JP2014167616A - 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 - Google Patents
近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014167616A JP2014167616A JP2014008826A JP2014008826A JP2014167616A JP 2014167616 A JP2014167616 A JP 2014167616A JP 2014008826 A JP2014008826 A JP 2014008826A JP 2014008826 A JP2014008826 A JP 2014008826A JP 2014167616 A JP2014167616 A JP 2014167616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fly
- exposure
- eye lens
- mask
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【解決手段】基板WとマスクMとを近接させた状態で、照明光学系70からの光を、マスクMを介して基板Wに照射して、基板Wへ露光された露光面AにマスクMのパターンを転写する近接露光装置PEであって、集光鏡72の位置を調整し、光をフライアイレンズ74に集光させることによって、露光面Aにて所定の照度が得られることを特徴とする。
【選択図】図4
Description
また、特許文献2に記載の光源装置においては、2以上の結像光学系と、該結像光学系の像点の位置に設けられ、複数のセグメントに分割された入射面を有する光電変換素子と、各々のセグメントからの電気信号を比較する比較手段を備え、放電灯のアークの位置が集光鏡の焦点に対してどの位置にあるかを表示する。そして、表示した結果に基づいて、手動にて放電灯の輝点の位置を調整することができる。
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するように、マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系と、
を備え、
前記基板と前記マスクとを近接させた状態で、前記照明光学系からの露光用の光を、前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする近接露光装置。
(2) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡の位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記フライアイレンズの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(4) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記ランプの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(5) 基板とマスクとを近接させた状態で、露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを転写する近接露光装置に使用され、前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする照明光学系。
(6) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡の位置を調整することによって、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(5)に記載の照明光学系。
(7) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記フライアイレンズの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(5)に記載の照明光学系。
(8) 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡と、前記ランプと、前記フライアイレンズと、のうち少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする(5)に記載の照明光学系。
(9) 基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するように、マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系と、
を備え、
前記基板と前記マスクとを近接させた状態で、前記照明光学系からの露光用の光を、前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光方法であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする近接露光方法。
図1及び図2に示すように、第1実施形態の近接露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、ガラス基板(以下、単に「基板W」とも称する。)Wを保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光を照射する照明光学系70(図4参照)と、を備えている。
従って、入射される露光用の光をフライアイレンズ74に集光させることで、所定の照度(即ち、実施形態では、最大の照度)を持った光が露光すべき対象となる基板Wの露光面Aに転写される。
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置について、図8を参照して説明する。なお、本実施形態では、照明光学系70において、露光用の光をフライアイレンズ74に集光させるために、フライアイレンズ74の位置を調整する点で、第1実施形態の近接露光装置と異なる。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
次に、本発明の第3実施形態に係る近接露光装置について、図9を参照して説明する。なお、本実施形態では、照明光学系70において、露光用の光をフライアイレンズ74に集光させるために、ランプ71の位置を調整する点で、第1及び第2実施形態の近接露光装置と異なる。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
次に、本発明の第4実施形態に係る近接露光装置について、図10を参照して説明する。本実施形態は、ランプ71と、集光鏡72と、フライアイレンズ74のすべての位置を調整可能に構成されている。そして、フライアイレンズ74のサイズを交換した際、露光面Aに設置している不図示センサにより、露光用の光の照度を測定し、平面鏡75から入射された露光用の光(点線)がフライアイレンズ74に集光しない場合には、このセンサが所定の照度を検出するまで、露光用の光(一点鎖線)がフライアイレンズ74に集光するように、不図示の制御部によって、ランプ71と、集光鏡72と、フライアイレンズ74との位置を調整する。即ち、光源部73から照射された光の焦点が、フライアイレンズ74の各レンズの入射面に位置するように、ランプ71と、集光鏡72と、フライアイレンズ74との位置を調整する。これにより、フライアイレンズ74はスライドして交換されても、基板WとマスクMとを所定のギャップに近接させた状態で、照明光学系70からの露光用の光が、露光面Aにおいて所定の照度を得ることができる。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
例えば、本発明では、使用されるフライアイレンズ74a、74b、74cに応じて照明光学系70を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、露光用の光をフライアイレンズ74に集光させることによって、露光面Aにて所定の照度が得られるように設定すればよい。
21 基板保持部
70 照明光学系
71 ランプ
72 集光鏡
73 光源部
74 フライアイレンズ
g マスクと基板との対向面間のギャップ
M マスク
PE 近接露光装置
W ガラス基板(基板)
A 露光面
Claims (9)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するように、マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系と、
を備え、
前記基板と前記マスクとを近接させた状態で、前記照明光学系からの露光用の光を、前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする近接露光装置。 - 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡の位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 使用される前記フライアイレンズに応じて前記フライアイレンズの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 使用される前記フライアイレンズに応じて前記ランプの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。
- 基板とマスクとを近接させた状態で、露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを転写する近接露光装置に使用され、前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする照明光学系。 - 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡の位置を調整することによって、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 使用される前記フライアイレンズに応じて前記フライアイレンズの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 使用される前記フライアイレンズに応じて前記集光鏡と、前記ランプと、前記フライアイレンズと、のうち少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するように、マスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクに向けてパターン露光用の光を照射する照明光学系と、
