JP2014141399A - シリコン鋳造用鋳型およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一形態に係るシリコン鋳造用鋳型は、鋳型1の内側表面に離型材層2を設けたシリコン鋳造用鋳型であって、離型材層2は、平均粒径が下記式を満足する第1酸化珪素、第2酸化珪素および窒化珪素を含んでいる。
第1の酸化珪素の平均粒径<窒化珪素の平均粒径<第2の酸化珪素の平均粒径
【選択図】図1
Description
第1の酸化珪素の平均粒径<窒化珪素の平均粒径<第2の酸化珪素の平均粒径
また、本発明の一形態に係るシリコン鋳造用鋳型の製造方法は、鋳型の内側表面に、下記式を満足する第1の酸化珪素、第2の酸化珪素および窒化珪素を含んでいる離型材層を設ける。
第1の酸化珪素の平均粒径<窒化珪素の平均粒径<第2の酸化珪素の平均粒径
1の酸化珪素粉末が取り巻くように存在する。これにより、窒化珪素粉末同士を強く結合することができて、離型材が剥離してシリコン融液中に混入するのを低減できる。
積基準で測定した結果から求めることができる、例えば、平均粒径は測定対象となる粒子径(最小粒子径:d1、最大粒子径:dn+1)の測定範囲をn分割したそれぞれの粒子径区間の代表粒子径Diと、 それぞれの粒子径区間に対応する粒度分布比率Yiとの積
の総和の式、すなわち、Σ[i=1,n]Di・Yiから求めることができる。
2:離型材層
101:底部材
102:側部材
201:窒化珪素
201a:酸化珪素皮膜
202:酸化珪素
202a:第1の酸化珪素
202b:第2の酸化珪素
Claims (7)
- 鋳型の内側表面に離型材層を設けたシリコン鋳造用鋳型であって、
前記離型材層は、下記式を満足する第1の酸化珪素、第2の酸化珪素および窒化珪素を含んでいるシリコン鋳造用鋳型。
第1の酸化珪素の平均粒径<窒化珪素の平均粒径<第2の酸化珪素の平均粒径 - 前記第1の酸化珪素、前記第2の酸化珪素および前記窒化珪素のそれぞれの平均粒径は粒度分布測定法によって判別されて、前記第1の酸化珪素の平均粒径を示すピークと前記第2の酸化珪素の平均粒径を示すピークとの間に前記窒化珪素の平均粒径を示すピークが存在する請求項1に記載のシリコン鋳造用鋳型。
- 前記鋳型が黒鉛製である請求項1または2に記載のシリコン鋳造用鋳型。
- 前記第1の酸化珪素の平均粒径が0.3μm以下、前記第2の酸化珪素の平均粒径が10μm以上50μm以下であり、
前記離型材層における前記第1の酸化珪素の含有量は、前記離型材層に含まれる酸化珪素の総質量を100質量部とした場合に1質量部以上10質量部以下であり、
かつ、前記離型材層における前記窒化珪素の含有量は、前記離型材層に含まれる酸化珪素の総質量を100質量部とした場合に100質量部以上300質量部以下である請求項1乃至3のいずれかに記載のシリコン鋳造用鋳型。 - 前記第1の酸化珪素が非晶質である請求項1乃至4のいずれかに記載のシリコン鋳造用鋳型。
- 前記第1の酸化珪素はBET法による比表面積が10m2/g以上300m2/g以下である請求項1乃至5のいずれかに記載のシリコン鋳造用鋳型。
- 鋳型の内側表面に、下記式を満足する第1の酸化珪素、第2の酸化珪素および窒化珪素を含んでいる離型材層を設けるシリコン鋳造用鋳型の製造方法。
第1の酸化珪素の平均粒径<窒化珪素の平均粒径<第2の酸化珪素の平均粒径
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