JP2014125376A - ガラス基板支持ユニット、ガラス基板支持方法、及びガラス基板熱処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板の熱処理においてガラス基板を支持した時に、他部材との接触及び摺動等に起因する傷の発生を抑止すると共に、発塵の発生によるガラス基板の汚染等を抑止して、ガラス基板の品位向上及び不良品低減等を図る方法を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１０と、該ガラス基板１０を支持する支持手段とを有するガラス基板支持ユニット１であって、支持手段は、可撓性を有する支持ガラス板片２０がループ部を形成するようにガラス基板１０の辺縁部１２に貼り付けられると共に、支持ガラス板片２０のループ部２１がガラス基板１０の辺縁部１２から延出され、且つ、支持ガラス板片２０のループ部２１に挿通部材３０が挿通されて構成されていることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス基板とそれを支持する支持手段とを備えたガラス基板支持ユニット、及びガラス基板を支持するガラス基板支持方法、並びにガラス基板に熱処理を施すガラス基板熱処理方法に関する。

周知のように、昨今におけるディスプレイの高精細化により、ガラス基板の歪、或いはコンパクション（熱収縮）の低減が求められるため、製造されたガラス基板に熱処理（アニール）を施す場合がある。ガラス基板の熱処理に際し、従来においては、ガラス基板を水平姿勢または垂直姿勢で熱処理を施す種々のものが提案され、或いは実用化が図られている。

その具体例として、特許文献１には、ガラス製のディスプレイパネルの製造において、ガラスパネルを熱処理（焼成）する際に、直交する２つの軸方向に回転可能な幅狭の複数の支持部材によって、フラットで堅牢な支持プレート（セッター）を下方から支持し、この支持プレート上にガラスパネルを水平姿勢で載置するパネル支持アセンブリー、及び支持プレートを使用することなく上記幅狭の複数の支持部材にパネルを直接水平姿勢で載置するパネル支持アセンブリーが開示されている。

また、特許文献２には、焼成炉内において、ガラス基板の下縁部をローラーの溝部で支持し且つ上縁部をガイドローラー対で支持して垂直姿勢で搬送する搬送手段、及びガラス基板の上縁部及び下縁部の双方をローラーの溝部で支持して垂直姿勢で搬送する手段、並びにガラス基板の上縁部を吊金具によって吊支し且つ下縁部をガイドローラー対で支持して搬送する搬送手段が開示されている。

特表２０００−５０１３７３号公報 特開２００６−０２９５９７号公報

ところで、上述の特許文献１に開示されたパネル支持アッセンブリーによれば、水平姿勢のガラスパネルが、単に支持プレート上に載置されることによって支持される構成であるため、ガラスパネルと支持プレートとの接触面の摺動等に由来して傷が発生し、ガラス基板の品位低下や不良品発生を招くおそれがある。また、同文献に開示された他のパネル支持アッセンブリーによれば、幅狭の複数の支持部材上にガラスパネルを載置する構成であるため、ガラスパネルと各支持部材との接触面積が必然的に小さくなって、接触部分の摺動等に由来する傷の発生確率が著しく増加し、ガラスパネルの品位低下や不良品発生の問題がより一層顕著となる。

一方、上述の特許文献２に開示された搬送手段によれば、ガラス基板の上縁部や下縁部が、ローラーの溝部やガイドローラーと接触する構成であって、接触部に摺動等が必然的に生じる。従って、この場合にも、ガラス基板に傷が発生して品位低下や不良品発生等の不具合を招く。また、同文献に開示された他の搬送手段によれば、ガラス基板の上縁部を吊金具で吊支する関係上、上述の場合と同様にして傷の発生に起因する品位低下や不良品発生等を招くのみならず、吊り金具に発塵させる可動部が存在していることに由来して、生じた塵がガラス基板の有効領域面に付着することによる汚染の原因にもなり得る。

上記事情に鑑みてなされた本発明は、ガラス基板と他部材との直接的な接触が生じないように該ガラス基板を支持して、その接触及び摺動等に起因する傷の発生を抑止すると共に、発塵の発生によるガラス基板の汚染等を抑止して、ガラス基板の品位向上及び不良品低減等を図ることを技術的課題とする。

