定のメンテナンス時期が来ると、予め決められた又は作業者により指示されたメンテナンス内容が選定される(S1)。ここでは複数種類のメンテナンス動作のうち、ワイピングユニットm1を用いてワイピングを実行するものとする。
メンテナンス内容の選定でワイピングが選択されると、ワイピングを行うためのワイピングユニットm1に関するメンテナンス機器基礎データを読み出し(S2)、そのメンテナンス機器基礎データ中の位置座標データに基づいてメンテナンスユニット設置機構14を駆動させ、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のうちからワイピングユニットm1を先端のハンド部14aで掴んで保持し、搬送ステージ7上まで運び、メンテナンスユニット設置部13上に設置する。このとき、メンテナンスユニットMはヘッドモジュール5に対してある程度の位置決めがなされた状態で設置される(S3、図11)。設置後、ワイピングユニットm1は保持機構13aによってメンテナンスユニット設置部13上に保持される。
なお、このとき、搬送ステージ7は、メンテナンスユニット設置部13がZステージ4の下方から十分に退避するように所定位置(設置待機位置)まで移動して静止している。この設置待機位置は予め決められており、その位置座標は上記ステップS2において読み出されたメンテナンス機器基礎データ中に含まれている。
ワイピングユニットm1がメンテナンスユニット設置部13上に設置、保持されたら、搬送ステージ7をX、Y方向に移動させ、Zステージ4に取り付けられた第1のカメラ6によって、ワイピングユニットm1上のいずれかの位置決めマーカ207を画像認識して確認する(S4、図12)。この確認動作は位置決めマーカ207の個数分繰り返し、各位置決めマーカ207の位置座標を取得する。各位置決めマーカ207の位置座標が取得されたら、各位置座標からワイピングユニットm1の姿勢を計算する。
図9は姿勢計算のフローであり、まず、4点の位置決めマーカ207の位置座標(X,Y)をそれぞれ求め、マーカデータ1〜4として記憶しておく(S20)。
次いで、ある一つの位置決めマーカ207(これをP1とする。)の位置座標(Xp1,Yp1)から見て、|Xp1−Xpn|(nは2、3又は4)が最も小さくなる他の位置決めマーカ207の点P2の位置座標を(Xp2,Yp2)とし、他の位置座標P3、P4をそれぞれ(Xp3,Yp3)、(Xp4,Yp4)とする(S21)。
そして、描画台11の中心にあるθ軸の回転中心の座標(Xθ,Yθ)を中心に4つの位置決めマーカ207の位置座標P1〜P4を回転し、{(Xp1−Xp2)2+(Xp3−Xp4)2}を最小にする角度θpを求め、これを記憶しておく(S22)。
次いで、4点の位置決めマーカ207の位置座標P1〜P4について、角度θp回転後の4点の位置座標Pr1〜Pr4を計算し(S23)、その4点の位置座標Pr1〜Pr4の平均値Praveを求め、これを記憶しておく(S24)。
図8のフローに戻り、上記により求められたワイピングユニットm1の姿勢データは、メンテナンスユニット設置部13上のワイピングユニットm1の現在の姿勢データ(θm、Mrave)として記憶される(S5)。
一方、搬送ステージ7をX、Y方向に移動させることにより、搬送ステージ7上に取り付けられている第2のカメラ12をヘッドモジュール5の下方まで移動させ(S6)、第2のカメラ12によって、ヘッドモジュール5の下面に形成されているいずれかの位置確認用マーカ52を画像認識して確認する(S7、図13)。この確認動作は位置確認用マーカ52の個数分繰り返される。確認された各位置確認用マーカ52の位置座標はヘッドマーカデータとされ、図9のフローに従って上記同様にして姿勢データ(θh、Hrave)が計算され、記憶される(S8)。
なお、上記ステップS3〜S5の処理と上記ステップS6〜S8の処理は、いずれが先でもよい。また、メンテナンス動作の最初の処理として上記ステップS6〜S8の処理を実行し、ヘッドモジュール5の姿勢データを取得しておくようにしてもよい。
上記ステップS3〜S5の処理と上記ステップS6〜S8の処理の双方が完了したら、記憶されたワイピングユニットm1の姿勢データとヘッドモジュール5の姿勢データを読み出し、それらの情報から、ヘッドモジュール5とワイピングユニットm1とがコンタクトする姿勢(ヘッドモジュール5の各ヘッド51とワイピングユニットm1の各ワイプ材201とが適正に接触する姿勢)を計算する(S9)。
すなわち、ワイピングユニットm1はメンテナンスユニット設置部13上まで搬送されて単に設置されただけであるため、ヘッドモジュール5の各ヘッド51に対する正確な位置決めがなされていない。従って、ワイピングユニットm1によって各ヘッド51を適正にワイピングするために両者の姿勢を合致させる必要がある。両者の姿勢を合致させるには、ヘッドモジュール5とワイピングユニットm1とを相対的に移動させればよいが、ここではワイピングユニットm1側のみをX、Y方向及びθ方向に移動させることによってヘッドモジュール5の姿勢に合致させるようにしている。
図10はその移動ための補正調整量を計算するフローであり、まず、記憶しておいたワイピングユニットm1の姿勢データ(θm、Mrave)、ヘッドモジュール5の姿勢データ(θh、Hrave)及びメンテナンス機器基礎データDmを呼び出す(S30)。このメンテナンス機器基礎データDmには、ヘッドモジュール5とワイピングユニットm1とのコンタクト位置関係の情報が含まれている。
次いで、これらのデータに基づいて、ワイピングユニットm1をヘッドモジュール5の姿勢に合致させるための角度補正調整量θadj(=θh−θm)を計算し、その結果を記憶しておく(S31)。
更に、上記姿勢データ及びメンテナンス機器基礎データDmに基づいて、ワイピングユニットm1をヘッドモジュール5の姿勢に合致させるためのXY補正調整量Adj(Xadj、Yadj)(=Hrave−Mrave+Dm)を計算し、その結果を記憶しておく(S32)。
そして、図8のフローに戻り、上記ステップS31、S32で得られた補正調整量データに基づいて、搬送ステージ7をX、Y方向及びθ方向に移動させ、メンテナンスユニットm1の位置を微調整する(S10)。これにより、搬送ステージ7上のワイピングユニットm1の姿勢はヘッドモジュール5の姿勢と合致する(図14)。
その後、ワイピングユニットm1がヘッドモジュール5の直下の位置となるように搬送ステージ7を移動させ、Zステージ4を降下させてヘッドモジュール5をワイピングユニットm1と接触させてヘッドメンテナンスを行う(S11、図15)。
このように、本発明に係るインクジェット描画装置1Aは、搬送ステージ7上に、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のうちの1種類のみを設置するスペースを設けるだけで済むため、搬送ステージ7を長尺化及び大型化する必要なく、また、メンテナンスユニットMを搬送ステージ7上に設置するための機構(メンテナンスユニット設置機構14)を搬送ステージ7と同一の定盤2に設置しないため、メンテナンスユニットMの設置動作に伴う振動によるヘッド51の位置ずれの発生を抑制でき、高精度なメンテナンスを行うことが可能となる。
<第2の実施形態>
図16は本発明に係るインクジェット描画装置の第2の実施形態を示す側面図、図17はその平面図である。第1実施形態に係るインクジェット描画装置1Aと同一符号の部位は同一構成の部位であるため詳細な説明は省略する。
図16は本発明に係るインクジェット描画装置の第2の実施形態を示す側面図、図17はその平面図である。第1実施形態に係るインクジェット描画装置1Aと同一符号の部位は同一構成の部位であるため詳細な説明は省略する。
このインクジェット描画装置1Bは、搬送ステージ7上に第1の実施形態が有していたメンテナンスユニット設置部と第2のカメラとが形成されていない。複数種類のメンテナンスユニットMは、定盤2の側方に配置されたメンテナンスユニット搬送機構18に設置されている。このため、搬送ステージ7上には描画台11のみが設けられている。
このメンテナンスユニット搬送機構18は、第1の実施形態におけるメンテナンスユニット設置機構14と同様の多関節構造のロボットアームからなり、定盤2の側方に配置され、定盤2には設けられていない。従って、移動に伴う振動が定盤2上のヘッドモジュール5に影響を与えることはなく、定盤2にメンテナンスユニット搬送機構18の設置スペースも必要としない。メンテナンスユニット搬送機構18は、第1の実施形態と同様に定盤2の側方であって装置基台16上に設置されていてもよい。
メンテナンスユニット搬送機構18の先端には、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)の全てを設置した回転テーブル18aが設けられている。回転テーブル18aは、アームの先端において水平なθ方向に回転可能であり、その上面の予め決められた所定位置に、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)とヘッドモジュール5を下面側から上方に向けて画像認識するための第2のカメラ12とがそれぞれ取り付け固定されている。
この回転テーブル18aは、メンテナンスユニット搬送機構18の各関節を駆動することにより、ヘッドモジュール5の直下を含む所定領域を水平方向及び垂直方向に移動可能であり、回転することにより、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のいずれか1種類をヘッドモジュール5の直下に位置決めすることができ、位置決めの後、アームを上昇させることで、各ヘッド51と当接させることもできる。従って、本実施形態では、このメンテナンスユニット搬送機構18により本発明におけるメンテナンスユニット搬送手段が構成される。
かかるメンテナンスユニット搬送機構18の各移動動作に伴う位置情報は、それぞれ不図示のエンコーダによって高精度に検出される。
