JP2014156654A - Ｃｖｄリアクタ用ガス分配器 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単に製造可能な改良されたガス分配器を提供する。
【解決手段】供給開口（２、３）を介して、それぞれにプロセスガスを供給可能な、相互に分離された少なくとも２つのガス分配室（１０、２０）を有し、上段に配置されたガス分配装置が下段に配置された結合チャネル（１３、２３）とそれぞれ流動結合され、異なるガス分配室に付属する結合チャネルが交互に並列に位置し且つプロセスガスを流出させるためのガス流出開口（１４、２４）を有する。少なくとも２つのガス分配装置の各々が１つの分配セクション（１２、２２）を有し、分配セクションがそれぞれ複数の分配サブセクション（１１、２１）と流動結合され、結合チャネルがそれぞれ複数の分配サブセクションと相互に異なる位置において流動結合され、相互に異なるガス分配室の分配サブセクションが交互に並列に位置し且つ隔壁（９）により相互に分離されている。
【選択図】図４

Description

本発明は、供給開口を介して、それぞれにプロセスガスを供給可能な、相互に分離された少なくとも２つのガス分配室を有する、ＣＶＤリアクタ用ガス分配器であって、この場合、上段レベル内に配置されたガス分配装置が下段レベル内に配置された結合チャネルとそれぞれ流動結合され、異なるガス分配室に付属する結合チャネルが交互に並列に位置し且つプロセスガスを流出させるためのガス流出開口を有する、該ＣＶＤリアクタ用ガス分配器に関するものである。

このタイプのガス分配器が米国特許公開第２００３／０２０７０３２Ａ１号により記載される。ここでは、列ごとに相互に異なる結合チャネルが平行に並んで伸長し、結合チャネルは、多数のガス流出開口を相互に流動結合する。各結合チャネルは、交差点において、ガス分配装置を形成する供給チャネルと流動結合されている。

米国特許第６４４４０４２Ｂ１号から、ガス分配容積ないしはガス分配室のみが設けられているガス分配器が既知である。ガス分配室は相互に平行に伸長する複数の結合チャネルを有し、結合チャネルはそれぞれ多数のガス流出開口を相互に流動結合する。各結合チャネルは多数の供給位置を有する。供給位置は、結合チャネルと、相互に平行に伸長する複数のガスチャネルとの交差位置である。中央チャネルのみが供給チャネルを形成し、供給チャネルはガス供給ラインと結合されている。

米国特許公開第２００５／０１０９２８０Ａ１号は、相互に異なる複数の位置においてそれぞれガスが供給される、並列に配置された３つのガス供給ゾーンを有するガス分配器を記載する。

ドイツ特許公開第１０２００９０００９０３Ａ１号は、櫛歯状に相互にかみ合う供給チャネルを有するガス分配器を記載する。

ドイツ特許公開第１０２００５００４３１２Ａ１号から、ＣＶＤリアクタ用ガス流入機構が既知である。共通のレベル内に２つのガス分配室が存在し、２つのガス分配室は相互に異なる供給ラインを介してプロセスガスが供給される。ガス分配室は櫛状に相互にかみ合う室セクションを形成する。垂直下方に伸長する流動結合により、ガス分配室は結合チャネルと結合されている。結合チャネルはガス流入機構の軸の周りに同心に伸長し且つ下方に向けられたガス結合ラインによりガス流出開口と結合されている。相互に異なるガス分配室の結合チャネルは異なるレベルに存在する。既知のガス流入機構は複数のガス分配容積を有し、この場合、各ガス分配容積は、ガス分配室、ガス分配室と結合された結合チャネルおよびガス結合チャネルと結合されたガス流出開口を有している。

ドイツ特許公開第１０２００５０４３８４０Ａ１号もまたＣＶＤリアクタ用ガス分配器を記載する。ここでは異なるプロセスガスが供給される室セクションが、相互に交互に配置されている。

米国特許公開第２００３／０２０７０３２Ａ１号 米国特許第６４４４０４２Ｂ１号 米国特許公開第２００５／０１０９２８０Ａ１号 ドイツ特許公開第１０２００９０００９０３Ａ１号 ドイツ特許公開第１０２００５００４３１２Ａ１号 ドイツ特許公開第１０２００５０４３８４０Ａ１号