上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス基板支持ユニットは、板状のガラス基板と、該ガラス基板を支持する支持手段とを有するガラス基板支持ユニットであって、前記支持手段は、可撓性を有する支持ガラス板片がループ部を形成するように前記ガラス基板の辺縁部に貼り付けられると共に、前記支持ガラス板片の前記ループ部が前記ガラス基板の辺縁部から延出され、且つ、前記支持ガラス板片の前記ループ部に挿通部材が挿通されて構成されていることに特徴づけられる。

このような構成によれば、ガラス基板の辺縁部に支持ガラス板片がループ状をなして貼り付けられ、支持ガラス板片のガラス基板辺縁部から延出しているループ部に挿通部材が挿通されているため、挿通部材を他部材に接触支持させれば、ガラス基板は他部材と直接的に接触することなく支持された状態となり得る。これにより、他部材との接触摺動等に起因してガラス基板に傷が付く等の不具合が回避される。しかも、このガラス基板支持ユニットには、発塵させるような可動部が存在していないため、生じた塵がガラス基板の有効領域面に付着することによる汚染の発生確率も激減する。以上の結果、ガラス基板の品位向上が図られると共に、不良品の発生確率も大幅に低下して生産性の改善が図られる。

このガラス基板支持ユニットにおいて、前記支持手段の支持ガラス板片が、前記ガラス基板の上辺の縁部に貼り付けられて、前記ガラス基板が縦姿勢で支持されるように構成することができる。

このようにすれば、挿通部材が、支持ガラス板片を介してガラス基板を縦姿勢で吊り下げ支持した状態にすることができる。これにより、挿通部材を他部材に接触支持させてガラス基板を縦姿勢で搬送したり、或いはガラス基板を縦姿勢で吊り下げ支持した状態で、ガラス基板に対して熱処理や検査処理等を行うことができるため、特に薄肉で大型のガラス基板を対象とする場合には、搬送や処理を適正に行うことが可能となる。

この場合、前記支持手段の支持ガラス板片が、前記ガラス基板の対向する二辺の縁部または四辺の縁部に貼り付けられ、且つ、前記支持手段の挿通部材が、各辺ごとに相互に独立して設けられて、前記ガラス基板が縦姿勢または平置き姿勢で支持されるように構成してもよい。

このようにすれば、各辺ごとに相互に独立して設けられた各挿通部材が、ガラス基板に張りを持たせることができるため、ガラス基板が縦姿勢または平置き姿勢の何れであっても、ガラス基板の搬送や各処理或いは加工等を良好に行うことが可能となる。

以上の構成を備えたガラス基板支持ユニットは、前記ガラス基板と前記支持ガラス板片とを同じ材質で形成することが好ましい。

このようにすれば、ガラス基板と支持ガラス板片との熱膨張率が同じになるため、例えばガラス基板に対して熱処理を行う際には、両者の貼り付け部に、熱膨張率の違いによる余分な力が作用しなくなり、両者の貼り付け部に生じ得る剥離や破損等を効率良く抑制することが可能となる。

以上のような構成を備えたガラス基板支持ユニットは、前記挿通部材が、結晶化ガラスからなる丸棒状体であることが好ましい。

このようにすれば、挿通部材が丸棒状体であるため、支持ガラス板片のループ部に挿通部材を挿通してガラス基板を支持する際には、支持ガラス板片のループ部と挿通部材とが適切に接触してガラス基板からの荷重を良好に受け得ることになり、これにより支持ガラス板片に損傷等が生じ難くなる。しかも、挿通部材が結晶化ガラスで形成されており、結晶化ガラスは耐熱性を有しているため、例えばガラス基板に対して熱処理を行う際には、挿通部材の熱変形及びこれに伴うガラス基板の反りの発生等を抑制することができる。

また、上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス基板支持方法は、板状のガラス基板を支持するガラス基板支持方法であって、可撓性を有する支持ガラス板片を、ループ部を形成するように前記ガラス基板の辺縁部に貼り付けると共に、前記支持ガラス板片の前記ループ部を前記ガラス基板の辺縁部から延出させ、且つ、前記支持ガラス板片の前記ループ部に挿通部材を挿通したことに特徴づけられる。

