JP2014150481A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】小面積でパワーゲーティングが可能な半導体装置を、簡易な製造プロセスで実現する。
【解決手段】半導体演算装置1は、複数の論理回路ブロック30のうちの待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断(パワーゲーティング)するための電源スイッチ7を備える。電源スイッチ7は、仮想接地線6と接地電圧GNDとの間に並列に接続された複数のトランジスタ70を含む。複数のトランジスタ70は、複数の論理回路ブロック30が形成される半導体集積回路80の上面に形成され、酸化物半導体をチャネル層とする薄膜トランジスタにより構成される。
【選択図】図1
【解決手段】半導体演算装置1は、複数の論理回路ブロック30のうちの待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断(パワーゲーティング)するための電源スイッチ7を備える。電源スイッチ7は、仮想接地線6と接地電圧GNDとの間に並列に接続された複数のトランジスタ70を含む。複数のトランジスタ70は、複数の論理回路ブロック30が形成される半導体集積回路80の上面に形成され、酸化物半導体をチャネル層とする薄膜トランジスタにより構成される。
【選択図】図1
Description
この発明は、半導体装置に関し、より特定的には、パワーゲーティングを行なうためのスイッチング素子を備えた半導体装置に関する。
近年、携帯電話を中心としたモバイル機器のシステム性能が著しく向上し、これに対応するための半導体装置の微細化技術も同様に進展している。このような半導体装置の微細化によって、半導体装置におけるリーク電流の低減が困難となってきている。このリーク電流は、半導体装置の消費電力を増大させるとともに、動作クロックの高速化を困難にする。
モバイル機器の低消費電力化を実現するためには、回路設計技術と半導体デバイス(プロセス)技術とをリンクさせることで、半導体装置の微細化における上記問題点を回避する必要がある。そのような技術の1つとして、パワーゲーティングがある(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。
パワーゲーティングとは、半導体演算装置内部の論理回路をいくつかの論理回路ブロックに分割し、待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断する操作のことである。非特許文献1には、非活性の論理ブロックへの電源供給をnチャネル型FET(Field Effect Transistor)からなるスイッチング素子で遮断する構成が示される。また、特許文献1には、上記のスイッチング素子にMEMS(Micro-Electro-Mechanical Switch)スイッチを用いる構成が示される。このようにして非活性の論理回路ブロックのリーク電流をゼロにすることにより、半導体演算装置全体でのリーク電流を減らし、低消費電力化を実現する。
Alexander Branover et al., "AMD Fusion APU:LLANO", IEEE MICRO, Volume 32, Issue 2, 2012, pp.28-37.
パワーゲーティングに用いるスイッチング素子としては、オフ時に流れる電流(以下、オフリーク電流とも称する)が十分に小さいことが要求される。さらに、オン抵抗が十分に低いことが求められる。
上記の非特許文献1のように、半導体集積回路(IC:Integrated Circuit)と同一の基板上にスイッチング素子を形成する構成では、複数個のFETを並列接続させることによってスイッチング素子のオン抵抗を小さくできる一方で、スイッチング素子の占有面積が大きくなるために半導体集積回路のチップ面積を増大させるという問題がある。
また、上記の特許文献1のように、MEMSスイッチを用いる構成では、静電駆動されるMEMSスイッチの接点部にスティクション(固着)が起こるため、スイッチの動作不良が発生しやすいという問題がある。このスティクションを防止するには高電圧が用いられるが、低消費電力のデバイスには適用が困難である。また、半導体集積回路の製造プロセス以外にMEMSスイッチの可動構造を形成するための工程が必要となるため、プロセスが複雑化するという問題もある。
それゆえ、この発明はかかる課題を解決するためになされたものであり、その目的は、小面積でパワーゲーティングが可能な半導体装置を、簡易な製造プロセスで実現することである。
この発明のある局面では、半導体装置は、半導体集積回路により構成され、複数の論理回路ブロックを含む内部回路と、複数の論理回路ブロックのうちの待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断するためのスイッチング素子とを備える。スイッチング素子は、半導体集積回路の上面に形成され、酸化物半導体をチャネル層とする薄膜トランジスタである。