本発明の課題は、このタイプのガス分配器においてガス分配装置を改良することである。

この課題は特許請求の範囲に記載の本発明により解決される。

はじめに且つ本質的に、少なくとも２つのガス分配装置の各々が１つの分配セクションおよび複数の分配サブセクションを有し、この場合、各分配サブセクションは分配セクションと流動結合されている。これにより、結合チャネルが、複数の分配サブセクションと、それぞれ異なる位置において、好ましくは交差位置において流動結合されている。したがって、ガス流出開口は、結合チャネルの内部において２つの側からガスが供給される。分配サブセクションは交互に並列に伸長するチャネルを形成し、チャネルはそれぞれ交差位置において並列に伸長する結合チャネルにプロセスガスを供給する。したがって、分配サブセクションは結合チャネルに対して直角に伸長する供給チャネルを形成し、一方で供給チャネル内に分配セクションからプロセスガスが供給される。結合チャネルはトンネル要素から形成されていてもよく、トンネル要素はほぼＵ形状の断面を有している。トンネル要素は直接ガス流出板と結合されていてもよく、ガス流出板はその全面に多数のガス流出開口を有している。それぞれが結合チャネルを形成するトンネル要素のトンネル空洞内に、ガス流出板のガス流出開口が位置している。したがって、各ガス分配容積はガス分配室を有し、ガス分配室は複数の分配サブセクションに分割され、この場合、一方で個々の分配サブセクションは結合チャネルと相互に結合され、結合チャネルはトンネル要素の空洞により形成されている。即ち、ガス分配器の好ましい形態は相互に分離された少なくとも２つのガス分配容積を有している。両方のガス分配容積の各々は外側から供給開口を介してガス供給システムと流動結合されているので、供給開口を介して、プロセスガス、例えばキャリヤガス内に搬送された反応性ガスが、ガス分配容積内に供給可能である。流動方向において、供給開口に、ガス分配容積の部分容積である分配セクションが後続する。流動方向において、分配セクションに上記の分配サブセクションが後続し、一方で分配サブセクションは分配セクションから供給される。一方で分配サブセクションはトンネル要素のトンネル空洞と結合され、この場合、トンネル要素はそれぞれ結合チャネルの１つのセクションのみを形成することが好ましく、結合チャネルはそれぞれ２つの分配セクションのみを相互に結合する。結合チャネル即ちトンネル要素の空洞は一方のガス分配容積に付属し、一方、トンネル壁の周囲は他方のガス分配容積に付属する。トンネルの外側に、特にトンネル壁に隣接して同様にガス流出開口が存在する。しかしながら、このガス流出開口は、その間に位置するトンネル内に存在するガス流出開口とは異なるガス分配容積に割り当てられている。これにより、ガス流出ゾーンによって縞模様構造が形成され、縞模様構造を介して、相互に異なるガスが、ガス流出板の下側に配置されたＣＶＤリアクタのプロセスチャンバ内に流入可能である。ガス流出板の輪郭は矩形であってもよい。それに対応して、ガス流出ゾーンないしはガス分配器は矩形形状を有している。しかしながら、ガス流出機構が円形形状を有することもまた可能である。このとき、トンネル要素は円弧セクション上を伸長してもよい。しかしながら、トンネル要素は半径方向に伸長してもよい。同様のことがトンネル要素に対して直角に伸長する分配サブセクションに対しても適用され、分配サブセクションは相互に平行に、ないしは円弧線上に、または半径方向線上に伸長してもよい。隔壁は、トンネル要素のレベルの上側に位置するレベル内において伸長することが好ましい。隔壁を有するレベルの下側に位置するレベル内にトンネル要素が存在する。このレベル内にはトンネル要素のみが位置することが好ましい。このレベルの下側はガス流出板により制限されている。トンネル要素の上側のレベル内において、分配サブセクションがほぼ並列に位置して伸長する。トンネル要素は分配サブセクションの伸長方向に対して直角に伸長する。分配サブセクションの伸長方向における２つのトンネル要素間の間隔はほぼトンネル・セクションの幅に対応する。これに直角な方向の２つのトンネル要素の間隔はほぼガス分配室の幅に対応する。この限りにおいて、分配サブセクションの伸長方向に、相互に異なるガスのためのガス流出ゾーンが交互に配置されている。これに対して、トンネルの伸長方向には、同じガスのためのガス流出ゾーンが伸長する。これは、同じガス分配容積に付属する２つのトンネル要素の正面が相互に同一線上にあり、それに対して、同じガス分配容積に付属する２つのトンネル要素の壁の間に他方のガス分配容積のセクションが位置することに基づいている。隔壁は、蛇行状経過を有する、即ち相互に平行に伸長するセクションを有する、ただ１つの隔壁要素から形成されていてもよい。即ち、各ガス分配室の櫛状構造が形成され、この場合、相互に平行に伸長する個々の分配サブセクションは分配セクションから供給される。分配セクションは相互に間隔をなして位置している。矩形ガス分配器においては、分配セクションは向かい合って位置している。本発明による装置は、はじめに蛇行状隔壁要素が製造され且つこれが多数のＵ形状トンネル要素と結合されることにより製造可能であり、この場合、トンネル頂面がそれぞれトンネル要素の正面開口の領域内において隔壁と溶接される。この場合、交互に左方向および右方向を向くトンネル要素が隔壁セクションに装着され、しかも、すぐ隣に位置するトンネル要素のトンネル壁セクションが線状に相互に結合されるように装着される。次に、多数の内孔が設けられたガス流出板がトンネル要素の壁端と結合される。結合は、拡散溶接、接着等により実行可能である。しかしながら、はじめに、個々のトンネル要素をガス流出板と結合し、それに続いて、ガス流出板と結合されて碁盤目状に配置されたトンネル要素上に隔壁を装着することもまた可能である。