このような方法によれば、冒頭で述べたガラス基板支持ユニットの構成と実質的に同一であるので、同一の作用効果を奏する。

更に、上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス基板熱処理方法は、熱処理炉の内部に、既述のガラス基板支持ユニット（支持ガラス板片がガラス基板の上辺の縁部に貼り付けられてガラス基板が縦姿勢で支持されるように構成されたユニット）を、挿通部材がガラス基板を吊り下げ支持した状態となるように収容して、熱処理を施すことに特徴づけられる。

このような方法によれば、既述の対応するガラス基板支持ユニットが奏する作用効果を享受した上で、ガラス基板を吊り下げ支持して熱処理（例えば除歪処理等）を適正に行うことが可能となる。この場合、熱処理炉の内部においては、挿通部材が炉内の他部材によって保持されることにより、ガラス基板が吊り下げ支持された状態となるため、ガラス基板に対して適正な熱処理を施すことが可能となる。

このガラス基板熱処理方法においては、熱処理炉の内部に、既述のガラス基板支持ユニット（支持ガラス板片がガラス基板の上辺の縁部に貼り付けられてガラス基板が縦姿勢で支持されるように構成されたユニット）を、挿通部材がガラス基板を吊り下げ支持した状態となるように、且つ、そのガラス基板支持ユニットが、ガラス基板の面と直交する方向に複数列に配列された状態となるように収容して、熱処理を施すことが好ましい。

このようにすれば、小さい熱処理スペースであっても、多数枚のガラス基板に対して熱処理を施すことができるため、熱処理炉の内部スペースが有効利用されて、熱処理効率が向上する。

このガラス基板熱処理方法においては、前記複数列に配列されたガラス基板支持ユニットにおける各ガラス基板の下端近傍の表裏面両側に、該ガラス基板を挟むガイド部材を配設することが好ましい。

このようにすれば、熱処理を行う際に、熱処理炉内の気流によって、吊り下げ支持されているガラス基板が揺動したとしても、各ガイド部材によって各ガラス基板の下端近傍の揺れ移動が規制されるため、隣接するガラス基板との接触及びこれに起因する傷の発生や損傷等が防止される。

以上のように本発明によれば、ガラス基板が、他部材との直接的な接触が生じないように支持されるため、ガラス基板の接触傷や摺動傷等の発生が抑止されると共に、発塵の発生によるガラス基板の汚染等も抑止されて、ガラス基板の品位向上及び不良品低減等が図られる。

本発明の第一実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 図１に示すガラス基板支持ユニットの側面図である。 本発明の第一実施形態に係るガラス基板支持ユニットが設置された熱処理炉の縦断正面図である。 図３に示す熱処理炉の要部縦断側面図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの側面図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの側面図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。 本発明の別実施形態に係るガラス基板支持ユニットの斜視図である。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、以下の実施形態で対象となるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬ等に代表されるフラットパネルディスプレイや、ソーラーパネル等に使用されるものである。

図１は、本発明の第一実施形態に係るガラス基板支持ユニットを主として示す斜視図であり、図２は、その側面図である。図１に示すように、ガラス基板支持ユニット１は、平板状のガラス基板１０と、このガラス基板１０の辺縁部（本実施形態では、上辺１１の辺縁部１２ａ）にループ状に形成して貼り付けられた支持ガラス板片２０と、この支持ガラス板片２０のループ部２１に挿通された挿通部材３０とを有する。尚、ガラス基板１０の板厚は、５０μｍ〜７００μｍであり、幅寸法は７３０ｍｍ、長さ寸法は１０２０ｍｍである。ここで、支持ガラス板片２０と挿通部材３０とによって、ガラス基板１０を支持する支持手段を構成する。

支持ガラス板片２０は、板厚が１０μｍ〜２００μｍ（好ましくは１００μｍ程度）で且つ幅寸法が２０ｍｍ〜８０ｍｍ（好ましくは５０ｍｍ程度）の可撓性を有する帯状のガラスフィルムであって、ガラス基板１０の上辺１１に沿う方向の二箇所に配設されている。詳述すると、各支持ガラス板片２０は、その長手方向の中央部２２がガラス基板１０の上辺１１から上方に延出するループ部２１を形成するように湾曲されており、その長手方向の一端部２３がガラス基板１０の辺縁部１２ａの表面に貼り付けられると共に、その長手方向の他端部２４がガラス基板１０の辺縁部１２ａの裏面に貼り付けられている。尚、支持ガラス板片２０のガラス基板１０への貼り付け部位の上下寸法（貼り代）は、３０ｍｍ〜８０ｍｍ、好ましくは５０ｍｍ程度である。