この発明によれば、小面積でパワーゲーティングが可能な半導体装置、特に半導体演算装置を簡易な製造プロセスで実現できる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明を繰返さない。
図1は、この発明の実施の形態による半導体装置の代表例として示される半導体演算装置の構成を概略的に示すブロック図である。
図1を参照して、半導体演算装置1は、一例としてCPU(Central Processing Unit)を構成する。半導体演算装置1は、電源回路2と、論理回路3と、周辺回路4と、電源線5と、仮想接地線6とを備える。
電源回路2は、半導体演算装置1の外部から供給される外部電源電圧VCCを降圧した内部電源電圧VDDを生成し、その生成した内部電源電圧VDDを電源線5に供給する。内部電源電圧VDDは、論理回路3および周辺回路4などの内部回路の駆動電圧として用いられる。
論理回路3は、電源線5および仮想接地線6の間に接続される。仮想接地線6は、接地電圧GNDに直接接続されず、その電圧レベルが変更可能な接地線である。周辺回路4は、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)およびキャッシュメモリなどのメモリ回路を含む。
論理回路3は、複数の論理回路ブロックに分割される。図1には、論理回路ブロック30が代表として示されている。複数の論理回路ブロックに対してはパワーゲーティングが実行される。具体的には、半導体演算装置1は、パワーゲーティングを行なうための構成として、複数の電源スイッチ7と、電源制御回路8とをさらに備える。
複数の電源スイッチ7は、複数の論理回路ブロックにそれぞれ対応して設けられる。なお、図1では図解を容易にするために、論理回路ブロック30に対応する電源スイッチ7のみが示されている。
電源スイッチ7は、仮想接地線6と接地電圧GNDとの間に並列に接続された複数のトランジスタ70を含む。各トランジスタ70のドレイン端子は対応の論理回路ブロック30の仮想接地線6に接続され、ソース端子は接地電圧GNDに接続される。複数のトランジスタ70のオン(導通)/オフ(非導通)によってパワーゲーティングが実行される。
電源制御回路8は、複数のトランジスタ70のオン/オフを制御するための制御信号を出力する。具体的には、電源制御回路8は、動作状態にある論理回路ブロックに対応する電源スイッチ7(トランジスタ70)をオンするように制御信号を出力する。これにより、当該論理回路ブロックは、電源スイッチ7を介して接地電圧GNDの供給を受ける。
これに対して、電源制御回路8は、待機状態にある論理回路ブロックに対応する電源スイッチ7(トランジスタ70)をオフするように制御信号を出力する。これにより、当該論理回路ブロックへの接地電圧GNDの供給が遮断される。このように待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断することにより、リーク電流を減らし、低消費電力化を実現する。
(電源スイッチ7の構成)
図1に示した半導体演算装置1は、単一の半導体基板上に形成された半導体集積回路(IC)80によって構成される。この半導体集積回路80を構成する主要な半導体素子は、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)トランジスタなどで形成されている。したがって、電源スイッチ7のトランジスタ70についても、内部回路を構成する半導体素子と同一の半導体基板上に形成することが一般的である。例えば、トランジスタ70は、NMOS(Negative-channel MOS)トランジスタにより構成される。
図1に示した半導体演算装置1は、単一の半導体基板上に形成された半導体集積回路(IC)80によって構成される。この半導体集積回路80を構成する主要な半導体素子は、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)トランジスタなどで形成されている。したがって、電源スイッチ7のトランジスタ70についても、内部回路を構成する半導体素子と同一の半導体基板上に形成することが一般的である。例えば、トランジスタ70は、NMOS(Negative-channel MOS)トランジスタにより構成される。
ここで、電源スイッチ7のトランジスタ70としては、上述したパワーゲーティングを実行するために、オフ時に流れる電流(オフリーク電流)が十分に小さいことが要求される。さらに、トランジスタ70のオン抵抗が十分に低いことが求められる。
MOSトランジスタのオン抵抗を下げるための手法としては、一般的に、MOSトランジスタのチャネル幅を大きくする、もしくは、複数個のMOSトランジスタを並列接続する構成が利用される。しかしながら、前者の場合、MOSトランジスタのチャネル長が限界まで短縮されている状態でチャネル幅を大きくしても、所望のオフリーク電流の低減効果は十分に見込めない。
