JP2014152391A - 金属ナノ粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 低級アルコールと水との混合溶媒に金属イオンを含む塩を溶解させた溶液を用意すること、この溶液中でグロー放電プラズマを発生させることで金属イオンを還元し、当該金属からなるナノ粒子を形成すること、を含むみ金属ナノ粒子の製造方法である。ここで、混合溶媒の全体に占める低級アルコールのモル比を0.05〜0.2とするとする。
【選択図】図7
Description
この金属ナノ粒子生成装置によると、水溶液中でグロー放電プラズマを発生することができる。このグロー放電プラズマには、水素ラジカル,水酸化物ラジカルおよび電子の少なくとも一つが含まれている。したがって、金属塩を含む水溶液中でグロー放電を発生させることで、水溶液中に解離している金属イオンをこれらラジカル等の作用により還元し、金属塩を構成する金属のナノ粒子を生成するというものである。
しかしながら、水溶液中で安定したプラズマを生じさせることは非常に高度なレベルでプラズマ発生条件を制御する必要があり、安定した還元反応を実現し得るプラズマの発生条件も限定されたものとならざるを得なかった。特に、粒径が100nm以下(例えば、10nm以下)のレベルの金属ナノ粒子の製造を行う場合には、より厳密なプラズマ発生条件の制御が求められる。例えば、より厳密な条件のプラズマを安定して発生させるために、プラズマを発生させる電極の形態や、配置、更には発生させるプラズマの種類と、かかるプラズマを維持するための電圧印加条件等の制御が求められる。そのため、更なる高速での金属ナノ粒子の製造という観点では、その改良の余地は極めて狭い範囲に限定されてしまっていた。
すなわち、(1)水溶液中に低級アルコールを含ませることで絶縁破壊電圧を高めることができ、還元に作用するラジカル種をより多量に発生させることができる。(2)しかしながら、かかる効果は、低級アルコールの含有割合に強く依存しており、低級アルコールのモル比が上記の範囲で特に好適な効果が発現される。
これにより、溶媒の組成を低級アルコールで調整するといった極めて簡単な手法で、金属ナノ粒子の製造速度を高めることができる。例えば、水溶液中に低級アルコールを含めたい場合と比較して約18倍という、極めて速い速度での製造が可能となる。
金属イオンの濃度をかかる範囲に調整することで、製造された金属ナノ粒子の凝集を防いで、より効率的な金属ナノ粒子の製造を行うことができる。
本発明の方法は、貴金属イオンを還元して製造する貴金属ナノ粒子の製造に好ましく適用することができる。
水溶液中に、形成された金属ナノ粒子の凝集を防止するための保護剤を添加しておくことも好ましい態様である。かかる保護剤としては、各種の材料が知られているが、例えば、カチオン性界面活性剤を使用するのがより微細で安定した金属ナノ粒子を形成できる点で好ましい。
かかる構成によると、線状電極間に生じるジュール熱によって水溶液中に発生する気泡の大部分を水面に向かって浮上させることなく、水溶液中に安定した状態で維持することができ、この気泡中に安定した状態でプラズマを発生させることが可能となる。これにより、より効率よく安定した状態で金属ナノ粒子を製造することができる。
本発明で製造し得るナノ粒子を構成し得る金属について厳密な制限はなく、例えば、元素周期表の第1族〜第14族に属する元素の単体からなる金属、あるいは、これらの2種以上の元素からなる合金(金属間化合物や多相合金などを含む)等を考慮することができる。特に好ましい態様としては、貴金属元素の単体もしくは貴金属元素を含む合金のナノ粒子を例示することができる。具体的には、例えば、上記金属元素として、カリウム(K)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、ガリウム(Ga)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、カドミウム(Cd)、インジウム(In)、タングステン(W)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)および金(Au)等が例示される。中でも、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウムの貴金属元素であることが好ましい。このように、ソリューションプラズマによる金属ナノ粒子の製造は、従来の化学的還元法を用いたプロセスとは異なり、上述のような種々の金属元素に対しても広く適用することができる。