本実施形態では、支持ガラス板片２０の一端部２３及び他端部２４と、ガラス基板１０の辺縁部１２ａ（図１参照）の表面及び裏面とが、何れも、面接触に伴う接着力によって貼り付けられており、それらの接触面の表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以下、好ましくは０．５ｎｍ以下、更に好ましくは０．２ｎｍ以下とされている。このように、接着剤を使用することなく、面接触部に生じる所要の接着力は、水素結合或いはファンデルワールス力に由来するものと考えられている。但し、本発明は、このような面接触に伴う接着力による貼り付け態様に限られるものではなく、接着剤を使用して貼り付ける態様であっても差し支えない。尚、支持ガラス板片２０とガラス基板１０とは、同一の材質でなくてもよいが、このガラス基板支持ユニット１を後述する熱処理に供する場合には、同一の材質とされることが好ましい。

挿通部材３０は、本実施形態では、結晶化ガラスであるネオセラム（登録商標）からなる丸棒状体であって、二つの支持ガラス板片２０のループ部２１に挿通されている。従って、各支持ガラス板片２０の長手方向中央部２２は、挿通部材３０の外周側に巻き掛けられた状態となると共に、挿通部材３０は、各支持ガラス板片２０を介してガラス基板１０を縦姿勢で吊り下げ支持した状態となっている。尚、ループ状をなす支持ガラス板片２０の貼り付け箇所は、ガラス基板１０の上辺１１に沿う方向の三箇所以上としてもよい。

この場合、ガラス基板１０は、支持ガラス板片２０との間で剥離可能な状態で接着して吊り下げ支持されているが、両者１０、２０の面接触部を３００℃以上に加熱すれば、両者１０、２０の歪点のうち低い方の歪点未満であっても、融着はしないものの剥離不能な状態となる。尚、両者１０、２０のそれぞれの歪点及び軟化点のうち低い方の歪点以上で且つ低い方の軟化点未満に加熱すれば、両者１０、２０の面接触部はより強固に接着する。

このように、ガラス基板１０と支持ガラス板片２０との面接触部が３００℃以上となることにより剥離不能な状態及びより強固に接着した状態となった場合には、ガラス基板１０の辺縁部１２ａの下方に存する切断予定線１３に沿ってガラス基板１０が切断されるようになっている。この場合、ガラス基板１０の切断予定線１３よりも上側部位は、非有効領域であって、この非有効領域内に支持ガラス板片２０が貼り付けられているため、ガラス基板１０の有効領域が無駄となることはない。

ここで、好ましくは、ガラス基板１０の下辺１４の辺縁部１２ｂに、例えばガラスブロックからなる錘（図示略）が取り付けられる。この錘の取り付けは、一例として既述の支持ガラス板片２０と同様に、帯状のガラスフィルムをガラス基板１０の下辺１４の辺縁部１２ｂに貼り付け、この帯状のガラスフィルムによって錘を吊り下げ支持する手法を採用することができる。また、他の例として、錘であるガラスブロックの所定領域の表面粗さ（Ｒａ）を２．０ｎｍ以下（好ましくは０．５ｎｍ以下）とし、当該領域をガラス基板１０の下辺１４の辺縁部１２ｂに面接触によりガラスブロックを直接貼り付ける手法を採用することもできる。このようにした場合には、錘を吊り下げ支持する帯状のガラスフィルムを貼り付ける部位または錘を直接貼り付ける部位を、ガラス基板１０の非有効領域とし、この非有効領域を、図外の切断予定線に沿って切断することが好ましい。

尚、このガラス基板支持ユニット１には、ガラス基板１０の下端近傍（非有効領域）における下辺１４に沿う方向の両端部に、ガラス基板１０の面と直交する方向の移動を規制するガイド部材としての一対のガイドピン４０がそれぞれ付設されている。これら一対のガイドピン４０は、図２に示すように、ガラス基板１０の下端近傍との間に、隙間を介在させて固定設置されるものであって、例えば後述する熱処理を行う場合に有効に使用されるものである。

