JP2014175578A - 半導体素子搭載用リードフレーム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】銅板1の表面の所望位置に所望形状の端子8を形成するためハーフエッチング法により凹み2を形成する工程と、該凹み2内に所定の厚さの貴金属めっき層4を形成する工程cと、前記凹み2内の前記めっき層4より大き目に前記銅板1の表面側を覆うと共に前記銅板1の裏面全体を覆うレジストマスク5を形成してハーフエッチングを行うことにより前記銅板の表面側に前記めっき層4を含む突出部を形成する工程dと、前記めっき層4を除いて前記レジストマスク5を除去する工程と、プレス加工により前記めっき層4を含む前記突出部を有する銅板1を圧縮加工する工程とにより、半導体素子載置部11と、めっき層4を含む最上面部よりその下部の径が小さく断面形状にくびれがあるような形状の端子部8を形成する。
【選択図】図4
Description
AB、半田ボールを使用したBGA、あるいは半導体チップの下側にアウターリードを配
置したCSP等さまざまなパッケージが考案されている。
その中でも、比較的安価で、チップサイズに近い搭載面積で対応できる方法として金属材料を利用したQFNタイプがある。
先ず、工程a)において銅板1を準備し、次に工程b)においてハーフエッチングにより銅板1に凹み2の形成し、次に工程c)において銅板1の表裏面にめっき用ジレストマスク3を形成し、露光・現像を行って、表面側凹み2内にめっき層4を形成し、同時に裏面上にもめっき層4を形成する。次に工程d)において表面側にめっき層4を覆うめっき層4より大き目なエッチング用レジストマスク5を、裏面側に全面を覆うエッチング用レジストマスクを形成する。そして、工程e)においてハーフエッチングを行い、両面のエッチング用レジストマスクを除去することにより、端子の上端面6が形成される。
銅板1として、厚さ0.125mmの銅材を使用した。ここでは、古河電工製EFTEC64−Tを用い、両面にドライフィルムレジストをラミネートした。
2・・銅板上に掲載された凹み(ディンプル)
3・・メッキ用レジストマスク
4・・めっき層
5・・エッチング用レジストマスク
6・・エッチングで形成された端子の上端面
7・・プレス金型(平面)
8・・プレスで成形した端子
9・・半導体素子
10・ボンディングワイヤー
11・半導体素子の載置部
12・樹脂
Claims (2)
- 半導体素子載置部と、めっき層を含む最上面部よりその下部の径が小さく断面形状にくびれがあるような形状の端子部と、を有することを特徴とする半導体素子搭載用リードフレーム。
- 厚さ0.1〜0.2mmの銅板の表面の所望位置に所望形状の端子を形成するためハーフエッチング法により深さ10μm〜20μm程度の凹みを形成する工程と、該凹み内に所定の厚さの貴金属めっき層を形成する工程と、前記凹み内の前記めっき層より大き目に前記銅板の表面側を覆うと共に前記銅板の裏面全体を覆うレジストマスクを形成してハーフエッチングを行うことにより前記銅板の表面側に前記めっき層を含む突出部を形成する工程と、前記めっき層を除いて前記レジストマスクを除去する工程と、プレス加工により前記めっき層を含む前記突出部を有する銅板を圧縮加工する工程とを含むことを特徴とする半導体素子搭載用リードフレームの製造方法。
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