この第2の実施形態に係るインクジェット描画装置1Bにおいても、第1の実施形態と同様、メンテナンス動作時に複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のうちから任意の1種類のメンテナンスユニットMを選定し、回転テーブル18aを回転させて、選定されたメンテナンスユニットMをヘッドモジュール5の下方において該ヘッドモジュール5の姿勢に合致するように位置決めすることによって行われる。
この位置決め動作は、本実施形態においても図8〜図10に準じて行うことができるが、本実施形態では、第2のカメラ12は回転テーブル18a上に設置されているため、描画台11が退避したヘッドモジュール5の下方に第2のカメラ12を挿入することで、ヘッドモジュール5の位置を確認することになる(図18)。このとき、Zステージ4は上昇移動することにより下方に大きな挿入空間を形成している。
その後、例えばフラッシングトレイm3が選定されると、回転テーブル18aが回転し、フラッシングトレイm3をZステージ4に設けられた第1のカメラ6の下方まで搬送させ、該第1のカメラ6によって位置確認を行う(図19)。このとき第1のカメラ6は下降してフラッシングトレイm3上の位置決めマーカ402を画像認識する。その後、フラッシングトレイm3がヘッドモジュール5の姿勢に合致するように回転テーブル18aを回転させ、フラッシングトレイm3を該ヘッドモジュール5の下方に位置決めする(図20)。
本実施形態において、描画台11を有する搬送ステージ7は、定盤2上のY方向においてY移動機構9によって、該描画台11がヘッドモジュール5の下方から十分に退避した位置(メンテナンス位置)まで移動可能とされており、ヘッドモジュール5の下方にメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)及び第2のカメラ12が設置された回転テーブル18aを挿入可能なスペースを確保している。描画台11は搬送ステージ7の表面から突出して高く形成されているため、回転テーブル18aをヘッドモジュール5の下方に挿入するために該ヘッドモジュール5を上昇移動させるための移動距離を短くすることができる。
この第2の実施形態に係るインクジェット描画装置1Bによっても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができることに加え、複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)を配置するための配置台を別途設ける必要がないため、装置全体の据え付けスペースをコンパクトにすることができる。
<メンテナンスユニット選択設置手段の他の態様>
第1の実施形態において説明したメンテナンスユニット選択設置手段の一例であるメンテナンスユニット設置機構14は、多関節構造のロボットアームからなる構成とする他、以下の構成とすることもできる。
第1の実施形態において説明したメンテナンスユニット選択設置手段の一例であるメンテナンスユニット設置機構14は、多関節構造のロボットアームからなる構成とする他、以下の構成とすることもできる。
図21は、メンテナンスユニット選択設置手段の他の態様を備えたインクジェット描画装置の側面図、図22はその平面図である。図1、図2と同一符号の部位は同一構成の部位であるため詳細な説明は省略する。
このインクジェット描画装置1Cには、定盤2の図中Y方向に沿う端部側に、図中X方向に沿って、搬送ステージ7及び定盤2を跨ぐようにガントリ20が架設されている。従って、ガントリ20は定盤2上には設けられておらず、ここでは装置基台16上に設けられている。ガントリ20には、メンテナンスユニットMを搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13に設置するためのメンテナンスユニット設置機構19が図中のX方向に沿ってスライド移動可能且つZ方向に沿って昇降移動可能に取り付けられている。
また、定盤2の側方には、装置基台16上にメンテナンスユニット配置台21が配置されており、その上面には複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)が、ガントリ20と同じく図中X方向に沿って、選択使用可能に配置されている。
このメンテナンスユニット設置機構19は、下端にメンテナンスユニットMをつかんで保持するためのハンド部19aを有しており、このハンド部19aによって、メンテナンスユニット配置台21に配置された複数種類のメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)のうちからいずれか1つのメンテナンスユニットM(m1、m2、m3)を選択して掴んで保持し、ガントリ20に沿ってスライド移動することによって、ガントリ20の下方(設置待機位置)まで移動してきた搬送ステージ7上のメンテナンスユニット設置部13上に設置することができるように構成されている。従って、このガントリ20に設けられたメンテナンスユニット設置機構19によって本発明におけるメンテナンスユニット選択設置手段が構成される。
