JP2014164027A - 露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】結像光学系の収差を補正するマイクロレンズアレイを備えた露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置を提供する。
【解決手段】光源からの光Bを変調する画素部74が配列された空間光変調素子34と、前記空間光変調素子34で変調された光を集光するマイクロレンズ64aが平面上に配列されたマイクロレンズアレイ64と、前記空間光変調素子34により変調された光Bを前記マイクロレンズアレイ64に結像する第1の結像光学系52と、前記マイクロレンズアレイ64で集光された光Bを感光材料P上に結像する第2の結像光学系58と、を備え、前記マイクロレンズアレイ64は、前記第2の結像光学系58の光軸58cからの距離に応じて、形状が異なる複数種類のマイクロレンズ64aが配列された露光光学系100。
【選択図】図7
【解決手段】光源からの光Bを変調する画素部74が配列された空間光変調素子34と、前記空間光変調素子34で変調された光を集光するマイクロレンズ64aが平面上に配列されたマイクロレンズアレイ64と、前記空間光変調素子34により変調された光Bを前記マイクロレンズアレイ64に結像する第1の結像光学系52と、前記マイクロレンズアレイ64で集光された光Bを感光材料P上に結像する第2の結像光学系58と、を備え、前記マイクロレンズアレイ64は、前記第2の結像光学系58の光軸58cからの距離に応じて、形状が異なる複数種類のマイクロレンズ64aが配列された露光光学系100。
【選択図】図7
Description
本発明は露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置に関する。
露光ヘッドを備え、その露光ヘッドにより所望のパターンを感光材料上に露光する画像露光装置が知られている。この種の画像露光装置の露光ヘッドは、基本的に光源と、その光源から照射された光を制御信号に応じて各々独立に変調する多数の画素部が配列されてなる空間光変調素子と、その空間光変調素子により変調された光による像を感光材料上に結像する結像光学系と、を備えている。
上記の画像露光装置の露光ヘッドの構成例として、光源と多数のマイクロミラーを備えた光変調素子としてのデジタル・マイクロミラー・デバイス(以下「DMD」と呼ぶ) と、その多数のマイクロミラーにより変調された多数の光線束を各々個別に集光する多数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイと、を備えた構成が示されている(例えば、特許文献1参照)。
このようなマイクロレンズアレイを用いた構成によれば、感光材料上に露光される画像のサイズを拡大等しても、空間光変調素子の各画素部からの光線束はマイクロレンズアレイの各マイクロレンズによって集光されるので、感光材料上における露光画像の画素サイズ(=各光線のスポットサイズ) は絞られて小さく保たれ、画像の鮮鋭度を高く保つことができるという利点がある。
特許文献1に示されている露光ヘッドはさらに、上記のマイクロレンズアレイの射出側に結像光学系を備え、感光材料の表面(露光面)に空間光変調素子の各画素部からの光線束をスポットとして結像させている。
しかしながら画像露光装置において、マイクロレンズアレイの射出側に設けられた結像光学系の諸収差が感光面上のスポット形状に影響し、スポットの拡大や変形によりピントを劣化させている要因にもなっている。
上記の特許文献1に記載されている例では、特に画像周辺部において顕著な結像光学系の軸外収差がスポット形状に与える影響を免れることはできない。
本発明は上記事実を考慮し、結像光学系の収差を補正するマイクロレンズアレイを備えた露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置を提供することを課題とする。
請求項1に記載の露光光学系は、光源からの光を変調する画素部が配列された空間光変調素子と、前記空間光変調素子で変調された光を集光するマイクロレンズが平面上に配列されたマイクロレンズアレイと、前記空間光変調素子により変調された光を前記マイクロレンズアレイに結像する第1の結像光学系と、前記マイクロレンズアレイで集光された光を感光材料上に結像する第2の結像光学系と、を備え、前記マイクロレンズアレイは、前記第2の結像光学系の光軸からの距離に応じて、形状が異なる複数種類のマイクロレンズが配列されたことを特徴とする。
