JP2014162008A - 印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すことにより、耐酸性を向上させた印刷用サスペンドメタルマスクを得る。
【解決手段】版枠3と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ1を有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン5bが設けられたベースメタル5とを備えたものにおいて、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜15を施したものである。
【選択図】図9
【解決手段】版枠3と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ1を有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン5bが設けられたベースメタル5とを備えたものにおいて、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜15を施したものである。
【選択図】図9
Description
この発明は、印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法に関するものである。
従来、電鋳により所望の印刷パターンにパターンニングされた多数の開口部を有するマスク基板の片面側に、囲い枠に対して緊張状態で張設した導電性を有するステンレスメッシュを重合密着させてめっきにより一体接合させてなるメッシュ一体型メタルマスクが知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、他の従来技術として、金属枠にテトロンメッシュとステンレスメッシュとが張られ、ステンレスメッシュ上にメタルマスクが形成されたサスペンドメタルマスクが知られている(例えば、特許文献2参照)。
従来のメッシュ一体型メタルマスク又はサスペンドメタルマスクにおいては、例えばITO(indium tin oxide)フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いると、メタルマスクとステンレスメッシュの表面が酸に曝されてしまうため、メタルマスクとステンレスメッシュが腐食をしてしまうという問題があった。
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すことにより、耐酸性を向上させた印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法を提供するものである。
この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクにおいては、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたものにおいて、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したものである。
また、この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法においては、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施されたベースメタルと金属製メッシュとを一体接合する工程と、ベースメタルから印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、以上の工程を経て作製された金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施す工程とを備えたものである。
この発明によれば、金属製メッシュとベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したので、例えばITO(indium tin oxide)フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いても、金属製メッシュとベースメタルの表面が腐食することが無いという効果がある。
この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図、図2〜図7はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の製造工程を示す断面図、図8はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のNi−P皮膜コーティング工程を示す断面図、図9はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの金属製メッシュとベースメタルの全面に耐酸性のあるNi−P皮膜を施した状態を示す要部断面図、図10は金属製メッシュにフラットタイプのめっき製紗を用いた場合の図9相当図である。
図1はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図、図2〜図7はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の製造工程を示す断面図、図8はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のNi−P皮膜コーティング工程を示す断面図、図9はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの金属製メッシュとベースメタルの全面に耐酸性のあるNi−P皮膜を施した状態を示す要部断面図、図10は金属製メッシュにフラットタイプのめっき製紗を用いた場合の図9相当図である。