以上の構成を備えた本発明の第一実施形態に係るガラス基板支持ユニット１は、例えば熱処理炉内において以下のような態様で熱処理を受ける。すなわち、図３及び図４に示すように、熱処理炉５０の内部空間においては、複数のガラス基板支持ユニット１が、各ガラス基板１０を縦姿勢で並列に配列させた状態となるように収容されている。詳述すると、各ガラス基板支持ユニット１は、挿通部材３０の軸方向両端部が、炉壁上部に設置された受け部材５１にそれぞれ係脱可能に係合されることにより、挿通部材３０が支持ガラス板片２０を介してガラス基板１０を縦姿勢で吊り下げ支持した状態となっている。そして、このような状態の下で、ガラス基板１０の下端近傍における下辺１４に沿う方向の両端部が、熱処理炉５０の内部空間に対して出退可能に炉壁下部に保持された一対のガイドピン４０によって挟まれている。この場合、各一対のガイドピン４０は、ガラス基板１０の下端近傍の表裏両側に、ガラス基板１０の面と直交する方向に隙間を介在させて配列されている。

この場合、熱処理炉５０の内部空間においては、空気の対流などによる気流が発生しているため、この気流によってガラス基板１０が面と直交する方向に揺動するという事態が発生し得る。しかしながら、この揺動に伴うガラス基板１０の下端近傍の揺れは、ガイドピン４０によって規制される。そのため、ガラス基板１０の不当な揺動が制限されて、隣接するガラス基板１０同士の接触による破損等が防止されると共に、支持ガラス板片２０と挿通部材３０との摺動に伴う両者２０、３０の摩耗や損傷ひいては破損等が抑制される。しかも、ガラス基板１０の下端には、錘による下方への引張り力が作用することになるため、上記のガラス基板１０の不当な揺動がより一層制限される。

本実施形態では、ガラス基板１０及び支持ガラス板片２０が、何れも、同一素材の無アルカリガラスで形成されて、熱膨張率が同じであるため、熱処理炉５０で加熱された際には、ガラス基板１０から支持ガラス板片２０が剥離したり、ガラス基板１０や支持ガラス板片２０が破損したりするおそれが抑制される。

この場合、熱処理炉５０の内部空間は、無アルカリガラスの歪点（約６００℃〜７００℃）よりも低い温度である約５４０℃に加熱されているため、ガラス基板１０と支持ガラス板片２０との面接触部は、熱処理前であれば剥離可能であるが、熱処理後においては剥離不能となる。これは、ガラスの温度が２５０℃〜３００℃を超えると、面接触部に生じていた水素結合が、より強力な接着力を発生させる共有結合へと変化するためであると考えられている。

そして、熱処理が終了して、熱処理炉５０からガラス基板支持ユニット１を取り出した場合には、ガラス基板１０と支持ガラス板片２０とが剥離不能となっているため、支持ガラス板片２０のループ部２１から挿通部材３０を抜き取った後に、図１に示す切断予定線１３に沿ってガラス基板１０が切断される。このガラス基板Ｇの切断は、スクライブ形成後の折割り、レーザー溶断、或いはレーザー割断等により行われる。以上のような処理の実行によって、傷や歪みがなく且つ塵による汚染もない高品位のガラス基板１０が製造される。

本実施形態においては、挿通部材３０の軸方向両端部を、熱処理炉５０の炉壁上部に設置された受け部材５１に係合させることで、ガラス基板１０を吊り下げ支持したが、挿通部材３０を図示しない搬送手段で支持した状態で、ガラス基板１０を搬送させながらの熱処理や、他の加工処理等を行ってもよい。尚、この場合には、ガイドピン４０は設けなくてもよい。これにより、複数のガラス基板１０を、縦姿勢で直列に配列させた状態で連続して熱処理や検査処理等を行うことが可能となる。

続いて、その他の実施形態について説明する。上記の第一実施形態においては、例えば、図１及び図２に示すように、支持ガラス板片２０を、ガラス基板１０の両面から挟み込むように貼り付けたが、これに限ることはない。図５に示すように、支持ガラス板片２０の一端部２３のみをガラス基板１０の辺縁部１２ａの裏面に貼り付けて、支持ガラス板片２０の他端部２４を支持ガラス板片２０の一端部２３の上方に貼り付けるように構成してもよい。尚、この場合には、図５に一点鎖線（仮想線）で示すように、支持ガラス板片２０の一端部２３を、ガラス基板１０の辺縁部１２ａの表面に貼り付けてもよい。また、図６に示すように、予め支持ガラス板片２０の一端部２３と他端部２４とを貼り付けた状態で、ガラス基板１０の辺縁部１２ａの裏面（または表面）に貼り付けてもよい。

