JP2014141712A - 無電解めっき用のセンシタイジング液および無電解めっき方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】pHが2〜9の範囲にあり、溶液中のスズ濃度が0.001〜5.0mol/Lの範囲であるスズのゾル溶液からなるセンシタイジング液を用いて被めっき体にスズ化合物のコーティング膜を形成させるセンシタイジング工程と、その後濃度0.001〜0.1mol/Lのパラジウムを含むアクティベーション液に浸漬する活性化処理工程と、により無電解めっきを行う。
【選択図】図1
Description
Sn2+ + Pd2+ → Sn4+ + Pd0
本発明は以下の通りである。
(実施例1)
塩化スズ0.05mol/Lを蒸留水に溶解し、pHを7〜8へ調整した。生じた沈殿物をろ過、洗浄後、イオン交換水中に分散させ、スズ化合物のゾル溶液をセンシタイジング液として作製した。液は透明でpHは7であり、その後1ヶ月以上安定な状態を維持していた。液のゲル化は2ヶ月後であった。
硝酸銀溶液および塩化パラジウム溶液を中間処理液およびアクチベーティング処理液として用い以下の無電解ニッケルめっきを行った。
スライドガラスを基材として、上記センシタイジング液と中間処理液とアクチベーティング液に順次浸漬し、以下に示す組成および条件で無電解ニッケルーリンめっきを行った。得られためっき皮膜を図1に示す。被めっき体はきれいにニッケルめっきされており、蛍光X線分析測定による膜厚は0.8μm、リン濃度は9.2%であった。テープ引き剥がし試験による密着性も良好であった。
硫酸ニッケル6水和物 0.15mol/L
次亜リン酸ナトリウム 0.38mol/L
酢酸 0.15mol/L
pH 5.5
浴温 60℃
時間 15分
実施例1で作製したスズ化合物のゾル溶液を30日保管した後、実施例1と同様の処理を行いスライドガラス上に無電解ニッケルーリンめっきを行った。得られためっき皮膜を図2に示す。めっき組成および条件は実施例1と同様である。被めっき体はきれいにニッケルめっきされており、蛍光X線分析測定による膜厚は1.3μm、リン濃度は8.3%であった。テープ引き剥がし試験による密着性も良好であった。
実施例1と同様のセンシタイジング液とアクチベーティング液を用い、ガラス基板を被めっき体として、無電解ニッケルーリンめっきを行った。得られためっき皮膜を図3に示す。めっき組成および条件は実施例1と同様である。被めっき体はきれいにニッケルめっきされており、蛍光X線分析測定による膜厚は1.1μm、リン濃度は8.1%であった。テープ引き剥がし試験による密着性も良好であった。
実施例1のセンシタイジング液と中間処理液とアクチベーティング液を用い、ABS樹脂を被めっき体として、無電解ニッケルーリンめっきを行った。得られためっき皮膜を図4に示す。めっき組成および条件は実施例1と同様である。被めっき体はきれいにニッケルめっきされており、蛍光X線分析測定による膜厚は0.7μm、リン濃度は6.8%であった。テープ引き剥がし試験による密着性も良好であった。
Claims (8)
- スズのゾル溶液を用いて被めっき体にスズ化合物のコーティング膜を形成させることを特徴とする無電解めっき用センシタイジング液。
- スズ塩から作製されるスズコロイドが溶媒に分散しているゾル溶液である請求項1に記載の無電解めっき用センシタイジング液。
- pHが2〜9の範囲にある請求項2に記載の無電解めっき用センシタイジング液。
- 溶液中のスズ濃度が0.001〜5.0mol/Lの範囲である請求項3に記載の無電解めっき用センシタイジング液。
- 溶媒が水溶液もしくは水溶性アルコールと水の混合溶媒で形成されている請求項4に記載の無電解めっき用センシタイジング液。
- センシタイジング液を用いて被めっき体にスズ化合物のコーティング膜を形成するセンシタイジング工程と、次いでアクチベーティング液に浸漬し活性化処理工程を行うことで無電解めっきすることを特徴とする無電解めっき方法。
- センシタイジング処理工程と無電解めっき工程の間に、被めっき体を、濃度0.001〜0.1mol/Lのパラジウムを含むアクチベーティング液に浸漬する活性化処理工程を行うことを特徴とする請求項6に記載の無電解めっき方法。
- センシタイジング処理工程と活性化処理工程の間に、前記被めっき体を、濃度0.001〜0.1mol/Lの銀を含む溶液に浸漬する中間処理工程を行うことを特徴とする請求項6または7に記載の無電解めっき方法。
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