本発明の一変更態様において、ガス分配器は円形の周囲を有している。ガス容積の分配セクションはガス流出板のガス流出面を周方向に包囲してもよい。リング状に上下に配置された２つの分配セクションが設けられていてもよく、分配セクションは流入開口を有し、流入開口を介してガス容積の個々のまたは複数の分配サブセクションに供給される。流入開口は相互に異なるレベルに配置されていてもよい。本発明の一変更態様において、少なくとも２つのガス容積の少なくとも１つの分配セクションが、ガスの細分配がその中で行われる分配サブセクションの上側に配置されているように設計されている。分配サブセクションは室セクションを形成する。本発明の一変更態様において、１つの分配セクションが第３のレベル内に存在しおよび１つの分配セクションが周囲チャネル内に形成されるように設計されている。２つの分配セクションが第３のレベル内に配置されていてもよい。２つの分配セクションは隔壁により相互に分離されてもよい。２つの分配セクションは流入開口を有し、流入開口は分配サブセクション内に入り込み、分配サブセクション内において、その中にトンネル要素が配置されているレベルへの細分配が行われる。

本発明の課題は、さらに、既知のガス分配器よりも簡単に製造可能な平らなガス分配器を提供することである。

本発明によるタイプのガス分配器は、結合チャネルがほぼＵ形状のトンネル要素から形成されていることによって製造されることが好ましい。トンネル要素はそれぞれ相互に平行に伸長する２つの側壁を有している。これらの側壁の端縁はガス流出板の内側と結合されている。Ｕプロフィルは、両方の側壁と、および両方の側壁を相互に結合する結合壁と、から形成される。この結合壁はガス流出板の内側に対して間隔を有している。本発明の特に好ましい一形態において、トンネル要素は交差するプロフィル要素から形成される。プロフィル要素はＵプロフィル要素であることが好ましく、Ｕプロフィル要素は連続側壁を有するが、側壁の結合壁は規則的間隔で配置された窓を有している。側壁はＵプロフィルのＵ脚から形成され、および結合壁はＵウェブから形成される。第１および第２のプロフィル要素が存在する。第１のプロフィル要素は、その中でガス細分配が行われる分配サブセクションを形成する。第１のプロフィル要素のプロフィル開口はガス流出板から離れる方向を向いている。両方の側壁がそれと結合されている第１のプロフィル要素の結合壁は窓形状開口を有し、窓形状開口は第１および第２のＵプロフィル要素の交差位置に配置されている。第１のＵプロフィル要素の窓は第２のプロフィル要素の窓の上側に配置されている。第２のプロフィル要素のプロフィル開口はガス流出板の方向を向いているので、相互に交差して位置するＵプロフィル要素は背中合わせに位置している。上下に位置する窓を介して第１および第２のプロフィル要素のプロフィル中間空間が相互に結合されているので、第１および第２のプロフィル要素のＵ中間空間は同じガス容積に割り当てられている。他方のガス容積はＵプロフィル要素間の中間空間に割り当てられている。第１のプロフィル要素の窓の間に配置された第１のプロフィル要素の底面壁セクションはトンネル要素に対する結合壁を形成する。このような形態により、本発明によるガス分配器は簡単に製造可能である。例えば鉢形状ハウジングの底面を形成するガス流出板内に、列ごとに且つ行ごとに、ガス流出開口を形成する穴が打ち抜かれる。次に、その背面に切り抜きないしは切り欠きを有する第１および第２のＵプロフィル要素が作製される。第２のＵプロフィル要素はＵプロフィル開口をガス流出板の方向に向けてガス流出板に固定され、固定は溶接、接着等により実行可能である。この場合、第２のＵプロフィル要素は相互に平行に位置し且つＵプロフィル要素の両方の側壁の間隔にほぼ対応する同じ間隔を相互に有している。他の方法ステップにおいて、第２のプロフィル要素の背面の上側の第２のレベル内に第１のプロフィル要素が配置される。第１のプロフィル要素のプロフィル開口はガス流出板から離れる方向を向いている。第１のＵプロフィル要素は第２のＵプロフィル要素に対して直角に伸長し且つ同様に同じ間隔を有して相互に平行に伸長し、この場合、個々の第１のＵプロフィル要素の間隔はプロフィル要素の側壁の間隔に対応する。第１のプロフィル要素の背面は窓を有し、この窓は第２のプロフィル要素の窓の上側に位置している。第１のプロフィル要素の上方を向く側壁端縁は、ハウジングの全容積を閉鎖するカバープレートと結合される。