上記の発明によれば、露光光学系に存在する収差を、形状の異なるマイクロレンズを配置したマイクロレンズアレイで補正することができる。この構成では何らかの補正光学系を光路中に挿入せず、マイクロレンズ自体の形状を光軸からの距離で変化させて結像光学系の軸外収差を補正しているので、露光光学系全体の性能(明るさ、コントラスト等)を劣化させずに収差を補正することができる。
請求項2に記載の露光光学系は、前記第2の結像光学系での座標を表す極座標をρL2 ,φL2、Zernike 標準関数をZi(ρ, φ)、前記第2の結像光学系の第i項のZernike標準係数をΔiとしたとき、前記第2の結像光学系のとある像位置で式1で示される収差が存在するとき、前記マイクロレンズ表面での座標を表すパラメータをr,φML、前記マイクロレンズの開口部の最大半径をrmax、補正前の前記マイクロレンズの面形状の曲率をc、前記光の波長をλ、前記マイクロレンズアレイの素材の屈折率をn、Zernike 標準関数をZi(r/ rmax, φ)とすると、前記マイクロレンズの一部は前記第2の結像光学系の前記収差を補正する式2、3(後述)で記述される面形状であることを特徴とする。
上記の発明によれば、第2の結像光学系に存在する軸外収差を、第2の結像光学系の光軸からの距離に応じて、形状が異なる複数種類のマイクロレンズを配置したマイクロレンズアレイによって補正することで、補正光学系を用いず簡単な構造で軸外収差補正ができる。
請求項3に記載の露光光学系は、前記マイクロレンズアレイがi≧4を満足するiの一部に関して前記式3を満足し、それ以外のiに関してはΔM(i)=0 を満足することを特徴とする。
上記の発明によれば、非点収差や3次コマ収差などビームの対称性が失われる4次以上の高次収差を特に選択して補正することで、感光材料表面におけるビームスポットの形状を維持することができる。
請求項4に記載の露光ヘッドは、請求項1〜3の何れか1項に記載の露光光学系を含むことを特徴とする。
上記の発明によれば、露光光学系に存在する収差を、形状の異なる複数種類のマイクロレンズを配置することによってマイクロレンズアレイで補正することができる。この構成では何らかの補正光学系を光路中に挿入せず、マイクロレンズ自体の形状を光軸からの距離で変化させて軸外収差を補正しているので、露光光学系の性能を劣化させずに収差を補正することができる。
請求項5に記載の露光装置は、請求項4に記載の露光ヘッドを含むことを特徴とする。
上記の発明によれば、露光光学系に存在する収差を、形状の異なる複数種類のマイクロレンズを配置することによってマイクロレンズアレイで補正することができる。この構成では何らかの補正光学系を光路中に挿入せず、マイクロレンズ自体の形状を光軸からの距離で変化させて軸外収差を補正しているので、露光光学系の性能を劣化させずに収差を補正することができる。
本発明は上記構成としたので、結像光学系の収差を補正するマイクロレンズアレイを備えた露光光学系、露光ヘッドおよび露光装置とすることができる。
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態の一例について説明する。
<全体構成>
図1、2に示すように、本実施形態に係る露光光学系100を含む露光装置10は、シート状の感光材料Pを表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ14を備えている。複数(例えば4本)の脚部16に支持された厚板状の設置台18の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた2本のガイド20が設置されている。移動ステージ14は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド20に沿って往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置10には、副走査手段としての移動ステージ14をガイド20に沿って駆動するステージ駆動装置(図示せず)が設けられている。