このインクジェット描画装置1Cによっても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
1A、1B、1C インクジェット描画装置
2 定盤
3 ガントリ
4 Zステージ
5 ヘッドモジュール
51 ヘッド
51a ノズル
52 位置確認用マーカ
6 第1のカメラ
6a レンズ面
7 搬送ステージ
8 θ回転機構
9 Y移動機構
10 X移動機構
11 描画台
12 第2のカメラ
12a レンズ面
13 メンテナンスユニット設置部
13a 保持機構
13b 電極
14、19 メンテナンスユニット設置機構
14a、19a ハンド部
15、21 メンテナンスユニット配置台
16 装置基台
17 除振機構
18 メンテナンスユニット搬送機構
18a 回転テーブル
20 ガントリ
M メンテナンスユニット
m1 ワイピングユニット
m2 サッキングユニット
m3 フラッシングトレイ
2 定盤
3 ガントリ
4 Zステージ
5 ヘッドモジュール
51 ヘッド
51a ノズル
52 位置確認用マーカ
6 第1のカメラ
6a レンズ面
7 搬送ステージ
8 θ回転機構
9 Y移動機構
10 X移動機構
11 描画台
12 第2のカメラ
12a レンズ面
13 メンテナンスユニット設置部
13a 保持機構
13b 電極
14、19 メンテナンスユニット設置機構
14a、19a ハンド部
15、21 メンテナンスユニット配置台
16 装置基台
17 除振機構
18 メンテナンスユニット搬送機構
18a 回転テーブル
20 ガントリ
M メンテナンスユニット
m1 ワイピングユニット
m2 サッキングユニット
m3 フラッシングトレイ
1.液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドを保持し、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュールと、上面に被記録材を支持し、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能に構成された描画台とを有し、前記液滴吐出ヘッドから前記被記録材に向けて液滴を吐出することによって所定の描画を行うインクジェット描画装置であって、
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段と、
前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを選択し、該選択されたメンテナンスユニットを前記メンテナンスユニット搬送手段に設置するメンテナンスユニット選択設置手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット描画装置。
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段と、
前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを選択し、該選択されたメンテナンスユニットを前記メンテナンスユニット搬送手段に設置するメンテナンスユニット選択設置手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット描画装置。
2.前記ヘッドモジュールと前記メンテナンスユニット搬送手段によって搬送されるメンテナンスユニットとの相対位置を計測する相対位置計測手段を備え、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする前記1記載のインクジェット描画装置。
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする前記1記載のインクジェット描画装置。
3.前記複数種類のメンテナンスユニットを上面に配置したメンテナンスユニット配置台を有することを特徴とする前記1または2に記載のインクジェット描画装置。
Claims (13)
- 液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドを保持し、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュールと、上面に被記録材を支持し、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能に構成された描画台とを有し、前記液滴吐出ヘッドから前記被記録材に向けて液滴を吐出することによって所定の描画を行うインクジェット描画装置であって、
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段と、