上記のガス流入機構は、ＩＩＩ族およびＶ族の元素からなる層が堆積されるＭＯＣＶＤリアクタ内において使用可能であるだけではない。このガス分配器は、例えばＯＬＥＤの製造のために基板上に有機材料が堆積されるリアクタ内における使用にも適している。さらに、このガス分配器はポリマーの堆積にも適している。ガス分配容積内にガス状ポリマー担体ないしは開始剤が供給される。両方のガスは相互に異なるガス流出開口からプロセスチャンバ内に流入する。ガス分配室は加熱されてもまたは冷却されてもよい。このために、ガス分配器は冷却器ないしは加熱器を有している。ガス流出開口は碁盤目状に配置されていてもよい。ガス流出開口は線状に配置されていてもよい。ガス流出開口は格子状に配置されていてもよい。しかしながら、ガス流出開口は円形に配置されていてもよい。ガス分配器は２つのガス容積を有していてもよい。しかしながら、ガス分配器は、それぞれ特定のプロセスガスまたはキャリヤガスを供給可能な３つまたは４つの相互に異なるガス容積を有していてもよく、これらのプロセスガスまたはキャリヤガスは、それぞれのガス容積に割り当てられている流出開口を介してプロセスチャンバ内に流出可能である。

本発明の実施例が以下に添付図面により説明される。

図１は、カバープレートが取り外された、ＣＶＤリアクタ用ガス流入機構の形の第１の実施例のガス分配器を示す。 図２は、ガス分配器の斜視底面図を示す。 図３は、カバープレートが取り外されたガス分配器の平面図を示す。 図４は、カバープレートが取り外され且つ部分破断された、図１の他の斜視図を示す。 図５は、他の伸長破断線を有する図４の斜視図を示す。 図６は、カバーが示されていない、ガス分配器の第２の実施例の斜視図を示す。 図７は、図６に示されたガス分配器の底面図を示す。 図８は、図６のガス分配器の内部の平面図を示す。 図９は、図６に示されたガス分配器の破断斜視図を示す。 図１０は、図８の線Ｘ−Ｘによる断面図を示す。 図１１は、図８の線ＸＩ−ＸＩによる断面図を示す。 図１２は、本発明の第３の実施例を、ハウジングのカバーが取り外された斜視図で示す。 図１３は、図１２に示されたガス分配器の底面図を示す。 図１４は、カバーが取り外された、図１２に示されたガス分配器のハウジング内部の平面図を示す。 図１５は、図１４の線ＸＶ−ＸＶによる断面図を示す。 図１６は、図１４の線ＸＶＩ−ＸＶＩによる断面図を示す。 図１７は、ガス分配器の第４の実施例の部分破断斜視図を示す。 図１８は、図１７に示された実施例の底面図を示す。 図１９は、図１７に示された実施例のハウジング内部の平面図を示す。 図２０は、図１９の線ＸＸ−ＸＸによる断面図を示す。 図２１は、図１９の線ＸＸＩ−ＸＸＩによる断面図を示す。 図２２は、第１のプロフィル要素３１および第２のプロフィル要素３２が交差して背中合わせに重ねられたとき、それによりトンネル要素配置１５、２５が形成可能なＵプロフィル要素３１、３２の斜視図を示す。

図面は、それぞれ、ガス分配器がＣＶＤリアクタ内において使用されたときのガス分配器を示す。ガス分配器は、４つの側壁、図示されていないカバープレートおよび底板が形成する矩形ハウジングを有している。底板はガス流出面７を有するガス流出板８であり、ガス流出面７内に、多数のガス流出開口１４、２４が入り込んでいる。

ハウジング１はメタル特に鋼から構成され且つ供給開口２、３を有し、供給開口２、３を介して、プロセスガスをそれぞれ、相互に分離されたガス分配容積内に供給可能である。ガス流出面７は列をなして配置されたガス流出開口１４、２４を有し、ガス流出開口１４、２４は列ごとにそれぞれ異なるガス分配容積に付属する。

ハウジング１の内部は、上下に位置する２つのレベル内に構成されている。下段レベルはガス流出板８に隣接している。その上に位置する上段レベルは、図示されていないカバープレートに隣接している。図１−５に示された実施例において、供給開口２、３は上段レベル内に入り込み且つハウジング１の相互に向かい合う幅側面上に配置されている。