設置台18の中央部には、移動ステージ14の移動経路を跨ぐように跨線橋形状のゲート22が設けられている。ゲート22の端部の各々は、設置台18の両側各面に固定されている。このゲート22を挟んで一方の側にはスキャナ24が設けられ、他方の側には感光材料Pの先端および後端を検知する複数(たとえば2個)のセンサ26が設けられている。スキャナ24およびセンサ26はゲート22に各々取り付けられ、移動ステージ14の移動経路の上流に固定配置されている。なお、スキャナ24およびセンサ26は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
スキャナ24は、例としてm行n列の略マトリックス状に配列された複数(図では14個)の露光ヘッド28を備えている。各露光ヘッド28による露光エリア30は、副走査方向を短辺とする矩形状である。従って、移動ステージ14の移動に伴い、感光材料Pには露光ヘッド28毎に帯状の露光済み領域31が形成される。
複数の露光ヘッド28は、例えば波長400nmのレーザ光を射出する図示しない光源(例として半導体レーザ(LD)など)と、光源から射出されたレーザ光を画像データに応じて各画素部毎に変調する空間光変調素子として、例えば図3に示すDMD34とを備えている。このDMD34は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた図示しないコントローラに接続されている。コントローラのデータ処理部では、入力された像データに基づいて各露光ヘッド28毎に、DMD34上の使用領域内の各マイクロミラー74(後述)を駆動制御する制御信号を生成する。またミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド28毎にDMD34の各マイクロミラー74の反射面の角度を制御する。
図5にDMD34以降の光学系を概念図で示す。DMD34の光反射側(出射側、射出側)には、DMD34で反射されたレーザ光Bを、感光材料P上に結像する主光学系が配置されている。この主光学系はDMD34で変調されたビームを拡大する第1の結像光学系52と、感光材料P上にビームを結像させる第2の結像光学系58と、これらの結像光学系の間に挿入されたマイクロレンズアレイ64と、マイクロレンズアレイ64の出射側直近に配された第1の開口アレイ66と、マイクロレンズアレイ64の焦点位置に配された第2の開口アレイ68とから構成されている。
第1の結像光学系52は例えば入射側のレンズ52A、出射側のレンズ52Bからなり、DMD34はレンズ52Aの焦点面上に配置されている。レンズ52Aとレンズ52Bとは焦点面が一致し、さらにレンズ52Bの出射側の焦点面上にマイクロレンズアレイ64が配置されている。第2の結像光学系58もまた例えば入射側のレンズ58A、出射側のレンズ58Bからなり、レンズ58Aとレンズ58Bとは焦点面が一致し、さらに第2の開口アレイ68が配置されたマイクロレンズアレイ64の焦点位置はレンズ58Aの焦点面である。レンズ58Bの出射側の焦点面に感光材料Pが配置されている。
上記第1の結像光学系52は、DMD34による像を拡大してマイクロレンズアレイ64上に結像する。さらに第2の結像光学系58は、マイクロレンズアレイ64を経た像を感光材料P上に結像、投影する。また第1の結像光学系52および第2の結像光学系58は、何れもDMD34からの多数の光線束を互いに略平行な光線束として出射させる。
本実施形態に使用されるDMD34は図3に示すように、SRAMセル(メモリセル)72上に、各々画素( ピクセル)を構成する多数(たとえば1024個×768個)の微小ミラー(マイクロミラー74)が格子状に配列されるミラーデバイスである。各ピクセルにおいて、最上部には支柱に支えられた矩形のマイクロミラー74が設けられており、マイクロミラー74の表面には例えばアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。
