JP2014115515A - 走査光学装置および画像形成装置並びに反射部材の製造方法 - Google Patents
走査光学装置および画像形成装置並びに反射部材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014115515A JP2014115515A JP2012270305A JP2012270305A JP2014115515A JP 2014115515 A JP2014115515 A JP 2014115515A JP 2012270305 A JP2012270305 A JP 2012270305A JP 2012270305 A JP2012270305 A JP 2012270305A JP 2014115515 A JP2014115515 A JP 2014115515A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- optical
- main scanning
- deflector
- scanning direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5886—Mechanical treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
- G03G15/0435—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure by introducing an optical element in the optical path, e.g. a filter
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
- Y10T29/49885—Assembling or joining with coating before or during assembling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向器と、前記光源からの光束を前記偏向器に導く入射光学系と、前記偏向器からの光束を被走査面に結像する結像光学系、前記偏向器によって主走査方向に偏向走査された光束の光路中に配置され、前記偏向走査された光束の一部を反射する反射部材と、を有する走査光学装置であって、前記反射部材は、前記偏向走査された光束を反射する反射面と、前記主走査方向に沿った第1端面と、前記主走査方向と直交する方向に沿った第2端面を有し、前記第2端面は前記第1端面よりも耐腐食性がより高い。
【選択図】図1
Description
(画像形成装置)
図4は、本発明の実施形態に係る走査光学装置を搭載した画像形成装置の概略構成図である。本画像形成装置は、光走査装置4個を各々並行に並べ、像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図4において、60はカラー画像形成装置、61、62、63、64は各々光走査装置、71、72、73、74は各々像担持体としての感光ドラム、31、32、33、34は各々現像器、51は搬送ベルトである。
図1(a)は本発明の実施形態に係る走査光学装置の主走査配置図である。図中、1はレーザ光源、2は集光素子、3はシリンダーレンズ、4は絞り、5は偏向器としてのポリゴンミラー、6は第1結像レンズ61と第2結像レンズ62からなる結像レンズ系、7はカバーガラス、8は被走査面(感光体)である。なお、コリメータレンズ2と、シリンダーレンズ3と、絞り4は、偏向器前光学系もしくは入射光学系と呼ばれる。
同期検知光学系として、同期検知反射光学手段としての同期検知反射ミラー(BDミラー)9と、同期検知結像レンズ(BDレンズ)10とが備わり、同期検知受光素子(BDセンサ)11と共に同期検知系を構成する。被走査面8上で有効画像域以外の像高の光束に対し、BDミラー9により光路を分離し、BDレンズ10によりBDセンサ11に同期検知光を導き、印字書き出しのタイミングを検知している。図1(a)に示すように、センサ面に向かう同期検知光束は結像光学系6の一部を構成する結像レンズ61を通過している。
次に、図1(b)を用いて、同期検知反射光学手段としてのBDミラー9の構成について説明する。BDミラー9は、ミラー端部921から有効反射領域までの距離をできるだけ短くすると装置の大型化防止に効果的である。しかし、前述したように、画像形成装置内部の昇温や湿度の影響で、BDミラー9の端部反射領域が腐食する問題を解決する必要がある。これについては、BDミラーの製造方法に関連して後述する。
次に、図2を用いてBDミラー9の第1の製造方法を説明する。図2(a)を用いて、蒸着前ガラス母材の準備の工程を説明する。BDミラー9の母材としての反射光学基板であるフロートガラス基板930(第1の光学部材片)は、短手端面933の長さL1が11mm、長手端面934の長さL3がL3=L2×N+αとする。Nは任意の整数、αはα<L2の任意の長さとすれば廃棄材を少なくすることができる。
次に、図3(a)乃至(d)を用いて第2の実施形態を説明する。第1の実施形態と同様に、BDミラー9は主走査方向(矢印A3)に平行な第1端面911と912、と主走査方向(矢印A3)に直交する方向に平行な第2端面921と922を有する。BDミラー9の大きさは、ミラー端部911の長さL1=11mm、ミラー端部921の長さL2=10mmの矩形形状で端面の長さが異なる。
次に、図3(a)乃至(d)を用いて、BDミラー9の第2の製造方法を説明する。図3(a)は、切断前の中判のミラーを示す。蒸着前ガラス母材としてのフロートガラス基板941は、主走査方向(横方向)の長さL4=L1×M+β、主走査方向に直交する方向(縦方向)の長さL5=L2×N+αとする。M,Nは任意の整数、α<L2、β<L1の任意の長さとすれば廃棄材を少なくすることができる。
長手方向の端面に腐食防止剤944を塗布する。腐食防止剤として、例えば商品名「ミラテクト」(NSGインテリア株式会社)を使用する。L1mm×L5mmの寸法の長尺な状態で一気に塗布することができるので、L1mm×L2mmに細分化した場合に塗布するより工数を減らすことができる。
