CN104319211A - 电极板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种电极板的制造方法,该电极板的制造方法包括步骤1,在玻璃基板上通过溅射工艺镀上ITO膜并通过光刻显影方法做出电极图形;步骤2,用感光胶膜均匀粘贴于步骤1的玻璃基板上,并通过光刻显影方法露出电极位置;步骤3,采用物理处理方法对步骤2玻璃基板进行前处理,提高基板表面的清洁度;步骤4,在步骤3处理后的玻璃基板上镀金属层;以及步骤5,将步骤4处理后的玻璃基板表面胶膜清洗掉,露出电极。该电极板的制造方法解决了现有电子器件电极制作成本高、工艺繁杂、原材料浪费严重、图形精度不够等问题。
Description
技术领域
本发明涉及电子器件的制备方法,特别是涉及到一种电极板的制造方法。
背景技术
等离子体显示板的电极是平行制作于PDP基板上的条状导电层,主流的制作方法是光刻负性光敏银膏涂层形成银电极图形,过程如下:⑴将负性光敏银膏整板均匀涂覆于PDP玻璃基板上,烘干;⑵用制作好电极图形的掩膜对其进行曝光;⑶显影;⑷烧结。
光刻法制作出的银电极图形边缘整齐,无毛刺,图形质量高,但断线严重,需要通过大量补线工作弥补断线问题,加大了工作量,并且降低整板工作性能,成品率低。且该工艺过程繁杂,成本高,原材料浪费严重。
为解决上述问题,专利CN1424738A介绍了用丝网印刷制作银电极的工艺,但由于印刷法本身条件限制,制作精细电极十分困难,且随着印刷次数的增加,丝网容易产生非弹性形变,使图形达不到精度要求。为此我们发明了一种新的电极板的制造方法,解决了以上技术问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种解决现有电子器件电极制作成本高、工艺繁杂、原材料浪费严重及图形精度不够的问题的电极板的制造方法。
本发明的目的可通过如下技术措施来实现:电极板的制造方法,该电极板的制造方法包括:步骤1,在玻璃基板上通过溅射工艺镀上ITO膜并通过光刻显影方法做出电极图形;步骤2,用感光胶膜均匀粘贴于步骤1的玻璃基板上,并通过光刻显影方法露出电极位置;步骤3,采用物理处理方法对步骤2玻璃基板进行前处理,提高基板表面的清洁度;步骤4,在步骤3处理后的玻璃基板上镀金属层;以及步骤5,将步骤4处理后的玻璃基板表面胶膜清洗掉,露出电极。
本发明的目的还可通过如下技术措施来实现:
在步骤3中,物理处理方法为等离子处理、电晕处理或离子源轰击处理方法。
在步骤4中,镀的金属层为镀锡镍合金或其它黑色合金。
在步骤4中,镀的金属层为金属铜、银、镍或是铁镍合金、镍铬合金。
在步骤4中,采用化学镀或电镀方法镀金属层。
本发明中的电极板的制造方法,同光刻法、印刷法相比,它具有以下优点:⑴ 工艺简单,传统光刻法需要经过涂覆、掩膜曝光、显影、烧结等过程,工艺复杂,而本发明所采用的方法只需要经过物理前处理后镀金属层即可;⑵ 成本低,传统光刻、印刷法均采用电极银浆,且需要经过烧结,成本高,原材料浪费严重;⑶ 图形精度高,传统印刷法由于印刷次数多会导致丝网发生形变而影响图形精度,本发明采用图形掩膜处理工艺保证了图形的精度;⑷ 采用本发明制作出的电极合格率高,性能稳定。
附图说明
图1为本发明的电极板的制造方法的一具体实施例的流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举出较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
如图1所示,图1为本发明的电极板的制造方法的一具体实施例的流程图。
在步骤101,在玻璃基板上通过溅射工艺镀上ITO膜并通过光刻显影方法做出电极图形。流程进入到步骤102。
在步骤102,用感光胶膜均匀粘贴于步骤101的玻璃基板上,并通过光刻显影方法露出电极位置。流程进入到步骤103。
在步骤103,采用物理处理方法对步骤102玻璃基板进行前处理,提高基板表面的清洁度。所述的物理处理方法可以采用等离子处理、电晕处理、离子源轰击等方法。流程进入到步骤104。
在步骤104,在步骤103处理后的玻璃基板上分别镀锡镍合金或其它黑色合金及其它金属层。所述的其它金属层可以是铜、银、镍等金属或是铁镍合金、镍铬合金等合金。所述镀金属层方法可以采用化学镀或电镀等方法。流程进入到步骤105。
在步骤105,将步骤104处理后的玻璃基板表面胶膜清洗掉,露出电极。
本发明的电子器件电极主要应用于显示器、太阳能电极等领域。
在应用本发明的一具体实施例1中,包括了以下步骤:
⑴ 在玻璃基板上采用真空溅射工艺溅射ITO膜并采用光刻显影做出电极图形;
⑵ 将感光胶膜均匀粘贴于玻璃基板上,通过光刻显影方法露出待处理的电极;
⑶ 将上述玻璃基板采用等离子处理,真空度为0.1-10Pa,电压为400-600V;
⑷ 采用化学镀方法在等离子处理后的玻璃基板上分别镀锡镍合金、铜、镍金属层,金属层厚度为1-10μm;
⑸ 最后将胶膜清洗掉,得到PDP电极。
在应用本发明的一具体实施例2中,包括了以下步骤:
⑴ 在玻璃基板上采用真空溅射工艺溅射ITO膜并采用光刻显影做出电极图形;
⑵ 将感光胶膜均匀粘贴于玻璃基板上,通过光刻显影方法露出待处理的电极;
⑶ 将上述玻璃基板采用电晕处理,真空度为0.1-10Pa,电压为400-600V;
⑷ 采用电镀镀方法在等离子处理后的玻璃基板上分别镀锡镍合金、铜、铬金属层,金属层厚度为1-10μm;
⑸ 最后将胶膜清洗掉,得到PDP电极。
Claims (5)
1.电极板的制造方法,其特征在于,该电极板的制造方法包括:
步骤1,在玻璃基板上通过溅射工艺镀上ITO膜并通过光刻显影方法做出电极图形;
步骤2,用感光胶膜均匀粘贴于步骤1的玻璃基板上,并通过光刻显影方法露出电极位置;
步骤3,采用物理处理方法对步骤2玻璃基板进行前处理,提高基板表面的清洁度;
步骤4,在步骤3处理后的玻璃基板上镀金属层;以及
步骤5,将步骤4处理后的玻璃基板表面胶膜清洗掉,露出电极。
2.根据权利要求1所述的电极板的制造方法,其特征在于,在步骤3中,物理处理方法为等离子处理、电晕处理或离子源轰击处理方法。
3.根据权利要求1所述的电极板的制造方法,其特征在于,在步骤4中,镀的金属层为镀锡镍合金或其它黑色合金。
4.根据权利要求1所述的电极板的制造方法,其特征在于,在步骤4中,镀的金属层为金属铜、银、镍或是铁镍合金、镍铬合金。
5.根据权利要求1所述的电极板的制造方法,其特征在于,在步骤4中,采用化学镀或电镀方法镀金属层。
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |