JP2014135334A - 基板加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 エア供給源であるエア吸引装置の省力化、並びに、各吸着板につながるエア配管の簡略化を図ることが可能な基板加工装置を提供する。
【解決手段】 基板Wを吸着して反転させる吸着板18を備えた吸着反転装置Cと、該吸着反転装置Cの吸着板18に対し、基板Wを受け渡すための昇降可能な吸着板32を備えた吸着昇降装置Dとを有する基板加工装置Aであって、吸着反転装置Cの吸着板18と吸着昇降装置Dの吸着板32の吸引エアは、同一のエア吸引装置48から供給されるように形成され、基板の受け渡し時に切換バルブ50を介して切り換わるように構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、ガラス、シリコン、セラミック、化合物半導体等の脆性材料からなる基板に分断用のスクライブラインを加工したり、このスクライブラインに沿って基板を分断したりする基板加工装置に関する。
従来より、テーブル上に載置した基板に対し、カッターホイール(スクライビングホイールともいう)を所定のスクライブ圧を加えた状態で転動させたり、レーザービームの照射による熱歪を利用したりして、互いに直交する複数条の平行なスクライブラインを形成し、その後に、基板を表裏反転させて、当該スクライブラインを設けた面とは反対側の面からブレイクバーを押し当てて基板を撓ませることにより基板を分断し、単位製品を取り出す方法が、例えば特許文献1等で開示されている。
また、2枚のガラス基板を貼り合わせた基板の分断方法についても、例えば特許文献2(図45等)には、以下に示す手順で分断する方法が開示されている。すなわち、スクライブ装置のテーブル上に載置された基板に対して、カッターホイールを転動させることにより、基板の一方の面であるa面にスクライブラインを形成する。次いで、吸着反転装置で基板を吸着し反転させた後、ブレイク装置のテーブル上に載置し、基板a面の裏面となる基板b面をブレイクバー等で押圧して基板a面をブレイクする。次いで、上記と同様に、基板b面にスクライブラインを形成し、基板を反転させた後、基板a面をブレイクバー等で押圧して基板b面を分断する。この後、分断された基板をブレイク装置から除材して次の工程へ移行するようにしている。
国際公開WO2005/053925号公報 国際公開WO2002/057192号公報
上記のような基板の加工方法において、基板を反転させる際に用いられる吸着反転装置は、基板を吸着して反転させる吸着板を備えている。そして、吸着反転装置の吸着板からテーブル等の載置台へ基板を移したり、或いは載置台から前記吸着板に基板を受け渡したりする際には、吸着ロボットや、吸着昇降装置が用いられている。
一般的な吸着昇降装置は、基板を吸着して上下に昇降する吸着板を備えている。ここで、吸着反転装置に対して基板を受け渡す際は、例えば、吸着反転装置の吸着板を反転させることにより上向きに吸着されている基板に対し、吸着昇降装置の吸着板を上方から降下させて基板上面に接触させる。そして、吸着反転装置の吸着板の吸引エアをOFFにすると共に吸着昇降装置の吸着板の吸引エアをONにして基板を受け渡すようにしている。
従来では、吸着反転装置と吸着昇降装置は、それぞれ専用のエア吸引装置を備えており、各吸着板に対して対応するエア吸引装置から別配管で接続されていたため、付帯設備費が高くなるとともに、エア配管の設置が複雑になるといった問題があった。加えて、各吸着板に吸引エアのON/OFF動作を行う開閉バルブや電気配線等がそれぞれ必要となって部品点数が増え、設備が複雑になるといった課題もあった。
そこで本発明は、上記した従来課題に鑑み、吸引エアの供給源であるエア吸引装置の省力化並びに各吸着板につながるエア配管の簡略化を図ることができる吸着反転装置並びに吸着昇降装置を備えた基板加工装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明の基板加工装置は、基板を吸着して反転させる吸着板を備えた吸着反転装置と、該吸着反転装置の吸着板に対し、基板を受け渡すための昇降可能な吸着板を備えた吸着昇降装置とを有する基板加工装置であって、前記吸着反転装置の吸着板と吸着昇降装置の吸着板の吸引エアは、同一のエア吸引装置から供給されるように形成され、基板の受け渡し時に切換バルブを介して切り換わるように形成されている構成とした。
本発明の基板加工装置は上記のごとく構成されているので、吸着反転装置の吸着板と吸着昇降装置の吸着板の吸引エア供給源となるエア吸引装置は一つで済み、これにより構成部材の削減と各吸着板へのエア配管の簡略化ができて、基板加工装置全体のコストの低減化を図ることができるといった効果がある。
上記発明において、前記切換バルブの切り換え動作は、吸着昇降装置または吸着反転装置の吸着板の吸引エアを操作する一つのスイッチで行われるように構成するのがよい。
これにより、基板受け渡し時に前記した一つのスイッチを押すだけのワンタッチ操作で、吸着反転装置の吸着板と吸着昇降装置の吸着板の吸引エアの切り換えを行うことが可能となる。これにより、基板の受け渡しの際に、受け渡し側のエア吸引を停止する動作と受取り側のエア吸引を開始する動作が同時に切り替わるので、いずれか一方側によりエア吸引を持続することができ、両方同時に吸引状態になったり、両方同時に吸引が停止された状態になったりすることがなくなるので安全確実に受け渡しを行うことができる。
本発明に係る基板加工装置の全体構成を示す斜視図。 図1の基板加工装置におけるスクライブ装置の概略的な正面図。 図1の基板加工装置における吸着反転装置の全体構成を示す斜視図。 図3の吸着反転装置の一部拡大断面図。 図3の吸着反転装置における吸着板の下動状態を示す図4同様の断面図。 図3の吸着反転装置の反転回動機構部分を示す側面図。 図1の基板加工装置における吸着昇降装置を示す斜視図。 基板加工装置による基板加工工程の第1段階を示す説明図。 基板加工工程の第2段階を示す説明図。 基板加工工程の第3段階を示す説明図。 基板加工工程の第4段階を示す説明図。 基板加工工程の第5段階を示す説明図。 基板加工工程の第6段階を示す説明図。 基板加工工程の第7段階を示す説明図。 基板加工工程の第8段階を示す説明図。 基板加工工程の第9段階を示す説明図。 基板加工工程の第10段階を示す説明図。 基板加工工程の第11段階を示す説明図。 基板加工装置に取り付けられた操作パネルを示す図。 基板加工装置に組み込まれるブレイク装置を示す正面図。 吸着反転装置並びに吸着昇降装置の各吸着板とエア吸引装置とをつなぐエア回路を示す図。
以下、本発明に係る基板加工装置の詳細を図面に基づいて説明する。なお、ここでは、基板にスクライブラインを加工し、その後に基板を反転させるようにした基板加工装置での実施例に基づいて説明する。
本発明の基板加工装置Aは、図1に示すように、基板Wの表面にスクライブラインを加工するスクライブ装置Bと、基板Wを反転させる吸着反転装置Cと、スクライブ装置Bのテーブルの上方に配置され基板Wを吸着して昇降させる吸着昇降装置Dとを備えている。
これらスクライブ装置B、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dは、基板加工装置Aのフレーム1に組み込まれている。フレーム1は、金属製の枠材によって長方体の形態で組み付けられており、図1の平面視において長手方向に沿ったラインをX方向とし、X方向に直交する方向をY方向として以下に説明する。
スクライブ装置Bは、図1、2に示すように、フレーム1内のX方向に沿った一端側(本実施例では図1の右側)に組み込まれており、台板2上でY方向に延びるレール3に沿って移動するテーブル4を備えている。台板2は、平面視でY方向に延びる長方形に形成され、その一端部分がフレーム1から延出されている。
テーブル4は、その上面に多数の吸着孔を有する吸着面4aを備え、モータを内蔵する回転駆動部5により水平面内で回動できるようになっている。また、テーブル4並びに回転駆動部5は、レール3に沿って移動する移動ステージ6上に取り付けられており、モータ8によって回転するネジ軸9によりY方向に移動するように形成されている。また、フレーム1には、ガイド10を有するビーム(横桟)11がX方向に沿って設けられ、ガイド10にはカッターホイール12を有する昇降可能なスクライブヘッド13がX方向に移動できるように取り付けられている。
吸着反転装置Cは、図1、図3〜5に示すように、左右の側枠14、14によって支持されたY方向に延びる水平な回転軸15と、該回転軸15に水平に取り付けられ、回転軸15と共に回転する支持部材16と、この支持部材16に複数の、本実施例では4つの押下げ部材17を介して上下動可能に支持された水平な吸着板18とを備えている。吸着板18は下面に多数の吸着孔を有する吸着面18aを備え、復帰スプリング19によって常時上方に向かって付勢されている。本実施例では上記した押下げ部材17として、ON動作で下動し、OFF動作で押下げ力を解除するピストンを備えたエアシリンダで形成されている。このエアシリンダ17をON動作させることにより、図5に示すように、吸着板18を復帰スプリング19に抗して下動させ、エアシリンダ17をOFF動作させることにより、復帰スプリング19の復元力によって吸着板18を図4の元位置に復帰できるように形成されている。