また、上記実施形態においては、図１に示すように、ガラス基板１０の上辺１１に沿う方向の複数箇所に、支持ガラス板片２０を貼り付けたが、これに限ることはなく、図７に示すように、幅広の支持ガラス板片６０を、ガラス基板１０の上辺１１に沿う方向の中央に貼り付けることにより、一箇所で支持してもよい。これにより、ガラス基板１０と支持ガラス板片６０との接触面積が広くなるため、お互いが強固に接着される。尚、この際には、図５または図６と同様に、支持ガラス板片６０の一端部（又は他端部）を貼り付けてもよい。

更に、上記実施形態においては、ガラス基板１０が、垂直姿勢となるように支持したが、これに限ることはなく、ガラス基板１０を水平姿勢で支持してもよい。この場合、図８に示すように、ガラス基板１０の対向する２辺を支持ガラス板片２０と挿通部材３０とによって両側から支持することが好ましい。

また、図９に示すように、ガラス基板１０の対向する２辺を支持ガラス板片２０と挿通部材３０とによって両側から支持した状態で、垂直姿勢としてもよい。これにより、ガラス基板１０の揺動を確実に防止することができる。その他、図１０に示すように、ガラス基板１０の左右の両辺を支持した状態で垂直姿勢としてもよい。この場合には、挿通部材３０に対して左右方向に張力をかけることで、ガラス基板１０を確実に支持することができる。

更に、ガラス基板１０の４辺の各辺縁部１２ａ〜１２ｄに対して支持ガラス板片２０を貼り付けて、挿通部材３０によって支持してもよい。この場合には、図１１に示すように、ガラス基板１０を水平姿勢としてもよく、図１２に示すように垂直姿勢としてもよい。これにより、各辺ごとに相互に独立して設けられた各挿通部材３０が、ガラス基板３０に張りを持たせることができるため、ガラス基板１０が水平姿勢または垂直姿勢の何れであっても、ガラス基板１０の搬送や各処理或いは加工等を良好に行うことが可能となる。

また、図８〜図１２に示す実施形態において、支持ガラス板片２０は、図７に示す幅広の支持ガラス板片６０であってもよい。更に、支持ガラス板片２０、６０によるガラス基板の支持は、図５または図６に示すように、支持ガラス板片２０、６０の一端部（又は他端部）だけを貼り付けて支持してもよい。尚、ガラス基板支持ユニット１によってガラス基板１０を支持する辺は、対向する２辺または４辺に限ることはなく、隣接する２辺であってもよく、また、例えば下辺を除く３辺としてもよい。

本発明の実施例として、下記に示す条件（実施例２つ、比較例３つ）の下でガラス基板に対して熱処理を行い、ガラス基板の傷、変形、及び発塵の有無について評価した。

使用したガラス基板は、実施例１及び比較例１〜３は無アルカリガラス（日本電気硝子（株）製：ＯＡ−１１）を、実施例２として無アルカリガラス（日本電気硝子（株）製：ＯＡ−１０Ｇ）を使用した。ガラス基板のサイズは、実施例１、２及び比較例３においては、横：７３０ｍｍ、縦：１０２０ｍｍとして、比較例１、２は、横：７３０ｍｍ、縦：９２０ｍｍとした。ここで、サイズの違いは、支持方法の違いによるものであり、吊り下げ支持の場合は熱処理後に切断するため、縦方向の寸法を大きくした。尚、ガラス基板の厚みは、実施例２のみを０．３ｍｍとして、その他を０．５ｍｍとした。