DMD34のSRAMセル72にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられた各マイクロミラー74が、対角線を中心としてDMD34が配置された基板側に対して±α度のいずれかに傾けられる。図4(A)は、マイクロミラー74がオン状態である+α°に傾いた状態を示し、図4(B)は、マイクロミラー74がオフ状態である−α °に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じてDMD34の各ピクセルにおけるマイクロミラー74の傾きを、図4に示すように制御することにより、DMD34に入射したレーザ光B はそれぞれのマイクロミラー74の傾き方向へ反射される。
なお図4には、DMD34の一部(1枚のマイクロミラー部分)を拡大し、マイクロミラー74 が+α°または−α°に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー74のオンオフ制御は、DMD34に接続された図示しないコントローラによって行われる。
<マイクロレンズアレイ>
マイクロレンズアレイ64は、DMD34上の各マイクロミラー74に対応する多数のマイクロレンズ64aが、例えば1024個×768個程度の2次元状に配列されている。本実施形態では石英ガラスから形成された平凸レンズを用いている。各マイクロレンズ64aは後述のように第2の結像光学系の収差を補正する面形状とされている。
なお上記の例に限らず、両凸レンズ等を基本形態として用いてもよい。また各マイクロレンズ64aと、それらをアレイ状に連結する連結部分とを、同一の材料により一体成型してマイクロレンズアレイ64としてもよく、あるいはマイクロミラー74の各々に対応させた多数の開口を設けた基盤の、開口の各々に各マイクロレンズ64aを嵌め込んでもよい。さらにレンズパワーを持つ2層のマイクロレンズアレイを重ねてマイクロレンズアレイ64としてもよい。
また各マイクロレンズ64aに対応する多数の開口が設けられた開口アレイ68がマイクロレンズアレイ64の出射側に設けられている。
開口アレイ68はマイクロレンズ64aの出射側面の開口部以外の箇所にクロムマスク(クロムからなる遮光膜)を設けたもの、あるいは透過性/半透過性のコーティングを施してマスクとしたものでもよく、あるいは直接マイクロレンズ64aに接触させず、出射面の近傍に透明なマスク板に遮光膜を設けたものを配置してもよい。
<マイクロレンズの形状と配置>
前述のように、マイクロレンズアレイ64を通過したビーム(レーザ光B)は第2の結像光学系58によって感光材料P上にビームスポットPBとして結像される。このとき、特に第2の結像光学系58に存在する軸外収差によって図12に示されるようにビームスポットPBの形状が歪み、スポット径が拡大して所望の解像力を得られない虞がある。
すなわち図12のように、単純に同一形状の物体164aを光軸58Cからの距離が異なる位置に配列した場合、第2の結像光学系58の収差(軸外収差)が像(=ビームスポットPB)の形状に影響を与え、第2の結像光学系58の光軸58Cから離れると像(ビームスポットPB)の形状が歪む虞がある。これにより結像面にて所望の解像度が得られない可能性がある。
そこで本実施形態では、図5に示すマイクロレンズアレイ64を構成するマイクロレンズ64aの形状を、第2の結像光学系58の光軸58Cからの距離に応じて変化させ、第2の結像光学系58の軸外収差を補正する。これにより、感光材料P上に結像されるビームスポットPBの形状の歪みを防ぎ、ビームスポットPBの拡大を抑えることで画像周辺部の解像力を高める。
具体的には、例えば図6に示すようにマイクロレンズアレイ64を、形状の異なる3種類のマイクロレンズ64a〜64cで構成する。マイクロレンズ64は、第2の結像光学系58の光軸58Cからの距離に応じて3種類のマイクロレンズ64a1〜64a3から選択され、第2の結像光学系58の光軸58Cに対して所定の方向性をもって配置される。すなわち後述するようにマイクロレンズ64a2、3は非球面レンズであり、かつ形状に方向性をもっているため、所定の方向を光軸58に向けて配置する必要がある。
図6の例では、光軸58Cの直近では軸外収差補正のための面形状加工を行っていない(球面の)マイクロレンズ64a1を使用する。次いで光軸58Cからの距離によって軸外収差補正のための面形状を有するマイクロレンズ64a2、64a3を放射状に配してマイクロレンズアレイ64として構成する。