これらの保護剤は、いずれか一種を単独で用いても良いし、二種以上を混合して用いても良い。また、かかる保護剤は、形成された金属ナノ粒子が凝集しない程度の濃度で用いればよい。
なお、発生したプラズマがグロー放電プラズマであるかどうかは、例えば、プラズマ発光分光分析等により求められるタウンゼント第2係数が0.0005〜0.005の範囲にあることで確認することができる。
図1は、水溶液2中でソリューションプラズマ4を発生させるためのソリューションプラズマ発生装置10の概略を示す図である。この実施形態において、金属イオンを含む低級アルコール−水の混合溶液2が、ガラス製のビーカーなどの容器5に入れられている。また、プラズマ4を発生させるための電極6が、所定の間隔を以て水溶液2中に配設されている。本実施形態において、電極6は、絶縁部材9を介して容器5に保持されるとともに、外部電源8に接続されており、この外部電源8から所定の条件のパルス電圧が印加される。これによって、一対の電極6間に、定常的にソリューションプラズマ4を発生させることができる。
かかる現象は、水素結合液体である水に、同じく水素結合液体である低級アルコールを添加していった場合に、水の水素結合形成能が変化されて、水の構造および密度等に変化が生じ、プラズマ励起状態にも影響が及んだことに因るものと理解される。すなわち、低級アルコールと水との混合溶媒においては、イオン移動度および水の安定化エネルギーに変化が生じる。したがって、かかる溶媒が加熱されて形成される気相の組成や濃度、圧力等の条件が変化されて、絶縁破壊電圧が所定のアルコール濃度領域で高められるとともに、形成される活性種にも変化がもたらされたものと考えられる。
そして、かかる金属ナノ粒子の反応速度は、プラズマ反応場における水素ラジカルの増加に伴い、例えば、溶媒として水(すなわち、低級アルコールを含まない)を用いた場合と比較して、反応速度定数が約20倍にもなり得る。これにより、上記の通りの粒径が揃って高品質な金属ナノ粒子を、高速で、製造することが可能となる。
次に、本発明に関する実施例を説明するが、本発明をかかる実施例に示すものに限定することを意図したものではない。
低級アルコールとして(a)メタノールと(b)エタノールを、水として蒸留水を用い、アルコール−水混合溶媒を用意した。この混合溶媒における低級アルコールのモル比(Xalc)は、0,0.04,0.08,0.14,0.2,0.4,0.6および1の8通りとし、計16通りの混合溶媒を調製した。
金属塩として塩化金(III)三水和物を用い、上記の混合溶媒に溶解させて0.3mMのHAuCl4溶液を調整した。
放電中のソリューションプラズマは、アルコール−水混合溶液の組成により、その形態が大きく異なるものとなった。図3に、(A)水100%溶媒(モル比:Xalc=0)を用いた場合と、(B)エタノール100%溶媒(モル比:Xalc=1)を用いた場合において発生させたソリューションプラズマの様子を観察した像を示した。(A)水100%溶媒では、プラズマは紅色の発光を発し、プラズマ放電部分を取り囲む気泡はほぼ一つの大きな楕円球状にまとまっており、その表面に時折小さな気泡が形成されて次第に成長し、分離して小気泡として水中を昇って行く様子が観察された。(B)エタノール100%溶媒の場合には、プラズマは青色の光を発し、小さな気泡が房状に発生した後、分離して浮上していく様子が観察された。また、(B)エタノール100%溶媒の場合、気泡の内部でプラズマが横方向に広く広がっているのが観察された。
ソリューションプラズマの放電に伴う電圧波形と電流波形をオシロスコープにより計測した。この電圧および電流の波形は、アルコール−水混合溶液の抵抗挙動を表し得る。
得られた電圧波形は、概ね、パルス電圧を印加すると電極間には急激に高電圧が加わり、次いで絶縁破壊に伴う電圧の急激な低下が生じ、その後はほぼ一定の電圧値が維持されるものであった。一方、放電電流は、絶縁破壊時に大電流が流れるものの、その後はパルス電圧の印加とともに直線的に増加した後、次第に減少してゆく山形の波形となることが確認できた。なお、パルス幅を一定とした条件下では、パルス周波数を変化させても電流電圧波形に大きな差は見られなかった。これらの電圧波形から、各アルコール−水混合溶液系における絶縁破壊電圧を調べた。
各アルコール−水混合溶液系において発生したソリューションプラズマの発光分光分析(OES:Optical Emission Spectroscopy)を行った。図4に、(A)水100%溶媒を用いた場合と、(B)エタノール100%溶媒を用いた場合において得られた輝線スペクトルを示した。図4(A)では、水の分解に伴う水素ラジカル、原子状酸素のスペクトルが明瞭であるのに対し、(B)では水素ラジカルと共に、エタノールに由来する炭素二量体分子のスペクトル(C2スワンバンド)等が観測され、両者で異なる反応場が形成されていることがわかる。このようなスペクトルの差は、溶液中のアルコール濃度に依存していることが確認できた。
上記の電圧波形から調べた絶縁破壊電圧と、混合溶媒中に占めるアルコールのモル比との関係を調べた。図5に、絶縁破壊電圧とエタノール濃度依存性を示した。図5に示されるように、パルス周波数の低い方が絶縁破壊に高い電圧を要することがわかる。なお、具体的に示さないが、絶縁破壊電圧のメタタノール濃度依存性はエタノールの場合とほぼ同様の傾向を示したが、絶縁破壊電圧はエタノールの場合よりも若干(2割ほど)低かった。
そして、パルス周波数がいずれの場合にも、アルコール濃度が低い領域(例えば、Xalc≦0.14)では絶縁破壊電圧はアルコール濃度の増大と共に急激に増大し、アルコール濃度が高い領域(例えば、Xalc>0.14)では絶縁破壊電圧が漸減することがわかった。
ここで、溶媒中のアルコール濃度が十分に低い領域では、ヘンリーの法則に従って、かかるアルコール濃度に比例してソリューションプラズマにおける気相中のアルコールの割合も高くなる。そして、水分子の平均分子径(0.27nm)と、アルコールの平均分子径(例えば、メタノール:0.35nm、エタノール:0.38nm)とを比較すると、水よりもアルコールの方が、さらにはアルコール分子量の大きいエタノールの方が、平均分子径が大きくなる。すなわち、アルコール濃度が十分に低い領域では、アルコールの濃度及び分子量が増大するほど電子平均自由行程が小さくなり、絶縁破壊電圧が高くなることがわかる。
そして、ソリューションプラズマ放電におけるこのような絶縁破壊電圧のアルコール濃度依存性の変曲点は、アルコール−水混合溶液におけるアルコールのモル比(Xalc)が0.14近傍であることが確認できた。このような変曲点を示すアルコールのモル比(Xalc)は、低級アルコールであれば、アルコールの種類およびソリューションプラズマの発生条件によらずほぼ一定となることも確認された。
アルコール−水混合溶液中でソリューションプラズマを発生させてAuナノ粒子を合成する際に、プラズマ放電開始から所定の時間ごとに溶液を採取し、可視・紫外(UV−vis)分光法によりかかる溶液の電子スペクトル(UV−vis吸収スペクトル)の時間変化を調べた。なお、アルコール−水混合溶液には、溶液の採取毎に臭化カリウムを添加して導電率を一定に保つようにした。図6に、エタノール−水混合溶液におけるエタノールのモル比を0.14(Xalc=0.14)とした場合についての、UV−vis吸収スペクトルの時間変化を示した。
絶縁破壊電圧が高いと水素ラジカルを含むより多くの活性種を発生し得る。したがって、エネルギーの印加条件が同じであっても、アルコール−水混合溶液におけるエタノールのモル比を0.14(Xalc=0.14)とすることで、反応速度を高められるといえる。
3 気相
4 ソリューションプラズマ(プラズマ相)
5 容器
6 電極
8 外部電源
9 絶縁部材
10 ソリューションプラズマ発生装置
Claims (5)
- 低級アルコールと水との混合溶媒に金属イオンを含む塩を溶解させた溶液を用意すること、
前記溶液中でグロー放電プラズマを発生させることで前記金属イオンを還元し、当該金属からなるナノ粒子を形成すること、を含み、
前記混合溶媒の全体に占める低級アルコールのモル比を0.05〜0.2とする、金属ナノ粒子の製造方法。 - 前記溶液中の前記金属イオンの濃度を0.05mM〜0.5mMに調整する、請求項1に記載の金属ナノ粒子の製造方法。
- 前記金属イオンは貴金属イオンである、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記水溶液中に、さらに保護剤を含ませた溶液を用意する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記水溶液中に一対の線状電極を配置し、
前記線状電極間にパルス幅が0.1μs〜5μsで、周波数が103Hz〜105Hzの直流パルス電圧を印加することでプラズマを発生させる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
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