この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な構成要素は、図1に示すように、中央部に設けられた通電性を有するステンレスメッシュ又はニッケルメッシュからなる金属製メッシュ1及びこの金属製メッシュ1の外側に設けられたテトロンメッシュ2とからなるコンビネーションメッシュが内側に張設された四角形状の金属製版枠3と、ベースメタル用SUS母材4上に設けられ、印刷用開口パターンが形成される中央部分に印刷開口パターン形成用レジスト5aが施されているNi製のベースメタル5と、テトロンメッシュ6が張設された四角形状の接合補助用金属製版枠7と、この接合補助用金属製版枠7のテトロンメッシュ6とベースメタル用SUS母材4との間に介装されるスポンジ8とから構成される。なお、四角形状の金属製版枠3に張設されるメッシュは、中央部の金属製メッシュ1と外側のテトロンメッシュ2とからなるコンビネーションメッシュが好適であるが、コンビネーションメッシュでなく、通電性を有する金属製メッシュ1の単体からなる一枚物であっても良い。上記ベースメタル5は、中央部に印刷用開口パターン5bが形成されている。
この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程に当たっては、図2に示すように、右側に四角形状の金属製版枠3を配置し、左側に四角形状の接合補助用金属製版枠7を配置する。そして、金属製版枠3の金属製メッシュ1と重合位置するようにベースメタル5を配置し、金属製版枠3と接合補助用金属製版枠7を互いに重合させて粘着テープ9等で締結固定し、ベースメタル用SUS母材4及びスポンジ8を介してベースメタル5と金属製メッシュ1が互いに密着状態となるようにセットする。この密着状態にセットしたものを陰極10に接続するとともに電気的に導通させて、スルファミン酸ニッケル浴が入っためっき槽11内に収容し、ニッケル12を陽極13に接続することにより、ベースメタル5と金属製メッシュ1の間で接合めっきを行い、両者を一体的に接合する。この接合めっき量は、通常片側2μmとし、電鋳めっきと同じめっき法を用いる。また、陽・陰極電流密度は約0.1〜2.0A/dm2、好ましくは0.5〜1.0A/dm2の低電流を用いることにより、接合めっき量の均一性向上と金属製メッシュ1の断線を防止することができる。
次に、接合めっき工程が終了したら、上記密着状態にセットしたものをめっき槽11から取り出し(図3参照)、粘着テープ9を取り外して密着状態にセットしたものを解除する(図4参照)。次に、ベースメタル5からベースメタル用SUS母材4を剥離する(図5及び図6参照)。その後、ベースメタル5と金属製メッシュ1の接合部がめっきにより一体的に接合されている金属製版枠3のベースメタル5から印刷開口パターン形成用レジスト5aを剥離することにより、印刷用開口パターン5bが形成される(図7参照)。なお、ベースメタル5の印刷開口パターン形成用レジスト5a及び印刷用開口パターン5bは、簡略化してイメージのみを示したものであり、実際のものとは相違する。
この基本となる印刷用サスペンドメタルマスクでは、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えた構成であるため、例えばITO(indium tin oxide)フィルム用ダイレクトエッチングペースト等の酸性の印刷体を印刷する場合に用いると、金属メッシュとベースメタルの表面が酸に曝されてしまうため、ベースメタルとステンレスメッシュが腐食をしてしまうという問題があった。
次に、この問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成を図8〜図10により説明する。この発明においては、版枠3と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュ1を有するメッシュと、金属製メッシュ1に密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターン5bが設けられたベースメタル5とを備えた基本構成の印刷用サスペンドメタルマスクを作製した後、図8に示すように、この基本構成の印刷用サスペンドメタルマスクを陰極10に接続するとともに電気的に導通させて、Ni−P浴が入っためっき槽14内に収容し、Ni12を陽極13に接続することにより、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni−P皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜15をコーティングすることにより、印刷用サスペンドメタルマスクとしての耐酸性を向上させたものである。図9は通電性のある金属製メッシュ1が通常のSUS紗版の場合を示しており、図10は通電性のある金属製メッシュ1がフラットタイプのめっき製紗の場合を示している。なお、耐酸性のある薄いめっき皮膜15は、Ni−P皮膜に限らず、例えばNi−W皮膜であっても良い。
なお、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施すための浴組成は、Ni−P皮膜の場合の浴組成は、例えば塩化ニッケル:50〜350g/L(好ましくは、50〜100g/L)、ほう酸:25〜45g/L(好ましくは、25〜30g/L)、クエン酸3ナトリウム:10〜60g/L(好ましくは、20〜50g/L)、ホスホン酸(P):3〜40g/L(好ましくは、5〜30g/L)、NTS:1〜6g/L(好ましくは、2〜3g/L)、ピット防止剤:5〜20cc/L(好ましくは、5〜10cc/L)、PH:約2〜4(好ましくは、2.5〜3.5)である。めっき皮膜は1〜8μmである。また、Ni−W皮膜の場合の浴組成は、例えば、タングステン酸ナトリウム二水和物:66g/L、硫酸ニッケル六水和物:40g/L、クエン酸三アンモニウム:40g/L、クエン酸三カリウム:49g/L、ピット防止剤:0.005g/L、めっき条件は、液温度:57〜60℃、液pH:6〜7、電流密度:4A/dm2である。
実施の形態2.