図7(A)に示す光学系において、あるマイクロレンズ64aを通過するビームBが第2の結像光学系58によって感光材料P上にビームスポットPBとして結像されるものとする。このときマイクロレンズ64aは直径rMAXの円形をした平凸レンズとして、図7(B)のように光軸58Cからの距離をξML、これと直交する座標をηMLとしたとき、マイクロレンズ64aの面上での極座標を図7(C)のように中心からの距離r、角度φMLで記述することができる。
同様に第2の結像光学系58において、瞳座標系として(ξL2、ηL2)の座標値における収差を記述する際に図7(D)のように極座標を用いてρL2、φL2で示すことができる。また感光材料P上にビームスポットPBが結像した際、第2の結像光学系58の光軸58Cからの距離をY_end、これと直交する座標をX_endとして同様に記述することができる。
また図11に示すように、マイクロレンズアレイ64を構成するマイクロレンズ64aのそれぞれに対して、座標系 (ξML、 ηML )、それに対応する感光材料P表面での座標系( X_end , Y_end )は一定ではなく変化する。光学系全体をDMD34側から見たとき、第2の結像光学系58の光軸58Cに対して、各々の光学系の対応は、ηML軸およびY_end軸は動径方向(光軸58Cからの接離方向)、ξMLおよびX_endは動径方向と直交する放射方向となる。このため、感光材料Pの特定箇所におけるビームスポットPBについて対応する場合などはマイクロレンズ64a側で相当する位置を考慮する必要がある。
上記の点を踏まえてマイクロレンズ64aの形状について説明する。収差を記述するのに用いられる標準Zernike多項式は、図8(B)のように記述される。
Zernike標準係数とは図8(A)のように種々の収差を各次数ごとに分解して捉えるものであり、例えば第4項はピント位置のずれを表すが、ビームスポットPBの形状に関係するのは第4項(Z4)以上の高次収差である。
第2の結像光学系58の、とある像位置では下記のような関数で示される収差が存在したとする。
(式1)
ΣΔi×λ×Zi(ρL2、φL2)
i
ΣΔi×λ×Zi(ρL2、φL2)
i
ρL2 ,φL2 :第2の結像光学系58の瞳座標を表すパラメータ
Zi(ρ, φ) :Zernike 標準関数
Δi :第2の結像光学系58の収差係数
(第i項のZernike標準係数、単位はλ:光波長)
Zi(ρ, φ) :Zernike 標準関数
Δi :第2の結像光学系58の収差係数
(第i項のZernike標準係数、単位はλ:光波長)
マイクロレンズ64aが平凸レンズであったときは、これを補正するため、対応するマイクロレンズ64aの面形状を変更し、Δi の収差を補正する場合において、必要なマイクロレンズ64aの面形状は通常の球面形状(第1項、マイクロレンズ64a1)に加えて、第2項を追加した式2で記述される面形状とされる。
(式2)
SagZ(r、φ)=(c×r^2)/(1+√(1−c^2×r^2))
+(Δi×λ)/(nー1)×Zi(r/rmax、φML)
SagZ(r、φ)=(c×r^2)/(1+√(1−c^2×r^2))
+(Δi×λ)/(nー1)×Zi(r/rmax、φML)
r、φML :マイクロレンズ64a表面での座標を表すパラメータ
rmax : マイクロレンズ64a開口部の最大半径
c :マイクロレンズ64a補正前の曲率
λ :光波長
n :マイクロレンズアレイ64の素材の屈折率
Zi(r/ rmax、φ) :Zernike 標準関数
rmax : マイクロレンズ64a開口部の最大半径
c :マイクロレンズ64a補正前の曲率
λ :光波長
n :マイクロレンズアレイ64の素材の屈折率
Zi(r/ rmax、φ) :Zernike 標準関数
ここでマイクロレンズアレイ64を構成する個々のマイクロレンズ64aについて、上記の方法で表面形状を求め、ビームスポット形状に関係する第4項(Z4)以上のすべてのiに関してマイクロレンズアレイ64の全面に亘って第2の結像光学系58の収差を補正することが理想的である。
マイクロレンズアレイ64を光リソグラフィーにより製作する場合は、個々のマイクロレンズ64a毎にその形状を変更することは比較的容易に実現可能である。また、低次で(iの数字が小さく)、Δの数値が大きく、感光材料への影響が大きい項のみ選択的に補正すれば、マイクロレンズアレイ64の形状が複雑化しないため、低コストで大きな効果が望める。
