JP2014138008A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1導電型の第1の半導体層、活性層、第2導電型の第2の半導体層がこの順に積層されているAlGaInP系半導体からなる半導体構造層11と、第1の半導体層上に形成されている第1の電極37と、第2の半導体層上に形成されている第2の電極とを含み、第1の電極は第2の電極が形成されている領域と半導体構造層を挟んで対向している領域以外の領域に形成され、第2の電極は第2の半導体層とショットキー接合を形成している給電配線33、及び給電配線から伸張し第2の半導体層とオーミック接合を形成している配線電極31を含み、半導体構造層を挟んで給電配線が形成されている領域に対向する領域の第1の半導体層上に第1の半導体層とショットキー接合を形成している対向電極39が形成されている。
【選択図】図1
Description
10 発光素子
11 半導体構造層
13 p型半導体層
15 活性層
17 n型クラッド層
19 電流拡散機能層
21 表面加工層
23 n型半導体層
25 第1の低抵抗層
27 高抵抗層
29 第2の低抵抗層
31 n配線電極
33 n給電配線
35 ボンディングパッド
37 p電極
39 対向電極
41 透光性絶縁層
43 反射金属層
45 半導体側接合層
47 支持基板側接合層
49 支持基板
51 成長基板
Claims (5)
- 第1の導電型の第1の半導体層、活性層、及び第2の導電型の第2の半導体層がこの順に積層されているAlGaInP系半導体からなる半導体構造層と、
前記第1の半導体層上の一部に形成されている第1の電極と、
前記第2の半導体層上の一部に形成されている第2の電極と、を含み、
前記第1の電極は、前記第2の電極が形成されている領域と前記半導体構造層を挟んで対向している領域以外の領域に形成されており、
前記第2の電極は、前記第2の半導体層とショットキー接合を形成している給電配線、及び前記給電配線から伸張し、前記第2の半導体層とオーミック接合を形成している配線電極を含み、
前記半導体構造層を挟んで前記給電配線が形成されている領域に対向する領域の前記第1の半導体層上に前記第1の半導体層とショットキー接合を形成している対向電極が形成されており、
前記第2の半導体層は、前記活性層側からクラッド層、電流拡散機能層が順に形成されている構成を少なくとも含み、前記電流拡散機能層は、複数の低抵抗層と、前記複数の低抵抗層の各々の間に挟まれており、前記低抵抗層よりも抵抗率が高い高抵抗層とからなることを特徴とする半導体発光素子。 - 前記複数の低抵抗層において、前記活性層から遠い層が前記活性層に近い層よりもAl組成が小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の低抵抗層において、前記活性層から遠い層が前記活性層に近い層よりも層厚が大きいことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の低抵抗層の各々の層厚が、前記活性層から出射する光の前記複数の低抵抗層の各々内での波長未満であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の低抵抗層に対する前記高抵抗層の比抵抗が10倍以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載の半導体発光素子。
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2013
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