JP2014118333A - ナノシリコン材料とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】酸と二ケイ化カルシウムと、を反応させて得られた層状ポリシランを熱処理することで製造する。用いる層状ポリシランは、ラマンスペクトルにおいてラマンシフトの341±10cm-1、360±10cm-1、498±10cm-1、638±10cm-1、734±10cm-1にピークが存在する。
【選択図】図3
Description
非特許文献1に記載の製造方法で製造された層状ポリシランの比表面積は約20m2/gと比較的小さいが、実施例に記載したように、本発明の製造方法で製造された層状ポリシランの比表面積は122.3m2/gと大きい。
[比較例1]
実施例1及び比較例1で得られた粉末のX線回折チャートを、図4及び図5にそれぞれ示す。図4の半値幅から、実施例1のナノシリコンの粒径は5nm程度であることが示唆される。また図5のX線回折チャートは用いた層状ポリシランのX線回折チャートと同一であることから、比較例1のように熱処理温度が300℃では、ナノシリコンへの構造変化が困難であり、ナノ化には300℃を超える温度が必要であることがわかる。
実施例1〜2で調製された層状ポリシランとナノシリコン材料について、それぞれ比表面積をBET法により測定した。結果を表1に示す。表1から、実施例2の製造方法によれば、実施例1の製造方法より比表面積が増大する。しかし全体としてナノシリコン化させることで比表面積が減少しており、市販されている50nmのSi粒子の比表面積(120m2/g)よりも小さいことがわかる。
実施例1〜2で調製された層状ポリシランとナノシリコン材料について、それぞれ含まれる酸素量をエネルギー分散X線分光法(EDX)にて測定した。結果を表2に示す。実施例2の製造方法によれば、実施例1の製造方法より含まれる酸素量が低下したナノシリコンが得られることがわかる。
[参考例1]
[実施例1]
参考例1及び比較例1で得られた粉末のX線回折チャートを、図4及び図5にそれぞれ示す。図4の半値幅から、参考例1のナノシリコンの粒径は5nm程度であることが示唆される。また図5のX線回折チャートは用いた層状ポリシランのX線回折チャートと同一であることから、比較例1のように熱処理温度が300℃では、ナノシリコンへの構造変化が困難であり、ナノ化には300℃を超える温度が必要であることがわかる。
参考例1、実施例1で調製された層状ポリシランとナノシリコン材料について、それぞれ比表面積をBET法により測定した。結果を表1に示す。表1から、実施例1の製造方法によれば、参考例1の製造方法より比表面積が増大する。しかし全体としてナノシリコン化させることで比表面積が減少しており、市販されている50nmのSi粒子の比表面積(120m2/g)よりも小さいことがわかる。
参考例1、実施例1で調製された層状ポリシランとナノシリコン材料について、それぞれ含まれる酸素量をエネルギー分散X線分光法(EDX)にて測定した。結果を表2に示す。実施例1の製造方法によれば、参考例1の製造方法より含まれる酸素量が低下したナノシリコンが得られることがわかる。
Claims (7)
- 層状ポリシランを熱処理することで製造され、ラマンスペクトルにおいてラマンシフトの341±10cm-1、360±10cm-1、498±10cm-1、638±10cm-1、734±10cm-1にピークが存在することを特徴とするナノシリコン材料。
- BET法により測定した比表面積が55m2/g以下である請求項1に記載のナノシリコン材料。
- BET法により測定した比表面積が25m2/g以下である請求項1に記載のナノシリコン材料。
- 含まれる酸素量が15質量%以下である請求項1〜3のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 含まれる酸素量が10質量%以下である請求項1〜4のいずれかに記載のナノシリコン材料。
- 塩化水素(HCl)と、二ケイ化カルシウム(CaSi2)と、を反応させて得られた層状ポリシランを、窒素ガスを除く非酸化性雰囲気下にて300℃を超える温度で熱処理することを特徴とするナノシリコン材料の製造方法。
- フッ化水素(HF)と塩化水素(HCl)との混合物と、二ケイ化カルシウム(CaSi2)と、を反応させて得られた層状ポリシランを、窒素ガスを除く非酸化性雰囲気下にて300℃を超える温度で熱処理することを特徴とするナノシリコン材料の製造方法。
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