以下、マイクロレンズ64aの面形状について具体的な例を用いて説明する。第2の結像光学系58の光学的特性は用途に応じて様々考えられる。感光材料P上に結像したビームスポットPBの、光軸58Cからの距離によるZernike標準係数低次項の増減について、代表例を図9に示す。座標軸の選択のしかたによりZ5、Z8、Z10は原理的にゼロとなるので表示していない。
図9の縦軸で表すZernike標準係数の各項ごとの係数値は、絶対値が大きいほど収差が大きく、ビームスポットPBの形状が崩れる関係にある。すなわち図9に示すように、感光材料Pの上に第2の結像光学系58によってビームスポットPBが結像されたとき、光軸58Cからの距離によってZernike標準係数の各項ごとの係数値も異なることになる。
ここで、感光材料Pの種類によりビームスポットPBの非対称性(真円からの乖離)を嫌うので、図9に示すZ6、Z7、Z9などの収差を優先的に補正することが、露光時の解像度を維持するために効果的である。以後、この絶対値が0.25(任意単位、arbitrary unit:図中ではa.u.と表記)を超えるような箇所についてマイクロレンズ64aの形状で補正を行うものとして説明を進める。
図9に示す例では、Z4(ピントずれ)を除いて横軸の像位置70%付近(光軸58Cからの距離)でZ6、像位置100%付近でZ7、Z9の影響が大きいことがわかる。以後、像位置70%位置および像位置100%位置を代表例として、Z6、Z9をマイクロレンズ64aの形状によって補正する方法について説明する。
図10(A)には図9の像位置70%に相当する箇所のZ6、Z9収差を補正するための面形状を備えたマイクロレンズ64aの、球面からのずれ量がパーセンテージで表されている。図中右が光軸から遠ざかるηMLであり、すなわち図中左方向が光軸58C側とされている。
Z6、Z9を補正するための面形状は以下の式で規定される。使用波長を400nm、この波長におけるマイクロレンズアレイ64の素材の屈折率を1.47とした場合、面形状は以下の式3で記述される。
(式3)
+4.5×10^ -4×Z6( r /rmax 、φML) −1.7×10^ -4×Z9( r /rmax、φML)
+4.5×10^ -4×Z6( r /rmax 、φML) −1.7×10^ -4×Z9( r /rmax、φML)
このような面形状を備えたマイクロレンズ64aを用いた際の、Z4〜Z11の収差の補正状況を球面との比較で表1として図13に示す。
同じく図10(B)には図9の像位置100%に相当する箇所のZ6、Z9収差を補正するための面形状を備えたマイクロレンズ64aの、球面からのずれ量がパーセンテージで表されている。図中右が光軸から遠ざかるηMLであり、すなわち図中左方向が光軸側とされている点は図10(A)と同様である。
Z6、Z9を補正するための面形状は以下の式4で規定される。
(式4)
−4.4×10^ -4 ×Z6( r / rmax 、φML) − 5.0×10^ -4 ×Z9( r / rmax , φML)
−4.4×10^ -4 ×Z6( r / rmax 、φML) − 5.0×10^ -4 ×Z9( r / rmax , φML)
この面形状を備えたマイクロレンズ64aを用いた際の、Z4〜Z11の収差の補正状況を球面との比較で表2として図13に示す。
上記のようなマイクロレンズ64aをそれぞれ像位置70%,100%の位置に配置することによって、それぞれの位置において各収差のうち数値の大きいものを良好に補正することができる。なお上記の説明においては像高70%位置と像高100%位置を具体例に示したが、この位置と異なる箇所に関しても、同様の検討により、個別に収差を補正することが可能である。
また要求される精度によっては、マイクロレンズ64aの形状を個別に変更する必要はない。結像光学系2の収差の分布に応じて、マイクロレンズ64aの形状を段階的に変更してもよい。たとえば、結像光学系2の収差量が比較的小さい領域においては球面形状のままとすることができる。また、隣接するマイクロレンズ64aのいくつかに関して、対応する範囲内における結像光学系2の代表的な収差値を補正する形状に統一してもよい。