また、後者の場合では、各MOSトランジスタのオフリーク電流の総和が電源スイッチ7に流れることになるので無視できなくなる。さらには、電源スイッチ7の占有面積が増えるため、半導体集積回路80のチップ面積が大きくなるという問題がある。したがって、トランジスタ単体で、オン抵抗が低く、かつ、オフリーク電流が小さいという特性を満たす必要がある。
そこで、この発明の実施の形態では、電源スイッチ7のトランジスタ70に、インジウム(In)−ガリウム(Ga)−亜鉛(Zn)−酸素(O)系のアモルファス酸化物半導体(a−IGZO)をチャネル層とする薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)を用いる。このような酸化物半導体をチャネル層としたTFTは、「酸化物半導体TFT」とも称される。なお、酸化物半導体は、Zn、Ga、Inまたは錫(Sn)を基本とする酸化物であるか、あるいは、これらの複合酸化物である酸化亜鉛(ZnO)、インジウム−ガリウム−亜鉛酸化物(InGaZnO4)、インジウム−亜鉛酸化物(Zn−In−O)、または亜鉛−錫酸化物(Zn−Sn−O)から成ってもよい。以下の説明では、a−IGZOをチャネル層とする酸化物半導体TFTを「a−IGZO TFT」とも表記する。
図2に、a−IGZO TFTのゲート電圧(Vg)−ドレイン電流(Id)特性を示す。図2を参照して、a−IGZO TFTは、a−Si(アモルファスシリコン)TFTと比較して、チャネル層中の伝導キャリアの動き易さを示す電界効果移動度が高いため、オン抵抗が低く、高速で動作できる。また、a−SiTFTと比較してオフ抵抗が高いため、オフリーク電流が約100分の1程度にまで抑えられる。このように、a−IGZO TFTは、a−SiTFTと比較して、優れた電流オン・オフ比(On/Off比)を有している。
この発明の実施の形態では、このa−IGZO TFTを電源スイッチ7のトランジスタ70に適用する。a−IGZO TFTが有する高いOn/Off比を活かして、電源遮断効果の高い電源スイッチ7を小さい回路規模で実現する。
その一方で、a−IGZO TFTをCMOS構成の半導体集積回路と一体的に形成するために、既存のSiプロセスラインをそのまま用いることは困難である。In、Ga、Zn等の元素をSiプロセスラインで用いた場合、重金属汚染によって下地のSiトランジスタのゲート酸化膜に欠陥準位が形成される可能性があり、半導体集積回路の歩留まりや信頼性に影響を及ぼすためである。したがって、このような相互汚染を防止するためには、a−IGZO TFTを形成する工程以降を行なうための専用の設備が必要となり、膨大な設備投資が余儀なくされる。
そこで、本実施の形態による半導体装置では、半導体集積回路80を既存のSiプロセスを用いて形成した後、その半導体集積回路80の上面にa−IGZO TFTを形成する。具体的には、SiプロセスにおいてSiトランジスタ全体を覆うように最終保護膜を形成した後、その最終保護膜の上面にa−IGZO TFTを形成する。すなわち、Siトランジスタは最終保護膜で覆われているため、上述した相互汚染が回避される。その結果、既存のSiプロセスラインに対する新たな設備投資を低減できる。
なお、最終保護膜上にa−IGZO TFTを形成する条件として、最終保護膜の形成温度よりも高温となるプロセスを適用することが禁じられる。高温のプロセスを経ることによって、下層のSiトランジスタの特性や配線の信頼性に影響を及ぼすためである。a−IGZO TFTでは、チャネル層となる酸化物半導体膜がアモルファス構造であるため、常温で成膜可能である。したがって、上記の条件を容易に満たすことができる。
以下、この発明の実施の形態による半導体演算装置1の具体的な構成について、図面を参照して詳細に説明する。
図3は、この発明の実施の形態による半導体演算装置1の断面図である。
図3を参照して、トランジスタ70は、半導体集積回路80の上面に形成される。半導体集積回路80は、上述したように、既存のSiプロセスを用いて形成される。
図3を参照して、トランジスタ70は、半導体集積回路80の上面に形成される。半導体集積回路80は、上述したように、既存のSiプロセスを用いて形成される。
具体的には、最初に、半導体基板40の主表面に、MOSトランジスタ10を形成する。詳細には、まず、半導体基板40の主表面に、距離を隔てて複数の素子分離領域20を形成する。素子分離領域20は、複数のMOSトランジスタ10を電気的に分離する機能を有する。素子分離領域20を形成した後、活性領域においてゲート絶縁膜12およびゲート電極14を形成する。次いで、ドレイン領域となる拡散層領域16およびソース領域となる拡散層領域18をイオン注入により形成する。