また、押下げ部材17であるエアシリンダのピストン17aは、その突出ストロークが調整できるように形成されている。これにより、基板Wの厚み等の作業条件に応じて吸着板18の降下量を適切に調整することができる。さらに、回転軸15は内部を中空としたパイプ材で形成されており、その内部はエア供給源(図示外)から前記エアシリンダ17にエアを供給するためのエア流路15aとして形成されている。このエア流路15aから配管47を介して各エアシリンダ17に接続されている。これにより、吸着板18が反転回動したときにエアシリンダ17につながる配管47がねじれないようにしている。
吸着反転装置Cの回転軸15は、反転回動機構42によって180度回転できるように形成されている。この反転回動機構42は、図6に示すように、その一端部にピニオン20を備え、このピニオン20にかみ合うラック21をシリンダ22で駆動させることにより、180度回転できるように形成されている。これにより、吸着板18の吸着面18aが下向きの姿勢から上向きの姿勢に、また逆に、上向きの姿勢から下向きの姿勢に反転できるようになっている。
また、図1に示すように、フレーム1のX方向に延びる上部枠材1a、1aの上面にはレール23、23が設けられ、吸着反転装置Cの側枠14、14の上端部には、該レール23、23に沿ってスライドするガイド部24、24が設けられている。さらに、吸着反転装置Cを手動で移動させるための把手25が、一方のガイド部24に連なってフレーム1の外側に延出して設けられている。これにより、吸着板18を、反転可能なスペースを確保したフレーム1内の図1における左側、すなわち基板反転位置から、スクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち基板受け渡し位置まで手動で移動できるように形成されている。
さらに、左右の側枠14、14の上端を橋架する連結板26には、フレーム1に取り付けられた出没可能な位置決めピン28、28が係入する係合穴27が設けられている。
位置決めピン28は、上記した基板反転位置と基板受け渡し位置とにそれぞれ配置されており、吸着反転装置Cが基板反転位置並びに基板受け渡し位置にきたときに、位置感知部材29が感知して自動的に係合穴27へ係入するように形成されている。位置決めピン28としては、例えば電磁石のON/OFFによって出没するソレノイドで形成することができる。また、位置感知部材29としては光センサやリミットスイッチなどを利用することができる。
吸着昇降装置Dは、図7に示すように、フレーム1に固定された水平な固定板30と、固定板30に取り付けられ、かつ、鉛直下方に向かって往復運動をするピストン31aを有する流体シリンダ31と、該流体シリンダ31のピストン31aの下端に固定された吸着板32とを備えている。吸着板32は、上記したスクライブ装置Bのテーブル4の上方に配置され、下面には多数の吸着孔を有する吸着面32aが設けられている。
また、吸着板32は、その上面から鉛直上方に延びて固定板30を摺動可能に貫通する複数のガイド33を備えている。本実施例では、ガイド33は丸棒材で形成され、流体シリンダ31を中心とした対称位置に2本ずつ、合計4本が配置されている。これにより、吸着板32が昇降する際に自由回転するのを阻止するとともに、吸着板32の水平姿勢を安定よく保持することができる。また、ガイド33の上端は連結部材33aによって互いに連結保持されており、これによりガイド33が補強されて垂直な立設姿勢を保持することができ、吸着板32をスムーズに昇降させることができる。
本実施例において、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dにおける吸着板18、32の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Cの吸着板18を反転させる反転回動機構42の駆動は、ボタンスイッチによるスイッチ操作によって手動で行うことができるようにしてある。
具体的には、図19に示すように、吸着反転装置Cの位置決めピン28、28のロックを解除するための右側ロック解除ボタン34並びに左側ロック解除ボタン35、基板受け渡し位置で吸着板18を下動させるために押下げ部材(エアシリンダ)17をON/OFF操作する昇降ボタン36、吸着昇降装置Dの流体シリンダ31を作動させるための操作ボタン37、吸着反転装置Cの反転回動機構42を駆動する反転操作ボタン43が、基板加工装置Aの正面に取り付けられた操作パネル38(図1では省略)に設けられている。さらに、吸着反転装置Cの吸着板18のバキュームボタン39、吸着昇降装置Dの吸着板32のバキュームボタン40が上記操作パネル38に設けられている。
上記したスクライブ装置Bのテーブル4、吸着反転装置Cの吸着板18並びに吸着昇降装置Dの吸着板32の各吸着面、4a、18a、32aの吸着孔は、吸気用の配管を介して真空ポンプを用いたエア吸引装置(図示外)に接続されており、吸引エアによって基板Wを吸着保持できるように形成されている。図1〜7では、各吸着板に連なる吸気用の配管並びにその付帯設備は、図面の複雑化を避けるために省略してある。