を備え、
前記基板と前記マスクとを近接させた状態で、前記照明光学系からの露光用の光を、前記マスクを介して前記基板に照射して、前記基板の露光面に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光方法であって、
前記照明光学系を構成する部品として、集光鏡と、ランプと、交換可能な複数のフライアイレンズと、を有し、
使用される前記フライアイレンズに応じて前記照明光学系を構成する部品の少なくとも一つの位置を調整し、前記露光用の光を前記フライアイレンズに集光させることによって、前記露光面にて所定の照度が得られることを特徴とする近接露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014008826A JP6356971B2 (ja) | 2013-01-30 | 2014-01-21 | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013014955 | 2013-01-30 | ||
JP2013014955 | 2013-01-30 | ||
JP2014008826A JP6356971B2 (ja) | 2013-01-30 | 2014-01-21 | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014167616A true JP2014167616A (ja) | 2014-09-11 |
JP6356971B2 JP6356971B2 (ja) | 2018-07-11 |
Family
ID=51617313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014008826A Expired - Fee Related JP6356971B2 (ja) | 2013-01-30 | 2014-01-21 | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6356971B2 (ja) |
KR (1) | KR101578385B1 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04256944A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-11 | Hitachi Ltd | 照明装置及び投影露光装置 |
JPH05217855A (ja) * | 1992-02-01 | 1993-08-27 | Nikon Corp | 露光用照明装置 |
JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
JP2008129047A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Nsk Ltd | 近接露光装置および近接露光方法 |
WO2008120785A1 (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Nsk Ltd. | 露光装置及び露光方法 |
JP2008256810A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Nsk Ltd | 露光方法及び露光装置 |
JP2009157325A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-16 | V Technology Co Ltd | 露光照明装置及び露光パターンの位置ずれ調整方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101050285B1 (ko) | 2004-01-29 | 2011-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 노광장치의 빔 얼라인먼트 조정시스템 |
JP2006019510A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Nikon Corp | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP2011242563A (ja) | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光装置のランプ位置調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
-
2014
- 2014-01-21 JP JP2014008826A patent/JP6356971B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-01-29 KR KR1020140011098A patent/KR101578385B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04256944A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-11 | Hitachi Ltd | 照明装置及び投影露光装置 |
JPH05217855A (ja) * | 1992-02-01 | 1993-08-27 | Nikon Corp | 露光用照明装置 |
JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
JP2008129047A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Nsk Ltd | 近接露光装置および近接露光方法 |
WO2008120785A1 (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Nsk Ltd. | 露光装置及び露光方法 |
JP2008256810A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Nsk Ltd | 露光方法及び露光装置 |
JP2009157325A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-16 | V Technology Co Ltd | 露光照明装置及び露光パターンの位置ずれ調整方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6356971B2 (ja) | 2018-07-11 |
KR101578385B1 (ko) | 2015-12-17 |
KR20140098011A (ko) | 2014-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6663914B2 (ja) | 露光用照明装置、露光装置及び露光方法 | |
JP2008015314A (ja) | 露光装置 | |
JPWO2019155886A1 (ja) | 近接露光装置、近接露光方法、及び近接露光装置用光照射装置 | |
WO2021251090A1 (ja) | 露光用の光源装置、照明装置、露光装置、及び露光方法 | |
JP2007184328A (ja) | 露光装置 | |
JP2012049326A (ja) | マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法 | |
KR100824022B1 (ko) | 투영 노광장치 및 투영 노광방법 | |
KR20100093486A (ko) | 측정 장치 및 측정 장치 내에 광학 모듈을 배열하는 방법 | |
KR20210070909A (ko) | 레이저 빔 조정 기구 및 레이저 가공 장치 | |
JP6356971B2 (ja) | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 | |
JP5935294B2 (ja) | 近接露光装置及び近接露光方法 | |
KR20150118017A (ko) | 노광 장치 및 그 고정 방법 | |
JP2009169255A (ja) | 露光装置及び基板の製造方法ならびにマスク | |
JP2013229536A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2008224754A (ja) | 分割逐次近接露光方法及び分割逐次近接露光装置 | |
JP2007248636A (ja) | 位置測定装置のミラー固定構造 | |
JP2008209631A (ja) | 露光装置及びそのマスク装着方法 | |
JP2008020844A (ja) | 近接露光装置 | |
JP2008209632A (ja) | マスク装着方法及び露光装置ユニット | |
JP5084230B2 (ja) | 近接露光装置および近接露光方法 | |
JP2009160610A (ja) | レーザリペア装置 | |
JP2006093604A (ja) | 近接露光装置 | |
JP2013205613A (ja) | 近接露光装置 | |
WO2018003418A1 (ja) | 照度調整フィルタの製造方法、照度調整フィルタ、照明光学系、及び露光装置 | |
JP4487688B2 (ja) | ステップ式近接露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150126 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20150731 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161025 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170815 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180420 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180615 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6356971 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |