JP6457718B2 - Cvdリアクタ用ガス分配器 - Google Patents
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Description
2 供給開口
3 供給開口
4 内側
5 カバー
6 カバー
7 ガス流出面
8 ガス流出板
9 隔壁
10 ガス分配容積、ガス分配室
11 分配サブセクション
12 分配セクション、リングチャネル
13 結合チャネル
14 ガス流出開口
15 トンネル要素
16 トンネル中間空間
17 側壁
18 結合壁
19 流入開口
20 ガス分配容積、ガス分配室
21 分配サブセクション
22 分配セクション、リングチャネル
23 結合チャネル
24 ガス流出開口
25 トンネル要素
26 トンネル中間空間
27 側壁
28 結合壁
29 流入開口
30 隔壁
31 Uプロフィル要素
31′ 側壁
31′′ 端縁
32 Uプロフィル要素
32′ 側壁
32′′ 端縁
33 窓
34 窓
34′′ 端縁
Claims (16)
- 供給開口(2、3)を介して、それぞれにプロセスガスを供給可能な、相互に分離された少なくとも2つのガス分配室(10、20)を有する、CVDリアクタ用ガス分配器であって、この場合、
上段レベル内に配置された各ガス分配室(10,20)が下段レベル内に配置された各結合チャネル(13、23)とそれぞれ流動結合され、
各ガス分配室(10、20)にそれぞれ結合される各結合チャネル(13、23)が交互に並列に位置し且つプロセスガスを流出させるためのガス流出開口(14、24)を有する、該CVDリアクタ用ガス分配器において、
少なくとも2つのガス分配室(10,20)の各々が1つの分配セクション(12、22)を有し、各分配セクション(12、22)がそれぞれ複数の分配サブセクション(11、21)と流動結合され、この場合、
各結合チャネル(13、23)がそれぞれ複数の分配サブセクション(11、21)と相互に異なる位置において流動結合され、
各ガス分配室(10、20)の分配サブセクション(11、21)が交互に並列に位置し且つ隔壁(9)により相互に分離されており、
各結合チャネル(13、23)がU形状断面を有する各トンネル要素(15、25)から形成され、
各トンネル要素(15、25)が、2つの隣り合う結合チャネル(13、23)を分離する、互いに平行に配置された2つの側壁(17,27)を有する、
ことを特徴とするCVDリアクタ用ガス分配器。 - 各トンネル要素(15、25)がU開口をガス流出板(8)の方向に向け、各トンネル要素(15、25)のU脚がガス流出板(8)と結合されていることを特徴とする請求項1に記載のガス分配器。
- 並列に位置する2つのトンネル要素(15、25)の間にそれぞれ、トンネル壁により側面が形成されたトンネル中間空間(16、26)が伸長し、該トンネル中間空間(16、26)内にガス流出板(8)のガス流出開口(14、24)が存在し、該ガス流出開口(14、24)が前記並列に位置する2つのトンネル要素(15、25)にプロセスガスを供給するガス分配室(10,20)とは異なるガス分配室(10,20)のプロセスガスを供給されることを特徴とする請求項1または2に記載のガス分配器。
- 相互に同一線上にある2つのトンネル要素(15、25)の正面開口の間に、ガス流出開口(14、24)を有するトンネル中間空間(16、26)が存在し、該トンネル中間空間(16、26)と前記相互に同一線上にある2つのトンネル要素(15、25)が同じガス分配室(10,20)のプロセスガスを供給されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のガス分配器。
- 両方のガス分配室(10、20)の分配サブセクション(11、21)が櫛歯状に相互にかみ合う室セクションを形成することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のガス分配器。
- 各分配サブセクション(11、21)が蛇行状に伸長する隔壁(9)により相互に分離されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のガス分配器。
- 各分配セクション(12、22)が相互に向かい合って上段レベル内に配置されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のガス分配器。
- 各ガス分配室(10、20)の分配サブセクション(11、21)が共通の隔壁(9)により相互に分離されていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載のガス分配器。
- 隔壁(9)が各トンネル要素(15、25)のUウェブに隣接し且つ各トンネル要素(15、25)の正面開口の高さで伸長することを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載のガス分配器。
- 各トンネル要素(15、25)が各ガス分配室(10、20)のプロセスガスが供給される空間と線状に接触することを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載のガス分配器。
- ガス流出板(8)のガス流出面(7)がガス流出開口(14、24)を有し、ガス流出開口(14、24)は列ごとに同じガス分配室(10,20)からプロセスガスを供給され、この場合、異なるガス分配室(10,20)からプロセスガスを供給されるガス流出開口(14、24)が列ごとに交互に位置することを特徴とする請求項2ないし10のいずれかに記載のガス分配器。
- ガス流出開口(14、24)が、列ごとに交互に、相互に異なるガス分配室(10、20)からプロセスガスを供給される各結合チャネル(13、23)と結合され、この場合、並列に位置する複数の分配サブセクション(11、21)が、結合チャネル(13、23)の断面積より大きい断面積を有することを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載のガス分配器。
- ガス流出板(8)がガス流出開口(14、24)を有し、該ガス流出開口(14、24)は、相互に分離されたガス分配室(10、20)の分配サブセクション(11、21)と流動結合されている結合チャネル(13、23)から出る、該ガス流出板(8)を有するCVDリアクタ用ガス分配器において、
結合チャネル(13、23)がU形状断面を有するトンネル要素(15、25)から形成され、トンネル要素(15、25)の側壁(17、27)が、ガス流出板(8)の内側(4)および該ガス流出板(8)に平行に伸長する結合壁(18、28)と、結合されていることを特徴とするCVDリアクタ用ガス分配器。 - トンネル要素(15、25)が、Uプロフィル要素または矩形プロフィル要素として形成されて相互に交差する第1および第2のプロフィル要素(31、32)から形成され、この場合、各プロフィル要素(31、32)が、交差領域内に配置された窓(33、34)を有することを特徴とする請求項13に記載のガス分配器。
- 第1のプロフィル要素(31)の側壁(31′)ないしは第2のプロフィル要素(32)の側壁(32′)が、各ガス分配室(10、20)のプロセスガスが供給される空間を相互に分離することを特徴とする請求項14に記載のガス分配器。
- 交差配置されたプロフィル要素(31、32)の側壁(31′、32′)の間を伸長する中間空間が一方のガス分配室(10)のプロセスガスが供給される空間に割り当てられ、およびプロフィル要素(31、32)の外側を伸長する空間が他方のガス分配室(20)のプロセスガスが供給される空間に割り当てられている、ことを特徴とする請求項15に記載のガス分配器。
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