吸着反転装置Cの吸着板18と吸着昇降装置Dの吸着板32とは、図21に示すように、同一のエア吸引装置48から配管49を介して吸引エアが供給されるように形成されており、吸着板32のバキュームボタン40を押すと切換バルブ50によって切り換わるようになっている。
具体的には、切換バルブ50に吸着板18につながる開閉弁50aと、吸着板32につながる開閉弁50bが設けられ、バキュームボタン39を押すと、開閉弁50aが開いてエア吸引装置48からの吸引エアが吸着板18につながるようになっている。また、バキュームボタン40を押すと、開閉弁50aが閉じて開閉弁50bが開き、エア吸引装置48からの吸引エアが吸着板18から吸着板32に切り換わり、バキュームボタン40を再度押すと、開閉弁50bが閉じて吸着板32の吸着エアがOFFになるように構成されている。このとき、吸着板18につながる開閉弁50aは閉姿勢を保持するようにしておく。これにより、吸着板18から吸着板32への吸引エアの切り換えは、バキュームボタン40を押すだけのワンタッチ操作で行うことができる。
次に、上記した基板加工装置Aによって、単板の基板Wの上面にスクライブラインを加工した後、この基板Wを反転させる工程を、図1、図8〜19を用いて順を追って説明する。
図1において、スクライブ装置Bのテーブル4上に載置されている基板Wは、その上面がカッターホイール12によって既にスクライブラインが加工された状態にある。カッターホイール12によるスクライブ加工は、テーブル4を台板2の延出端部まで移動させて加工すべき基板Wを載置した後、テーブル4をスクライブヘッド13の位置まで移行させ、カッターホイール12を降下させてカッターホイール12またはテーブル4を相対的に移動させることにより行われる。また、テーブル4を回転駆動部5により90度回転させることにより、X−Y方向のスクライブラインを加工することができる。
上面にスクライブラインが加工されてテーブル4上に載置されている基板Wは、以下の工程を経て表裏反転される。
まず、吸着反転装置Cの左側の位置決めピン28のロックを、左側ロック解除ボタン35を操作して解除する。そして、把手25を持って手動で図8、9に示すように吸着板18をスクライブ装置Bのテーブル4の上方、すなわち、基板受け渡し位置まで移動させる。この基板受け渡し位置で位置感知部材29が感知して自動的に右側の位置決めピン28が係合穴27に係入され、吸着反転装置Cの位置がロックされる。
次いで、昇降ボタン36を押して押下げ部材17(図5参照)を作動させ、吸着板18を図10に示すようにテーブル4の基板Wに接する位置まで下動させる。この位置でバキュームボタン39を押して基板Wを吸着板18に吸着させる。この際、テーブル4の吸引エアによる吸着力は、別途設けたテーブル用の吸着解除ボタン(図示外)によって、バキュームボタン39を押す前に解除しておくか、或いは前記したバキュームボタン39を押す操作と連動して解除されるようにする。
次いで、再度昇降ボタン36を押して押下げ部材17の押下げ力を解除する。この解除により、吸着板18は復帰スプリング19の復元力によって図11に示すように元位置に復帰する。
次いで、右側ロック解除ボタン34を押して右側の位置決めピン28のロックを解除した後、図12に示すように、吸着反転装置Cを手動で基板反転位置まで移動させる。この基板反転位置で位置感知部材29が感知して左側の位置決めピン28が係合穴27に係入され、吸着反転装置Cの位置がロックされる。この位置で、図13に示すように、反転操作ボタン43を押して吸着板18を反転させる。
吸着板18を反転させた後、左側ロック解除ボタン35を押してロックを解除し、吸着反転装置Cを手動で図14の基板受け渡し位置まで移動させる。その後、吸着昇降装置Dの操作ボタン37を押して、図15に示すように、吸着板32を吸着反転装置Cの吸着板18に吸着されている基板W上に降下させる。この状態でバキュームボタン40を押して吸着エアを吸着反転装置Cの吸着板18から吸着昇降装置Dの吸着板32に切り換え、基板Wを吸着板32に吸着させた後、操作ボタン37を押して、図16に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32を上昇させるとともに、前記した操作によって吸着反転装置Cのロックを解除して吸着反転装置C(吸着板18)を基板反転位置に戻す。
次いで、操作ボタン37を押して、図17に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32をスクライブ装置Bのテーブル4上まで降下させ、バキュームボタン40を押して吸着板32の吸着エアをOFFにする。これにより、基板Wをテーブル4に受け渡す。この後、操作ボタン37を押して、図18に示すように、吸着昇降装置Dの吸着板32を元の位置まで上昇させる。また、反転位置に戻された吸着反転装置Cの吸着板18は、反転操作ボタン43を押すことにより吸着面18aが下向きになるように反転させて次の基板反転作業のために待機させておく。