次に、半導体基板40の主表面の全面に、第1層間絶縁膜50を堆積する。第1層間絶縁膜50は、例えば、BPSG(Boron Phosphorous Silicate Glass)からなる。次いで、第1層間絶縁膜50上にパターニングされたレジスト膜(図示せず)を堆積し、このレジスト膜をマスクとして、コンタクトとなる部分の第1層間絶縁膜50を選択的に除去することにより、コンタクトホール22を形成する。そして、レジスト膜を除去した後に、コンタクトホール22を導体材料で埋め込むことにより、コンタクトプラグを形成する。
次に、第1層間絶縁膜50上に所定の配線材料(例えば、TiN/Al−Si/TiN/Ti)を成膜した後、この配線材料に対して公知のフォトリソグラフィおよびドライエッチングを行なうことにより、第1配線24を形成する。
次に、第1層間絶縁膜50が形成された半導体基板40の主表面の全面に、第2層間絶縁膜52を堆積する。そして、第2層間絶縁膜52上にパターニングされたレジスト膜(図示せず)を堆積し、このレジスト膜をマスクとして、コンタクトとなる部分の第2層間絶縁膜52を選択的に除去することにより、コンタクトホール26を形成する。そして、レジスト膜を除去した後に、コンタクトホール26を導体材料で埋め込むことにより、コンタクトプラグを形成する。
次に、第2層間絶縁膜52上に所定の配線材料(例えば、TiN/Al−Si/TiN/Ti)を成膜した後、この配線材料に対して公知のフォトリソグラフィおよびドライエッチングを行なうことにより、第2配線28を形成する。
次に、第2層間絶縁膜52が形成された半導体基板40の主表面の全面に、第3層間絶縁膜54を堆積する。そして、第3層間絶縁膜54上にパターニングされたレジスト膜(図示せず)を堆積し、このレジスト膜をマスクとして、コンタクトとなる部分の第3層間絶縁膜54を選択的に除去することにより、コンタクトホール29を形成する。そして、レジスト膜を除去した後に、コンタクトホール29を導体材料で埋め込むことにより、コンタクトプラグを形成する。
次に、第3層間絶縁膜54上に所定の配線材料(例えば、TiN/Al−Si/TiN/Ti)を成膜した後、この配線材料に対して公知のフォトリソグラフィおよびドライエッチングを行なうことにより、第3配線32を形成する。
最後に、第3層間絶縁膜54が形成された半導体基板40の主表面の全面に、最終保護膜56を堆積する。そして、最終保護膜56上にパターニングされたレジスト膜(図示せず)を堆積し、このレジスト膜をマスクとして、コンタクトとなる部分の最終保護膜56を選択的に除去し、コンタクトホール34を形成する。そして、レジスト膜を除去した後に、コンタクトホール34を導体材料で埋め込むことにより、コンタクトプラグを形成する。
以上に説明した製造工程によって半導体集積回路80が形成されると、次いで、半導体集積回路80の最終保護膜56の上面には、電源スイッチ7のトランジスタ70(図1)を構成するa−IGZO TFTが形成される。図3に示すように、a−IGZO TFTは、ボトムゲート構造を有している。詳細には、a−IGZO TFTは、最終保護膜56上に形成されたゲート電極62と、ゲート電極62を覆うように設けられたゲート絶縁層64と、ゲート絶縁層64上でゲート電極62と重なるように島状に設けられたチャネル領域を有する酸化物半導体層66と、酸化物半導体層66およびゲート絶縁層64上において、ゲート電極62に重なるとともにチャネル領域を挟んで互いに対峙するように設けられたソース電極68およびドレイン電極69と、チャネル領域を保護するための絶縁膜72とを備える。酸化物半導体層66は、a−IGZO系の酸化物半導体により構成されている。また、ゲート電極62は、第1導電層62aおよび第2導電層62bの積層膜により構成されている。
次に、図3に示すトランジスタ70(a−IGZO TFT)の製造工程の一例について図面を用いて説明する。図4は、a−IGZO TFTの製造工程を断面で示す説明図である。なお、図4に示す製造工程は、半導体集積回路80が製造された後に実行されるものである。
図4(a)を参照して、最初に、半導体集積回路80の最終保護膜56(図3)の上面の全体に、スパッタリング法により、第1金属膜90(例えば、アルミニウム膜)を形成し、次いで、第1金属膜90上に、第2金属膜91(例えば、チタン膜)を順に形成して積層する。そして、第1金属膜90および第2金属膜91を覆うように、スピンコート法により、感光性樹脂92を塗布する。
次に、フォトマスク(図示せず)を用いて感光性樹脂92に対して露光処理を行ない、露光処理が行なわれた感光性樹脂92に対して現像処理を行なうことにより、図4(b)に示すように、レジスト膜93を形成する。そして、このレジスト膜93をマスクとして、所定のエッチングガスを使用したドライエッチングを行なうことにより、第1金属膜90および第2金属膜91をパターニングして、図4(c)に示すように、第1金属膜90からなる第1導電層62aと第2金属膜91からなる第2導電層62bとが積層されたゲート電極62を形成する。