結像光学系2の光軸からの距離に応じて、マイクロレンズ64aの形状を三段階に変更した例を図6に示す。なるべく像位置ごとに細かく面形状の種類分けを行った方が精度の高い補正を行うことができることはいうまでもない。このとき図9に示すように、各像位置におけるZernike標準形数の変化を確認しつつ、ビームスポット形状に強く影響を与える収差に関して優先的に補正を行うことが、効率的な収差の補正に必要となる。特にZernike標準係数が激しく変動する像位置の近傍においてマイクロレンズ64aの面形状を変化させることで、効率のよい補正を行うことができる。
<その他>
以上、本発明の実施例について記述したが、本発明は上記の実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない。
例えば上記実施形態ではレーザ光で露光する露光装置の構成を例に挙げたが、これに限定せず例えば通常の可視光あるいは紫外線などを用いてもよい。あるいは露光装置以外でもスポット光を使用する種々の構成に応用することもできる。
あるいは感光材料P上に形成されるイメージの周辺光量低下を補正するため、第2の結像光学系58の光軸58Cに近いほど濃度の高いセンターフィルターを併用する、または光軸58Cに近いマイクロレンズ64aほど透過濃度を高くするなどの対策を施してもよい。
また、本実施形態では反射型の空間変調素子であるDMD34を用いて説明したが、これに代えて例えば液晶を用いた透過型の空間変調素子を用いてもよい。
28 露光ヘッド
30 露光エリア
34 DMD
52 第1の結像光学系
58 第2の結像光学系
58C 光軸
64a マイクロレンズ
64 マイクロレンズアレイ
100 露光光学系
B レーザ光
P 感光材料
PB ビームスポット
30 露光エリア
34 DMD
52 第1の結像光学系
58 第2の結像光学系
58C 光軸
64a マイクロレンズ
64 マイクロレンズアレイ
100 露光光学系
B レーザ光
P 感光材料
PB ビームスポット
Claims (5)
- 光源からの光を変調する画素部が配列された空間光変調素子と、
前記空間光変調素子で変調された光を集光するマイクロレンズが平面上に配列されたマイクロレンズアレイと、
前記空間光変調素子により変調された光を前記マイクロレンズアレイに結像する第1の結像光学系と、
前記マイクロレンズアレイで集光された光を感光材料上に結像する第2の結像光学系と、を備え、
前記マイクロレンズアレイは、前記第2の結像光学系の光軸からの距離に応じて、形状が異なる複数種類のマイクロレンズが配列された露光光学系。 - 前記第2の結像光学系の瞳座標をρL2 、φL2、Zernike標準関数をZi(ρ, φ)、前記第2の結像光学系の第i項のZernike標準係数をΔ(i)としたとき、前記第2の結像光学系のとある像位置で以下の式1で示される収差が存在するとき、
(式1)
ΣΔ(i)×λ×Zi(ρL2、φL2)
i
前記像位置に対応する前記マイクロレンズの形状は前記第2の結像光学系の前記収差を補正するようにマイクロレンズ表面での座標を表すパラメータをr,φML、前記マイクロレンズの開口部の最大半径をrmax、補正前の前記マイクロレンズの面形状の曲率をc、前記光の波長をλ、前記マイクロレンズアレイの素材の屈折率をn、Zernike標準関数をZi(r/ rmax, φ)として、前記マイクロレンズの一部は以下の式2および式3で記述される面形状である請求項1に記載の露光光学系。
(式2)
SagZ(r、ψ)=(c×r2)/(1+√(1−c2×r2))
+Σ(ΔM(i)×λ)/(nー1)×Zi(r/rmax、φML),
i≧4
(式3)
ΔM(i)=Δ(i) (i≧4) - 前記マイクロレンズアレイがi≧4を満足するiの一部に関して前記式3を満足し、
それ以外のiに関してはΔM(i)=0 を満足する請求項2に記載の露光光学系。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の露光光学系を含む露光ヘッド。
- 請求項4に記載の露光ヘッドを含む露光装置。
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