このようにして反転された基板Wは、次のブレイク工程のためにテーブル4から除材される。
上記した工程において、吸着反転装置Cの吸着板18は、基板反転位置並びに基板受け渡し位置にきたときに位置決めピン28によりロックされるので、定められた位置に吸着板18を確実に保持することができる。また、基板Wの受け渡し動作や反転動作の際に、吸着板18が左右に振れることなく、安定した姿勢でスムーズに行うことができる。
また、吸着反転装置Cの吸着板18は、スクライブ装置Bのテーブル4から基板Wを受け取った後、基板反転位置に移動させて反転させるものであるから、テーブル4から基板Wを受け取る際には、テーブル4に接触しない程度に持ち上げるだけでよい。したがって、図3〜5に示すように、吸着板18を昇降させる機構として上下移動ストロークの小さな押下げ部材17と、押下げ部材17の押下げ力を解除したときに吸着板18を元位置に復帰させる復帰スプリング19とによる簡単な機構でコンパクトに形成することができる。
上記実施例において、スクライブ装置Bのテーブル4上の基板Wを反転するために、まず吸着反転装置Cでテーブル4上の基板Wを取り上げて反転させた後、吸着昇降装置Dに基板Wを受け渡してテーブル4に載置するようにしたが、この手順を代えて、まず吸着昇降装置Dで基板Wをテーブル4から取り上げて吸着反転装置Cに受け渡し、基板Wを反転させた後、吸着反転装置Cでテーブル4に基板Wを載置するようしてもよい。
この場合、バキュームボタン39、40は上記した動作と逆の動作を行うように設定する。すなわち、バキュームボタン40を押したときには吸着昇降装置Dの吸着板32にエア吸引装置48からの吸引エアがつながるようにして、バキュームボタン39を押したときには吸着板32から吸着反転装置Cの吸着板18に吸引エアが切り換わるようにすればよい。
また、基板加工装置Aに組み込んだスクライブ装置Bに代えて、図20に示すように、シリンダ44によって昇降する板状のブレイクバー45を備えたブレイク装置Eを組み込むことも可能である。この場合は、あらかじめ上面にスクライブラインが加工された基板Wを、上記したスクライブ装置Bのテーブル4と同じ移動機構を備えたテーブル4に載置し、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dによって上記した工程と同じ手順を経て、スクライブラインが裏面側となるように基板Wを反転させてテーブル4に戻す。そして、テーブル4をブレイクバー45の下方まで移動させてブレイクバー45を基板Wに押し当てて基板Wを撓ませ、スクライブラインに沿って分断する。この後、分断された基板Wはテーブル4から除材されることになる。
以上本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施形態に特定されるものではない。例えば、上記実施例では、吸着反転装置C並びに吸着昇降装置Dにおける吸着板18、32の昇降動作並びにバキューム動作、及び、吸着反転装置Cの吸着板18を反転させる反転回動機構42の駆動は、ボタン操作によって手動で行うようにしたが、コンピュータ制御によって自動で行うように構成することも可能である。その他本発明では、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。
本発明は、ガラス等の脆性材料基板にスクライブ加工やブレイク加工を行う基板加工装置において利用される。
A 基板加工装置
B スクライブ装置
C 吸着反転装置
D 吸着昇降装置
W 基板(脆性材料基板)
1 フレーム
18 吸着反転装置の吸着板
32 吸着昇降装置の吸着板
40 吸着昇降装置のバキュームボタン
48 エア吸引装置
49 配管
50 切換バルブ

Claims (2)

  1. 基板を吸着して反転させる吸着板を備えた吸着反転装置と、該吸着反転装置の吸着板に対し、基板を受け渡すための昇降可能な吸着板を備えた吸着昇降装置とを有する基板加工装置であって、
    前記吸着反転装置の吸着板と吸着昇降装置の吸着板の吸引エアは、同一のエア吸引装置から供給されるように形成され、基板の受け渡し時に切換バルブを介して切り換わるように形成されている基板加工装置。
  2. 前記切換バルブの切り換え動作は、吸着昇降装置または吸着反転装置の吸着板の吸引エアを操作する一つのスイッチで行われるように形成されている請求項1に記載の基板加工装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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