上述した実施形態では、光源が複数の発光部を備え、複数の光束(マルチビーム)が同期検知反射光学手段を通過するものとして説明したが、光源が単一の発光部を備え、単一の光束(単一ビーム)が同期検知反射光学手段を通過するものでも良い。
また、上述した実施形態では、同期検知反射光学手段として同期検知ミラーを示したが、ミラーに替えてプリズムなどで構成しても良い。
上述した実施形態では、多ビーム(マルチビーム)走査方式で用いる光源タイプとして、単一の半導体基板上に複数の発光点を構成した、いわゆるモノリシックなマルチビーム方式を用いた。この方式では、半導体レーザ素子さえ製造できれば、ビーム合成手段が不要となり、これらの光源素子を使用すれば走査光学装置をシンプルで、かつ装置全体を小型化することが容易となる。しかしながら、他の光源タイプとして、レーザ光(光束)を発する半導体レーザ素子を複数個並べ、偏光ビームスプリッターやハーフミラーの光路合成手段を用いて複数光束を得るものでも良い。
Claims (13)
- 光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向器と、
前記光源からの光束を前記偏向器に導く入射光学系と、
前記偏向器からの光束を被走査面に結像する結像光学系と、
前記偏向器によって主走査方向に偏向走査された光束の光路中に配置され、前記偏向走査された光束の一部を反射する反射部材と、
を有する走査光学装置であって、
前記反射部材は、前記偏向走査された光束を反射する反射面と、前記主走査方向に沿った第1端面と、前記主走査方向と直交する方向に沿った第2端面を有し、
前記第2端面は前記第1端面よりも耐腐食性がより高いことを特徴とする走査光学装置。 - 前記第1端面は、前記反射面における反射膜の形成より後に切断されたままの面である一方、前記第2端面は前記反射膜の形成より先に切断されたままの面であることを特徴とする請求項1に記載の走査光学装置。
- 前記第1端面は切断されたままの面であり、前記第2端面は腐食防止材が塗布された面であることを特徴とする請求項1に記載の走査光学装置。
- 前記第1端面と前記第2端面の面積が異なることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の走査光学装置。
- 前記第1端面の面積は、前記第2端面の面積より広いことを特徴とする請求項4に記載の走査光学装置。
- 前記反射部材は、同期検知手段の一部であって、同期検知光束としてセンサ面に向かう光束を前記被走査面に向かう光束と分離することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の走査光学装置。
- 前記第2端面は、前記主走査方向に偏向走査される光束が通過する面であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の走査光学装置。
- 前記主走査方向に偏向走査される光束は、複数の光束であることを特徴とする請求項7に記載の走査光学装置。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置される感光体と、前記走査光学装置で偏向走査された光束によって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器と、を有することを特徴とする画像形成装置。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラと、を有することを特徴とする画像形成装置。
- 光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向器と、
前記光源からの光束を前記偏向器に導く入射光学系と、
前記偏向器からの光束を被走査面に結像する結像光学系と、
前記偏向器によって主走査方向に偏向走査された光束の光路中に配置され、前記偏向走査された光束の一部を反射する反射部材と、
を有する走査光学装置における前記反射部材の製造方法であって、
反射光学基板を前記主走査方向に直交する方向と平行な方向に相当する第1の切断方向で切断して前記第1の切断方向に長い矩形形状の第1の光学部材片を得る第1の工程と、
前記第1の光学部材片の反射光学面に反射膜を形成する第2の工程と、
前記第1の光学部材片を前記主走査方向と平行な方向に相当する第2の切断方向で切断して前記反射部材としての第2の光学部材片を得る第3の工程と、
を有することを特徴とする反射部材の製造方法。 - 光源からの光束を主走査方向に偏向走査する偏向器と、
前記光源からの光束を前記偏向器に導く入射光学系と、
前記偏向器からの光束を被走査面に結像する結像光学系と、
前記偏向器によって主走査方向に偏向走査された光束の光路中に配置され、前記偏向走査された光束の一部を反射する反射部材と、
を有する走査光学装置における前記反射部材の製造方法であって、
反射光学基板の反射光学面に反射膜を形成する第1の工程と、
前記反射膜が形成された反射光学基板を前記主走査方向に直交する方向と平行な方向に相当する第1の切断方向で切断して前記第1の切断方向に長い矩形形状の第1の光学部材片を得る第2の工程と、
前記第1の光学部材片の前記第1の切断方向で切断された端面に腐食防止剤を塗布する第3の工程と、
前記第1の光学部材片を前記主走査方向と平行な方向に相当する第2の切断方向で切断して前記反射部材としての第2の光学部材片を得る第4の工程と、
を有することを特徴とする反射部材の製造方法。 - 前記反射膜の形成は、真空蒸着もしくはスパッタリングによることを特徴とする請求項11または12に記載の反射部材の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012270305A JP6132536B2 (ja) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 光走査装置、画像形成装置、及び光走査装置の製造方法 |
US14/096,621 US20140160216A1 (en) | 2012-12-11 | 2013-12-04 | Scanning optical apparatus and method for manufacturing reflection member |