蛇行状経路を有する隔壁９により、ハウジング１の上段レベルは２つのガス分配室１０、２０に分割されている。両方の分配室１０、２０の各々は両方のガス分配容積のいずれかに割り当てられている。隔壁９は、向かい合う２つの分配セクション１２、２２から櫛歯状に分配サブセクション１１、２１が出て、分配サブセクション１１、２１がハウジング１のほぼ全長にわたり伸長するように、上段レベルを構成する。隔壁９の蛇行状経路により、相互に異なるガス分配容積に付属する分配サブセクション１１、２１が交互に並列に位置している。したがって、相互に異なるガス分配容積の分配サブセクション１１、２１は、その伸長方向に対して直角に、交互に並列に位置している。分配サブセクション１１、２１は並列に伸長する供給チャネルを形成し、供給チャネルはそれぞれ個々に分配セクション１２、２２から供給される。

下段レベル内に多数のトンネル要素１５、２５が配置されている。トンネル要素１５、２５は分配サブセクション１１、２１の伸長方向に対して直角に伸長する。トンネル要素１５、２５の空洞は結合チャネル１３、２３を形成し、結合チャネル１３、２３により、同じガス分配容積に付属する２つの分配サブセクション１１、２１が相互に結合されている。トンネル要素１５、２５は、それぞれ異なるガス分配容積の分配サブセクション１１、２１の下側にそれぞれトンネルを形成する。したがって、トンネル要素１５、２５の内部の空間は、トンネル要素１５、２５の外側周辺とは異なるガス分配容積に付属する。トンネル要素１５、２５の間の中間空間は、分配サブセクション１１、２１により形成された供給チャネルと、それに直角に伸長する結合チャネル１３、２３との交差位置に位置している。図３から、トンネル要素１５、２５が碁盤目状に配置されていることがわかる。同じ分配サブセクション１１、２１の下側にトンネルを形成する２つのトンネル要素１５、２５の壁の間の間隔はほぼトンネル要素１５、２５の幅に対応する。相互に同一線上の２つのトンネル要素１５、２５の正面開口の間隔は、並列に位置する２つの分配サブセクション１１、２１を相互に分離する、相互に平行に伸長する隔壁９の隔壁セクションの間隔に対応する。隔壁９はトンネル要素１５、２５の正面開口の上側を伸長する。実施例において、トンネル要素１５、２５は矩形断面を有している。隔壁９はトンネル要素１５、２５の上側壁と気密に結合されている。相互に異なるガス容積ないしは相互に異なるガス分配容積１０、２０に流動結合されている２つのトンネル要素１５、２５の各々は、それらのカバーの領域内において相互に結合されている。この結合はほぼ線状の結合である。したがって、下段レベルの内部に、トンネル壁ないしはトンネル開口により側面が形成されたトンネル中間空間１６、２６が形成される。

ガス流出開口１４、２４はトンネル空洞からガス流出面７内に入り込む。同様に、ガス流出開口１４、２４はトンネル中間空間１６、２６からガス流出面７内に入り込む。

トンネル要素１５、２５ないしは両方の異なるガス分配室１０、２０の分配サブセクション１１、２１の上記の配置により、２つの分離されたガス分配室が形成される。図３を参照すると、その図におけるガス流出開口の最下列は、ガス分配室１０が付属する第１のガス分配容積に割り当てられている。ガス分配室１０は上段レベル内に分配セクション１２を形成し、分配セクション１２から分配サブセクション１１が出ている。分配サブセクション１１は、下方にこの図においてガス流出開口１４の下から数えて第１の列のトンネル中間空間と、およびそれぞれ１つおきの列のトンネル中間空間と、流動結合されている。トンネル中間空間１６内に位置するガス流出開口１４の間のガス流出開口２４はトンネル空洞１３から供給される。この場合、ガスは、トンネル要素１５の両方の正面開口を介してトンネル空洞１３内に流入する。

図３を参照すると、ガス分配室２０が付属する第２のガス分配容積は上から供給される。図を参照して上側に配置された分配セクション２２は、分配サブセクション１１の間に存在する分配サブセクション２１に供給する。図を参照してガス流出開口２４の最上列から数えて、ガス流出開口２４の１つおきの各列は第２のガス分配容積に付属する。この場合もまた、分配サブセクション２１に付属するトンネル中間空間２６は付属の分配サブセクション２１から直接供給される。分配サブセクション１１の下側にトンネルを形成するトンネル要素１５はその空洞を介してガス流出開口２４に供給する。この実施例において、同じ列の全てのガス流出開口１４、２４は同じガス分配容積から供給され、この場合、異なるガス分配容積から供給されるガス流出開口は列ごとに交互に位置している。

トンネル要素１５、２５は個別要素から形成されていてもよい。しかしながら、このために、ハウジング１の全幅ないしは全長にわたり伸長し且つ側壁１７、２７をトンネル要素１５からのみならずトンネル要素２５からも形成するＵプロフィル要素３１、３２を使用するように設計されていてもよい。しかしながら、このとき、Ｕプロフィル要素３１、３２はそれぞれトンネル要素１５の結合壁１８のみを形成する。これらの結合壁１８の間にプロフィル要素は窓を有している。窓の領域内において、相互に隣接する２つのプロフィル要素は結合壁２８により相互に結合されている。

図６−１１は本発明の第２の実施例を示し、この実施例においては、第１のレベル内に上記のトンネル要素１５、２５が配置され、この場合、トンネル要素１５、２５は、それぞれ側壁１７、２７を有するＵ形状構造であり、側壁１７、２７の端縁はガス流出板８の内側４と結合されている。側壁１７、２７は結合壁１８、２８と結合されて閉じられたチャネルを形成するが、その正面側に開いている。

第１の実施例とは異なり、第２の実施例のハウジング１は円形輪郭を有している。その中で細分配が行われる異なる分配サブセクション１１、２１内へのプロセスガスの供給はリングチャネル１２、２２から行われる。上下に配置された２つのリングチャネル１２、２２が設けられ、２つのリングチャネル１２、２２はガス分配セクションを形成し且つ相互に異なるガス容積１０、２０に付属している。分配サブセクション１１、２１は、ほぼ半径方向に伸長する流入開口１９、２９を介して分配セクション１２、２２から供給される。流入開口１９、２９は相互に異なるレベルに位置している。第１のガス分配容積１０に付属する流入開口１９は直接分配サブセクション１１の領域内に入り込み、分配サブセクション１１は直線状に伸長する隔壁９により第２のガス分配容積２０の分配サブセクション２１から分離されている。第２の室容積２０内へのガスの供給は、トンネル要素１５のレベル内に位置する流入開口２９を介して行われる。この実施例においてもまた、相互に異なるガス容積１０、２０に付属するガス流出開口１４、２４は列ごとに交互に配置されている。

図１０および１１から、ガス流出板８が内側４を有し、この内側４に、相互に平行に配置されたトンネル要素１５、２５、の下端縁が固定されていることがわかる。トンネル要素１５が側壁１７を有し、側壁１７はその下端縁がガス流出板８の内側４と固定結合されている。側壁１７は、その他方の端部において、ガス流出板８に平行に伸長する結合壁１８により結合され、これにより正面側が開いたチャネルが形成される。トンネル要素２５はそれに対応する側壁２７および結合壁２８を有している。

トンネル要素１５、２５の上側のレベル内に、相互に平行に伸長する隔壁９により分離された分配サブセクション１１、２１が存在し、分配サブセクション１１、２１は流入開口１９、２９から供給され、および分配サブセクション１１、２１はトンネル要素１５、２５へのプロセスガスの細分配を行い且つ直接トンネル中間空間に供給する。

図１２−１６に示されている第３の実施例は、分配セクション１２、２２が異なって配置されていることによってのみ、第２の実施例とは本質的に異なっている。第１のガス容積１０には分配セクション１２が割り当てられ、分配セクション１２はハウジング領域の外側に配置され且つガス流出面７をリング状に包囲する。流入開口１９を介して分配サブセクション１１にプロセスガスが供給される。

ガス流出板８に平行にカバー５が伸長し、カバー５は分配サブセクション１１、２１に隣接している。カバー５は隔壁９と結合されているので、結合壁１８、隔壁９およびカバー５は閉じたチャネルを形成し、この場合、チャネルの底面は結合壁１８の間で開かれているので、プロセスガスはトンネル要素１５内に流入可能である。

カバー５の上側に円板状容積が存在し、円板状容積は分配セクション２２を形成する。分配セクション２２には供給開口２を介してプロセスガスが供給され且つ流入開口２９を有し、流入開口２９を介してプロセスガスは分配セクション２２からカバー５の下側の分配サブセクション２１内に流動可能であり、これにより、トンネル要素１５への細分配が可能である。

図１７−２２に示された第４の実施例は、第４の実施例においては分配セクション１２、２２が分配サブセクション１１、２１の上側の第３のレベル内に配置されていることによってのみ、第２および第３の実施例とは本質的に異なっている。２つの半円形分配セクション１２、２２が形成され、半円形分配セクション１２、２２は上側にはカバー６によりおよび下側にはカバー５により制限されている。カバー５は流入開口１９、２９を有し、流入開口１９、２９はそれぞれ分配サブセクション１１、２１と結合されている。この場合もまた、分配サブセクション１１、２１は平行に並んで伸長し且つ隔壁９により相互に分離されている。

図２２は、トンネル要素１５、２５がどのようにして製造可能であるかを提案する。メタル特に鋼またはアルミニウムから構成されていてもよい第１のプロフィル要素３１はほぼＵ形状の断面を有し、これにより側壁３１′が形成されている。これらの側壁３１′は上記の隔壁９を形成する。側壁３１′の端縁３１′′はカバー５と結合されている。Ｕプロフィル要素３１の底面はトンネル要素２５の結合壁を形成する。プロフィル要素３１の底面は窓３４を有しているので、別々の結合壁２８は相互に間隔をなしている。

同様にＵ形状断面を有し且つ第１のプロフィル要素３１と同様に縦方向伸長形態を有する第２のプロフィル要素３２が設けられている。第１のプロフィル要素３１のプロフィル開口がガス流出板８から離れる方向に向けられているのに対して、プロフィル要素３２のプロフィル開口はガス流出板８の方向に向けられている。プロフィル要素３２は側壁３２′を有し、側壁３２′は相互に平行に伸長し且つ自由端縁３２′′を有し、自由端縁３２′′によりプロフィル要素３２はガス流出板８の内側４に固定されている。第２のプロフィル要素３２の背面はトンネル要素１５の結合壁１８を形成する。相互に平行に伸長する両方の側壁３２′は結合壁１８の領域内においてトンネル要素１５の側壁１７を形成する。

プロフィル要素３２の背面は個々の結合壁１８の間に窓３３を有している。窓３３の領域内において、第２のプロフィル要素３２の側壁３２′はトンネル要素２５の側壁２７を形成する。

トンネル要素１５は予めプロフィル要素３２により完全に製作されているのに対して、トンネル要素２５は、相互に平行に配置された複数のプロフィル要素３２がそれに直角に配置された第１のプロフィル要素３１と結合されることによりはじめて形成され、この場合、第１のプロフィル要素３１の開口３４は第２のプロフィル要素３２の開口３３に形状を合わせて位置している。上下に位置する窓３３、３４の縁部は相互に結合されている。縁部は特に相互に気密に結合されている。類似の形に形成されたＵプロフィル要素３１、３２の格子構造が形成され、Ｕプロフィル要素３１、３２の相互に向かい合わされた背面は、交差領域内に、形状を合わせて上下に位置する窓３３、３４を形成する。

プロフィル要素３２は閉じられたプロフィル特に矩形プロフィルにより形成されてもよい。これにより、場合により発生する、プレートまたはプロフィルをベースプレート上に結合する必要性がなくなる。

開示された全ての特徴は（それ自身）発明の進歩性を有している。したがって、付属の／添付の優先権資料の開示内容（先行出願のコピー）もまた、これらの資料の特徴を本出願の請求の範囲内に組み込むことを目的として、その内容が全て本出願の開示内に含められるものである。従属請求項は、特にこれらの請求項に基づいて部分出願を可能にするために、自由に選択できる併記されたその文章内において、独自に発明力のある従来技術の変更態様を示している。

１ ハウジング
２ 供給開口
３ 供給開口
４ 内側
５ カバー
６ カバー
７ ガス流出面
８ ガス流出板
９ 隔壁
１０ ガス分配容積、ガス分配室
１１ 分配サブセクション
１２ 分配セクション、リングチャネル
１３ 結合チャネル
１４ ガス流出開口
１５ トンネル要素
１６ トンネル中間空間
１７ 側壁
１８ 結合壁
１９ 流入開口
２０ ガス分配容積、ガス分配室
２１ 分配サブセクション
２２ 分配セクション、リングチャネル
２３ 結合チャネル
２４ ガス流出開口
２５ トンネル要素
２６ トンネル中間空間
２７ 側壁
２８ 結合壁
２９ 流入開口
３０ 隔壁
３１ Ｕプロフィル要素
３１′ 側壁
３１′′ 端縁
３２ Ｕプロフィル要素
３２′ 側壁
３２′′ 端縁
３３ 窓
３４ 窓
３４′′ 端縁

Claims (17)

1. 供給開口（２、３）を介して、それぞれにプロセスガスを供給可能な、相互に分離された少なくとも２つのガス分配室（１０、２０）を有する、ＣＶＤリアクタ用ガス分配器であって、この場合、
   上段レベル内に配置されたガス分配装置が下段レベル内に配置された結合チャネル（１３、２３）とそれぞれ流動結合され、
   異なるガス分配室（１０、２０）に付属する結合チャネル（１３、２３）が交互に並列に位置し且つプロセスガスを流出させるためのガス流出開口（１４、２４）を有する、該ＣＶＤリアクタ用ガス分配器において、
   少なくとも２つのガス分配装置の各々が１つの分配セクション（１２、２２）を有し、分配セクション（１２、２２）がそれぞれ複数の分配サブセクション（１１、２１）と流動結合され、この場合、
   結合チャネル（１３、２３）がそれぞれ複数の分配サブセクション（１１、２１）と相互に異なる位置において流動結合され、
   相互に異なるガス分配室（１０、２０）の分配サブセクション（１１、２１）が交互に並列に位置し且つ隔壁（９）により相互に分離されている、ことを特徴とするＣＶＤリアクタ用ガス分配器。
2. 結合チャネル（１３、２３）がトンネル要素（１５、２５）から形成されていることを特徴とする請求項１に記載のガス分配器。
3. トンネル要素（１５、２５）がＵ形状断面を有し且つＵ開口をガス流出板（８）の方向に向け、トンネル要素（１５、２５）のＵ脚がガス流出板（８）と結合されていることを特徴とする請求項２に記載のガス分配器。
4. 並列に位置する２つのトンネル要素（１５、２５）の間にそれぞれ、トンネル壁により側面が形成されたトンネル中間空間（１６、２６）が伸長し、トンネル中間空間（１６、２６）内に、他方のガス分配容積に付属する、ガス流出板（８）のガス流出開口（１４、２４）が存在することを特徴とする請求項２または３に記載のガス分配器。
5. 相互に同一線上にある２つのトンネル要素（１５、２５）の正面開口の間に、同じガス分配容積に付属するガス流出開口（１４、２４）を有するトンネル中間空間（１６、２６）が存在することを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載のガス分配器。
6. 両方のガス分配室（１０、２０）が櫛歯状に相互にかみ合う室セクション（１１、２１）を形成することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のガス分配器。
7. 室セクション（１１、２１）が蛇行状に伸長する隔壁（９）により相互に分離されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のガス分配器。
8. 分配セクション（１２、２２）が相互に向かい合って上段レベル内に配置されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載のガス分配器。
9. 相互に異なるガス分配室（１０、２０）の分配サブセクション（１１、２１）が共通の隔壁（９）により相互に分離されていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載のガス分配器。
10. 隔壁（９）がトンネル要素（１５、２５）のＵウェブに隣接し且つトンネル要素（１５、２５）の正面開口の高さで伸長することを特徴とする請求項２ないし９のいずれかに記載のガス分配器。
11. トンネル要素（１５、２５）が異なるガス分配容積と線状に接触することを特徴とする請求項２ないし１０のいずれかに記載のガス分配器。
12. ガス流出板（８）のガス流出面（７）がガス流出開口（１４、２４）を有し、ガス流出開口（１４、２４）は列ごとに同じガス分配容積から供給され、この場合、異なるガス容積から供給されるガス流出開口（１４、２４）が列ごとに交互に位置することを特徴とする請求項３ないし１１のいずれかに記載のガス分配器。
13. ガス流出開口（１４、２４）が、列ごとに交互に、相互に異なるガス分配室（１０、２０）の結合チャネル（１３、２３）と結合され、この場合、並列に位置する複数の室セクション（１１、２１）が、結合チャネル（１３、２３）の断面積より大きい断面積を有することを特徴とする請求項１ないし１２のいずれかに記載のガス分配器。
14. ガス流出板（８）がガス流出開口（１４、２４）を有し、ガス流出開口（１４、２４）は、相互に分離されたガス分配室（１０、２０）の室セクション（１１、２１）と流動結合されている結合チャネル（１３、２３）から出る、該ガス流出板（８）を有するＣＶＤリアクタ用ガス分配器において、
    結合チャネル（１３、２３）がほぼＵ形状のトンネル要素（１５、２５）から形成され、トンネル要素（１５、２５）の側壁（１７、２７）が、ガス流出板（８）の内側（４）と、および相互に１つの結合壁（１８、２８）と、結合されていることを特徴とするＣＶＤリアクタ用ガス分配器。
15. トンネル要素（１５、２５）が、特にＵプロフィル要素または矩形プロフィル要素として形成されて相互に交差する第１および第２のプロフィル要素（３１、３２）から形成され、この場合、特に、プロフィル要素（３１、３２）が、交差領域内に配置された窓（３３、３４）を有することを特徴とする請求項１４に記載のガス分配器。
16. 第１のプロフィル要素（３１）の側壁（３１′）ないしは第２のプロフィル要素（３２）の側壁（３２′）が、相互に異なるガス容積（１０、２０）を相互に分離することを特徴とする請求項１５に記載のガス分配器。
17. 交差配置されたプロフィル要素（３１、３２）の側壁（３１′、３２′）の間を伸長する中間空間が一方の共通ガス分配容積（１０）に割り当てられ、およびプロフィル要素（３１、３２）の外側を伸長する空間が他方のガス分配容積（２０）に割り当てられている、ことを特徴とする請求項１６に記載のガス分配器。

Images