ガラス基板の支持方法は、実施例１及び２については、本発明の第一実施形態である図１に示すような支持ガラス板片による吊り下げ方法とした。尚、支持ガラス板片は、ガラス基板と同一材質のものを使用し、幅５０ｍｍ、貼り代５０ｍｍ、厚み０．１ｍｍのものを使用した。一方、比較例として種々の支持方法を用いた。具体的には、比較例１として、ガラス基板より周囲がそれぞれ１０ｍｍ大きい結晶化ガラス製の支持板（セッター）上に載置することで、水平姿勢で支持した。また、比較例２として、ガラス基板を結晶化ガラス製の支持部材に立てかけることで、垂直姿勢で支持した。更に、比較例３として、ステンレス（ＳＵＳ３０４）製の金具による吊り下げ方法とした。尚、比較例３において、金具による掴み代（接触領域）は、実施例１及び２と同じ面積とした。

また、熱処理を行うにおいて、何れの実施例、比較例においても、熱処理温度を５４０℃として、昇温速度は、１０℃／ｍｉｎとした。また、熱処理後は３段階に分けて温度を低下させた。尚、実施例２のみは、他の例よりも時間をかけて温度低下させた。

上記の条件下で熱処理を行った結果、ガラス基板の傷、変形、及び発塵（パーティクルの付着）の発生の有無についての評価を表１に示す。尚、評価結果において、○は良品レベル、×は不良品レベルであることを示す。

表１に示すように、実施例１及び２においては、傷、変形、発塵の有無については、何れにおいても問題はなかった。しかしながら、比較例１〜３においては、何れにおいても何かしらの問題があった。

この結果、本発明に係る、ガラス基板に支持ガラス板片を貼り付けることによる吊り下げ方法を用いて熱処理を行うことにより、傷、変形、発塵の何れも発生しない良品なガラス基板を製造することができることが明確となった。

１ ガラス基板支持ユニット
１０ ガラス基板
１２ 辺縁部
２０ 支持ガラス板片
２１ ループ部
３０ 挿通部材

Claims (9)

1. 板状のガラス基板と、該ガラス基板を支持する支持手段とを有するガラス基板支持ユニットであって、
   前記支持手段は、可撓性を有する支持ガラス板片がループ部を形成するように前記ガラス基板の辺縁部に貼り付けられると共に、前記支持ガラス板片の前記ループ部が前記ガラス基板の辺縁部から延出され、且つ、前記支持ガラス板片の前記ループ部に挿通部材が挿通されて構成されていることを特徴とするガラス基板支持ユニット。
2. 前記支持手段の支持ガラス板片が、前記ガラス基板の上辺の縁部に貼り付けられて、前記ガラス基板が縦姿勢で支持されていることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板支持ユニット。
3. 前記支持手段の支持ガラス板片が、前記ガラス基板の対向する二辺の縁部または四辺の縁部に貼り付けられ、且つ、前記支持手段の挿通部材が、各辺ごとに相互に独立して設けられて、前記ガラス基板が縦姿勢または平置き姿勢で支持されていることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板支持ユニット。
4. 前記ガラス基板と前記支持ガラス板片とを同じ材質で形成したことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のガラス基板支持ユニット。
5. 前記挿通部材が、結晶化ガラスからなる丸棒状体であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のガラス基板支持ユニット。
6. 板状のガラス基板を支持するガラス基板支持方法であって、
   可撓性を有する支持ガラス板片を、ループ部を形成するように前記ガラス基板の辺縁部に貼り付けると共に、前記支持ガラス板片の前記ループ部を前記ガラス基板の辺縁部から延出させ、且つ、前記支持ガラス板片の前記ループ部に挿通部材を挿通したことを特徴とするガラス基板支持方法。
7. 熱処理炉の内部に、請求項２に記載のガラス基板支持ユニットを、挿通部材がガラス基板を吊り下げ支持した状態となるように収容して、熱処理を施すことを特徴とするガラス基板熱処理方法。
8. 熱処理炉の内部に、請求項２に記載のガラス基板支持ユニットを、挿通部材がガラス基板を吊り下げ支持した状態となるように、且つ、請求項２に記載のガラス基板支持ユニットが、ガラス基板の面と直交する方向に複数列に配列された状態となるように収容して、熱処理を施すことを特徴とするガラス基板熱処理方法。
9. 前記複数列に配列されたガラス基板支持ユニットにおける各ガラス基板の下端近傍の表裏面両側に、該ガラス基板を挟むガイド部材を配設したことを特徴とする請求項８に記載のガラス基板熱処理方法。

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