US14/722,678 US10138549B2 (en) | 2012-12-11 | 2015-05-27 | Scanning optical apparatus and method for manufacturing reflection member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012270305A JP6132536B2 (ja) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 光走査装置、画像形成装置、及び光走査装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014115515A true JP2014115515A (ja) | 2014-06-26 |
JP2014115515A5 JP2014115515A5 (ja) | 2016-01-21 |
JP6132536B2 JP6132536B2 (ja) | 2017-05-24 |
Family
ID=50880513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012270305A Active JP6132536B2 (ja) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 光走査装置、画像形成装置、及び光走査装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20140160216A1 (ja) |
JP (1) | JP6132536B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7137401B2 (ja) * | 2018-08-20 | 2022-09-14 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及び画像形成装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5872105A (ja) * | 1981-10-24 | 1983-04-30 | Kamaya Kagaku Kogyo Kk | 合成樹脂製鏡の製造方法 |
JPH01113216U (ja) * | 1988-01-26 | 1989-07-31 | ||
JP2002046299A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-12 | Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd | 電子写真装置 |
JP2002267822A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Toyo Commun Equip Co Ltd | ミラーの製造方法 |
JP2004361717A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Hitachi Ltd | 背面ミラー及びそれを用いた背面投写型映像表示装置 |
JP2011070137A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Kyocera Optec Co Ltd | 小型ミラー |
JP2012022169A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査光学装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2713195B2 (ja) | 1994-12-27 | 1998-02-16 | 日本電気株式会社 | 走査光学装置 |
US6445483B2 (en) * | 1996-07-01 | 2002-09-03 | Seiko Epson Corporation | Optical scanning apparatus |
US6317244B1 (en) * | 1998-12-17 | 2001-11-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-scanning optical system and image-forming apparatus comprising the same |
US6849328B1 (en) * | 1999-07-02 | 2005-02-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Light-transmitting and/or coated article with removable protective coating and methods of making the same |
EP1113506A3 (en) * | 1999-12-28 | 2005-03-16 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light emitting diode |
JP2001215432A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Fujitsu Ltd | 光学ユニット及び当該光学ユニットを有する電子写真式記録装置 |
US6677063B2 (en) * | 2000-08-31 | 2004-01-13 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of obtaining photoactive coatings and/or anatase crystalline phase of titanium oxides and articles made thereby |
US20020108260A1 (en) * | 2001-02-13 | 2002-08-15 | Andreas Gartner | Thermo-mechanical breaking of round, elliptical or annular shaped bodies |