次に、レジスト膜93を除去した後、ゲート電極62が形成された半導体集積回路80の主表面の全体に、CVD法により、例えば窒化シリコン膜を成膜する。これにより、図4(d)に示すように、ゲート電極60を覆うように、ゲート絶縁層64を形成する。
次いで、アモルファス状の酸化物半導体材料94を、例えばスピンコート法により、ゲート絶縁層64上に塗布する。アモルファス状の酸化物半導体材料としては、a−IGZO系の酸化物半導体材料が用いられる。酸化物半導体材料94はアモルファス状であるため、図4(e)に示すように、酸化物半導体材料94の表面は平坦になる。
次に、図4(f)に示すように、酸化物半導体材料94に対してエッチング処理が施されることにより、ゲート絶縁層64を挟んでゲート電極62の上に酸化物半導体層66が形成される。次いで、酸化物半導体層66が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えばチタン膜およびアルミニウム膜を順に成膜した後、そのアルミニウム膜およびチタン膜に対してフォトリソグラフィおよびエッチングを行なうことにより、ソース電極68およびドレイン電極69を形成する。最後に、a−IGZO TFTが形成された基板全体を覆うように絶縁膜72を形成する。
以上のようにして、半導体集積回路80の上面に、トランジスタ70を構成するa−IGZO TFTが形成される。なお、トランジスタ70と半導体集積回路80内のMOSトランジスタ10(図3)とは、層間絶縁膜50,52,54および最終保護膜56に形成されたコンタクトプラグおよび配線24,28,32によって電気的に接続される。
このように、この発明の実施の形態では、電源スイッチ7を構成するトランジスタ70を半導体集積回路80の上面に形成するため、半導体集積回路80のチップ面積を増大させることなく電源スイッチ7を形成することができる。また、チップ面積低減のためにトランジスタ70を形成するスペースが制約されることがないため、素子サイズ(チャネル長およびチャネル幅)を大きくすることができ、トランジスタ70のオン抵抗をより一層低減することが可能となる。
なお、トランジスタ70は、論理回路3、周辺回路4および電源制御回路8の少なくとも1つが形成される回路領域の上部に形成される。図5には、一例として、周辺回路4が形成される回路領域の上部にトランジスタ70が形成された構成を例示する。この構成例では、トランジスタ70と周辺回路4とを電気的に接続するための配線を短くできるため、配線の負荷を低減できる。なお、電源制御回路8が形成される回路領域の上部にトランジスタ70を形成する構成においても、同様の効果が得られる。
一方、図示は省略するが、論理回路3が形成される回路領域の上部にトランジスタ70を形成する構成とした場合には、論理回路3の占有面積が広いことを利用して、素子サイズの大きい(すなわち、オン抵抗の小さい)a−IGZO TFTを形成できる。
また、上記の実施の形態では、トランジスタ70にa−IGZO TFTを適用した構成について例示したが、必ずしもこれに限定されるものではなく、結晶性を有するIGZOを用いたTFTを適用してもよい。
なお、上記の実施の形態では、仮想接地線6と接地電圧GNDとの間に電源スイッチ7を設ける構成について例示したが、これは、トランジスタ70を構成するa−IGZO TFTが一般的にnチャネル型のTFTであることによる。したがって、pチャネル型のTFTを電源線5と論理回路3との間に電源スイッチ7を接続する構成としてもよい点について確認的に記載する。
今回開示された実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 半導体演算装置、2 電源回路、3 論理回路、4 周辺回路、5 電源線、6 仮想接地線、7 電源スイッチ、8 電源制御回路、10 MOSトランジスタ、30 論理回路ブロック、70 トランジスタ、80 半導体集積回路。
Claims (3)
- 半導体集積回路により構成され、複数の論理回路ブロックを含む内部回路と、
前記複数の論理回路ブロックのうちの待機状態にある論理回路ブロックへの電源供給を遮断するためのスイッチング素子とを備え、
前記スイッチング素子は、前記半導体集積回路の上面に形成され、酸化物半導体をチャネル層とする薄膜トランジスタである、半導体装置。 - 前記複数の論理回路ブロックは、仮想接地線に接続され、
前記スイッチング素子は、前記仮想接地線と接地電圧との間に接続される、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記内部回路は、周辺回路と、前記スイッチング素子を制御する制御回路とをさらに含み、