前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うための複数種類のメンテナンスユニットのうちからいずれか1つのメンテナンスユニットを選択し、該選択されたメンテナンスユニットを前記メンテナンスユニット搬送手段に設置するメンテナンスユニット選択設置手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット描画装置。 - 前記ヘッドモジュールと前記メンテナンスユニット搬送手段によって搬送されるメンテナンスユニットとの相対位置を計測する相対位置計測手段を備え、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項1記載のインクジェット描画装置。 - 前記メンテナンスユニット選択設置手段は、先端に1つのメンテナンスユニットを保持可能なロボットアームにより構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェット描画装置。
- 前記メンテナンスユニット選択設置手段は、前記メンテナンスユニット搬送手段を跨ぐように設けられたガントリに沿ってスライド移動可能且つ昇降移動可能に設けられ、下端に1つのメンテナンスユニットを保持可能なハンド部を有していることを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェット描画装置。
- 前記複数種類のメンテナンスユニットを上面に配置したメンテナンスユニット配置台を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
- 前記ヘッドモジュールと前記描画台は、共通の定盤上に設置されており、前記メンテナンスユニット選択設置手段は、前記定盤上には設置されていないことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
- 前記描画台と前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能で、且つ、前記描画台の上面に対して垂直方向に沿う方向を軸として回転移動可能に構成された共通のステージ上に設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
- 前記描画台は、前記メンテナンスユニットによるメンテナンス時に、該メンテナンスユニットと干渉しない位置まで退避し、前記ヘッドモジュールの下方に前記メンテナンスユニットの挿入スペースを確保するように構成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
- 液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出ヘッドを保持し、水平方向の移動が不可能に構成されたヘッドモジュールと、上面に被記録材を支持し、前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向に移動可能に構成された描画台とを有し、前記液滴吐出ヘッドから前記被記録材に向けて液滴を吐出することによって所定の描画を行うインクジェット描画装置であって、
前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を移動可能に構成され、前記液滴吐出ヘッドのメンテナンスを行うためのメンテナンスユニットを前記ヘッドモジュールの直下まで搬送して前記液滴吐出ヘッドに対して位置決めを行うメンテナンスユニット搬送手段を有し、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、先端にメンテナンスユニットが設置されると共に該先端が前記ヘッドモジュールの直下を含む所定領域を水平方向及び垂直方向に移動可能なロボットアームにより構成されていることを特徴とするインクジェット描画装置。 - 前記ヘッドモジュールと前記メンテナンスユニット搬送手段によって搬送されるメンテナンスユニットとの相対位置を計測する相対位置計測手段を備え、
前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記相対位置計測手段によって計測された計測値に応じて前記メンテナンスユニットの位置を微調整することを特徴とする請求項9記載のインクジェット描画装置。 - 前記メンテナンスユニット搬送手段は、先端に複数種類のメンテナンスユニットを設置した回転テーブルを有していることを特徴とする請求項9又は10記載のインクジェット描画装置。
- 前記ヘッドモジュールと前記描画台は、共通の定盤上に設置されており、前記メンテナンスユニット搬送手段は、前記定盤上には設置されていないことを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
- 前記描画台は、前記メンテナンスユニットによるメンテナンス時に、該メンテナンスユニットと干渉しない位置まで退避し、前記ヘッドモジュールの下方に前記メンテナンスユニットの挿入スペースを確保するように構成されていることを特徴とする請求項9〜12のいずれかに記載のインクジェット描画装置。
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