上記実施の形態1では、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜14を施すことにより、耐酸性を向上させているが、この実施の形態2においては、メッシュとして耐酸性のあるタングステン(W)紗を用いるとともに、ベースメタル5としてNi−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製するものであり、ベースメタル5は1層構造でも、2層、3層からなる複数層構造であっても良い。この場合でも、ベースメタルと金属メッシュが腐食することはない。また、ベースメタル5をNi−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した場合は、ベースメタル5が脆くなるが、Ni−P又はNi−W等からなる金属めっき皮膜の上に位置する金属メッシュ1に補強用として乳剤を充填させることにより、ベースメタル5の脆さを克服しても良い。また、サスペンドメタルマスクでなく、Ni−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した1層構造のマスクや、2層構造、3層構造のマスクであっても良い。
上記実施の形態1では、金属製メッシュ1とベースメタル5の全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜等からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜14を施すことにより、耐酸性を向上させているが、この実施の形態2においては、メッシュとして耐酸性のあるタングステン(W)紗を用いるとともに、ベースメタル5としてNi−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製するものであり、ベースメタル5は1層構造でも、2層、3層からなる複数層構造であっても良い。この場合でも、ベースメタルと金属メッシュが腐食することはない。また、ベースメタル5をNi−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した場合は、ベースメタル5が脆くなるが、Ni−P又はNi−W等からなる金属めっき皮膜の上に位置する金属メッシュ1に補強用として乳剤を充填させることにより、ベースメタル5の脆さを克服しても良い。また、サスペンドメタルマスクでなく、Ni−P又はNi−W等からなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した1層構造のマスクや、2層構造、3層構造のマスクであっても良い。
1 金属製メッシュ
2 テトロンメッシュ
3 金属製版枠
4 ベースメタル用SUS母材
5 ベースメタル
5a 印刷開口パターン形成用レジスト
5b 印刷用開口パターン
5c 庇部(サイドエッジ)
5d 隙間
6 テトロンメッシュ
7 接合補助用金属製版枠
8 スポンジ
9 粘着テープ
10 陰極
11 めっき槽
12 ニッケル
13 陽極
14 Ni−P浴のめっき槽
15 耐酸性めっき皮膜
2 テトロンメッシュ
3 金属製版枠
4 ベースメタル用SUS母材
5 ベースメタル
5a 印刷開口パターン形成用レジスト
5b 印刷用開口パターン
5c 庇部(サイドエッジ)
5d 隙間
6 テトロンメッシュ
7 接合補助用金属製版枠
8 スポンジ
9 粘着テープ
10 陰極
11 めっき槽
12 ニッケル
13 陽極
14 Ni−P浴のめっき槽
15 耐酸性めっき皮膜
Claims (4)
- 版枠と、
前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクにおいて、
前記金属製メッシュと前記ベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施したことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。 - 版枠と、
前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクにおいて、
前記金属製メッシュとして耐酸性のあるタングステン紗を用いるとともに、前記ベースメタルとしてNi−P又はNi−Wからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製したことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。 - 版枠と、前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施された前記ベースメタルと前記金属製メッシュとを一体接合する工程と、
前記ベースメタルから前記印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、前記ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、
以上の工程を経て作製された前記金属製メッシュと前記ベースメタルの全面に、Ni−P皮膜又はNi−W皮膜からなる耐酸性のある薄いめっき皮膜を施す工程と、
を備えたことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。 - 版枠と、前記版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、前記金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルとを備え、前記金属製メッシュとして耐酸性のあるタングステン紗を用いるとともに、前記ベースメタルとしてNi−P又はNi−Wからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製するスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
中央部に印刷開口パターン形成用レジストが施されたNi−P又はNi−Wからなる耐酸性のある金属めっき皮膜で作製した前記ベースメタルと前記タングステン紗からなるメッシュとを一体接合する工程と、
前記ベースメタルから前記印刷開口パターン形成用レジストを剥離することにより、前記ベースメタルの中央部に印刷用開口パターンを形成する工程と、
を備えたことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013031880A JP2014162008A (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | 印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013031880A JP2014162008A (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | 印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014162008A true JP2014162008A (ja) | 2014-09-08 |
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ID=51613117
Family Applications (1)
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JP2013031880A Pending JP2014162008A (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | 印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2014162008A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018161805A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 太陽誘電株式会社 | スクリーン印刷版 |
-
2013
- 2013-02-21 JP JP2013031880A patent/JP2014162008A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018161805A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 太陽誘電株式会社 | スクリーン印刷版 |
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