前記スイッチング素子は、前記半導体集積回路において、前記複数の論理回路ブロック、前記周辺回路および前記制御回路の少なくとも1つが形成される回路領域の上部に形成される、請求項1または2に記載の半導体装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020217396A1 (ja) * | 2019-04-25 | 2020-10-29 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置 |
US11037876B2 (en) * | 2018-09-07 | 2021-06-15 | Shanghai Zhaoxin Semiconductor Co., Ltd. | Power network and method for routing power network |
US11349033B2 (en) | 2020-03-24 | 2022-05-31 | Kioxia Corporation | Semiconductor device and semiconductor memory device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002158576A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-31 | Sharp Corp | 半導体集積回路 |
JP2008085571A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Nec Electronics Corp | 半導体集積回路 |
JP2011142314A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-07-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2012094171A (ja) * | 2011-12-19 | 2012-05-17 | Renesas Electronics Corp | 携帯電話 |
JP2012257187A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体集積回路 |
-
2013
- 2013-02-04 JP JP2013019278A patent/JP2014150481A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002158576A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-31 | Sharp Corp | 半導体集積回路 |
JP2008085571A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Nec Electronics Corp | 半導体集積回路 |
JP2011142314A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-07-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2012257187A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体集積回路 |
JP2012094171A (ja) * | 2011-12-19 | 2012-05-17 | Renesas Electronics Corp | 携帯電話 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11037876B2 (en) * | 2018-09-07 | 2021-06-15 | Shanghai Zhaoxin Semiconductor Co., Ltd. | Power network and method for routing power network |
WO2020217396A1 (ja) * | 2019-04-25 | 2020-10-29 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置 |
JPWO2020217396A1 (ja) * | 2019-04-25 | 2020-10-29 | ||
JP7272426B2 (ja) | 2019-04-25 | 2023-05-12 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置 |
US11349033B2 (en) | 2020-03-24 | 2022-05-31 | Kioxia Corporation | Semiconductor device and semiconductor memory device |
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