FR2936240B1 (fr) * | 2008-09-22 | 2012-08-03 | Saint Gobain | Miroir resistant a la corrosion |
US20100242953A1 (en) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Solar reflecting mirror having a protective coating and method of making same |
-
2012
- 2012-12-11 JP JP2012270305A patent/JP6132536B2/ja active Active
-
2013
- 2013-12-04 US US14/096,621 patent/US20140160216A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-05-27 US US14/722,678 patent/US10138549B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5872105A (ja) * | 1981-10-24 | 1983-04-30 | Kamaya Kagaku Kogyo Kk | 合成樹脂製鏡の製造方法 |
JPH01113216U (ja) * | 1988-01-26 | 1989-07-31 | ||
JP2002046299A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-12 | Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd | 電子写真装置 |
JP2002267822A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Toyo Commun Equip Co Ltd | ミラーの製造方法 |
JP2004361717A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Hitachi Ltd | 背面ミラー及びそれを用いた背面投写型映像表示装置 |
JP2011070137A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Kyocera Optec Co Ltd | 小型ミラー |
JP2012022169A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 光走査光学装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10138549B2 (en) | 2018-11-27 |
US20140160216A1 (en) | 2014-06-12 |
JP6132536B2 (ja) | 2017-05-24 |
US20150259789A1 (en) | 2015-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3451473B2 (ja) | マルチビーム走査装置および画像形成装置 | |
JP3453737B2 (ja) | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 | |
JP3483141B2 (ja) | 走査結像光学系・光走査装置および画像形成装置 | |
JPH10142543A (ja) | 光走査装置 | |
JP2001290095A (ja) | 光走査装置 | |
US20060126147A1 (en) | Scanning optical system | |
JP4015249B2 (ja) | マルチビーム露光装置 | |
JPH09265041A (ja) | 走査結像レンズおよび光走査装置 | |
JP2007140418A (ja) | 走査装置及び走査光学系 | |
JP4293780B2 (ja) | 走査光学系 | |
JP4346835B2 (ja) | 走査光学系 | |
JP6132536B2 (ja) | 光走査装置、画像形成装置、及び光走査装置の製造方法 | |
JP4171213B2 (ja) | 走査光学系 | |
US20020060829A1 (en) | Optical scanning device and image forming apparatus using the same | |
JP3627781B2 (ja) | レーザー走査装置 | |
JP4296011B2 (ja) | 光走査装置および画像形成装置 | |
JP4902279B2 (ja) | 画像形成装置 | |
KR100484199B1 (ko) | 광주사 장치 | |
JP2014016404A (ja) | 光走査装置およびカラー画像形成装置 | |
JP2015219447A (ja) | 結像光学素子、光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
JPH07209599A (ja) | 光走査装置およびポリゴンミラー | |
JP2010066679A (ja) | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
JP2017207539A (ja) | 光走査装置及びこれを用いた画像形成装置 | |
JP2000111820A (ja) | マルチビ―ム走査装置・マルチビ―ム走査方法および画像形成装置 | |
JP3069281B2 (ja) | 光走査光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161026 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170321 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170418 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6132536 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |