JP2014105178A - フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】
本発明が解決しようとする課題は、低い粘度及び高い保存安定性を併せ持つ正の誘電率異方性（Δε）を示す化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】
一般式（１）
【化１】

で表される化合物を提供する。一般式（１）で表される化合物を液晶組成物の成分として用いる事により、低粘度で保存安定性に優れる正のΔεを示す液晶組成物を得ることができる。このため、液晶表示素子用の液晶組成物の構成成分として非常に有用である。
【選択図】 なし

Description

本発明は有機電子材料や医農薬、特に液晶表示素子用材料として有用なフッ素化ナフタレン構造を持つ化合物に関する。

液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的要因に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相（ネマチック相、スメクチック相及びブルー相等）を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。さらに液晶組成物は個々の表示素子にあわせて誘電率異方性（Δε）及び屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値としなくてはならない。

ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加する事で表示する駆動方式も報告されている。このように、Δεが正の液晶組成物の重要性は高まっており、より大きな正のΔεを示す化合物が必要とされている。一方、全ての駆動方式において応答速度の改善が求められており、この課題を解決するために現行よりも低粘度な液晶組成物が必要である。低粘度な液晶組成物を得るためには、液晶組成物を構成する個々の極性化合物自体の粘度を低下させることが有効である。

一般的に、粘度が低い化合物を得るためには、環構造が連結基を介さずに結合した、いわゆる直環系と呼ばれる化合物が好ましいとされている。しかし、環構造を３個以上持つ正のΔεを持つ直環系化合物は総じて結晶性が高く、該化合物を含む液晶組成物を冷却すると該化合物の結晶が析出するという問題があった。液晶組成物から化合物が析出すると液晶組成物の物性値が変化してしまうため、実用上の要求から長期に渡り、液晶組成物に添加した化合物が分離や析出が起こらないことが求められている（保存安定性）。保存安定性を改善する為には、連結基の導入が効果的である事が知られているが、連結基を導入する事により粘度が大幅に上昇してしまうという課題があった。

例えば下記フッ素化ナフタレン構造を持つ直環系化合物（特許文献１参照）

は比較的低い粘度を示すが、保存安定性に問題があった。一方、下記エーテル結合とフッ素化ナフタレン構造を併せ持つ化合物（特許文献２参照）

は、上記直環系化合物よりは高い保存安定性を示すが、粘度が高いという問題があった。

ＵＳ６４６８６０７Ｂ１ 特開２００１−１９６４９号

本発明が解決しようとする課題は、低い粘度及び高い保存安定性を併せ持つ正のΔεを示す化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び液晶表示素子を提供することである。

前記課題を解決するため、本願発明者らは種々の化合物の検討を行った結果、本願発明の完成に至った。

本願発明は、一般式（１）

（式中、Ｒは炭素原子数１から１５のアルキル基又は炭素原子数２から１５のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯ−により置き換えられても良く、
Ａ^１〜Ａ^３は各々独立して、
（ａ）１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立してＯ−又は−Ｓ−に置き換えられても良い。）
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。）
からなる群より選ばれる基であり、
Ｚ^１〜Ｚ^３は各々独立して、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は単結合を表し、
Ｘ^１、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
Ｘ^２はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表し、
Ｙは水素原子又はフッ素原子を表し、
ｌ、ｎ及びｍは各々独立して０又は１を表すが、ｌ＋ｍ＋ｎは１〜３を表す。）で表される化合物を提供し、併せて、当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。

本発明により提供される、一般式（１）で表される化合物は、正のΔε、低い粘度及び高い保存安定性を併せ持つ。

従って、一般式（１）で表される化合物を液晶組成物の成分として用いる事により、低粘度で保存安定性に優れる正のΔεを示す液晶組成物を得ることができる。このため、液晶表示素子用の液晶組成物の構成成分として非常に有用である。

一般式（１）において、Ｒは、粘度を低下させるためには炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。

存在するＡ^１〜Ａ^３は各々独立して、粘度の低下を重視する場合にはトランス−１，４−シクロヘキシレン基又は無置換の１，４−フェニレン基であることが好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基であることが更に好ましく、Δεの増大を重視する場合には

である事が好ましく、保存安定性を重視する場合には、

である事が好ましい。

存在するＺ^１〜Ｚ^３は各々独立して、粘度の低下を重視する場合には−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合であることが好ましく、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は単結合であることが更に好ましく、単結合である事が特に好ましく、保存安定性を重視する場合には、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−である事が好ましく、−ＣＨ_２ＣＨ_２−である事が更に好ましい。

Ｘ^１、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、Δεの増大を重視する場合にはフッ素原子であることが好ましく、Ｘ^１及びＸ^３はフッ素原子である事が更に好ましく、Ｘ^３はフッ素原子である事が特に好ましく、粘度を重視する場合には、Ｘ^１及びＸ^４は水素原子であることが好ましく、Ｘ^４は水素原子である事が特に好ましい。

Ｘ^２はΔεを重視する場合には、トリフルオロメチル基又はシアノ基である事が好ましく、粘度を重視する場合にはフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基である事が好ましい。

Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、保存安定性及びΔεを重視する場合には、共にフッ素原子である事が好ましい。

ＹはΔεを重視する場合にはフッ素原子である事が好ましい。

ｌ＋ｍ＋ｎはＴ_ｎｉを重視する場合には２又は３である事が好ましく、粘度を重視する場合には１または２である事が好ましい。

なお、一般式（１）で表される化合物において、ヘテロ原子同士が直接結合する構造となることはない。

好ましい化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 一般式（１）の中では以下の一般式（１−１）〜一般式（１−５４）で表される各化合物が好ましい。

（式中、Ｒは各々独立して炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基又は炭素数２〜１５のアルケニルオキシ基を表す。）
本発明の液晶組成物において一般式（１）で表される化合物の含有量が少ないとその効果が現れないため、液晶組成物中に下限値として、１％（組成物中の％は質量％を表す。以下同様。）が好ましく、２％が好ましく、５％が更に好ましい。又、含有量が多いと析出等の問題を引き起こすため、上限値としては、５０％が好ましく、３０％がより好ましく、２０％が更に好ましく、１０％が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物は１種のみで使用することもできるが、２種以上の化合物を同時に使用してもよい。

液晶組成物の物性値を調整するために一般式（１）で表される化合物以外の化合物を使用してもよく、液晶相を持つ化合物以外にも必要に応じて液晶相を持たない化合物を添加することもできる。

このように、一般式（１）で表される化合物と混合して使用することのできる化合物の好ましい代表例としては、本発明の提供する組成物においては、その第一成分として一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有するが、その他の成分として特に以下の第二から第六成分から少なくとも１種含有することが好ましい。

即ち、第二成分はいわゆるフッ素系(ハロゲン系)のｐ型液晶化合物であって、以下の一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物を挙げることができる。

上式中、Ｒ^ｂは炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子またはトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、末端が炭素原子数１〜３のアルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５のアルキル基が好ましい。また、分岐により不斉炭素が生じる場合には、化合物として光学活性であってもラセミ体であってもよい。

環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは各々独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基またはピリジン−２，５−ジイル基を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン-トランス−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基又は１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基が好ましい。特に環Ｂがトランス−１，４−シクロへキシレン基またはトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に、環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましく、環Ｃがトランス−１，４−シクロへキシレン基またはトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に環Ｂ及び環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。また、（Ａ３）において環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。

Ｌ^ａ、Ｌ^ｂ及びＬ^ｃは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合又はエチレン基が特に好ましい。また、（Ａ２）においてはその少なくとも１個が、（Ａ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

環Ｚは芳香環であり以下の一般式（Ｌａ）〜（Ｌｃ）のいずれかひとつを表す。

式中、Ｙ^ａ〜Ｙ^ｊは各々独立して水素原子あるいはフッ素原子を表すが、（Ｌａ）において、Ｙ^ａ及びＹ^ｂの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、（Ｌｂ）において、Ｙ^ｄ〜Ｙ^ｆの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｄはフッ素原子であることがさらに好ましく、（Ｌｃ）において、Ｙ^ｈ及びＹ^ｉの少なくとも１個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｈはフッ素原子であることがさらに好ましい。

末端基Ｐ^ａはフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメチル基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルコキシ基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルキル基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルケニル基又は２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルケニルオキシ基を表すが、フッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はジフルオロメトキシ基が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。

第三成分はいわゆるシアノ系のｐ型液晶化合物であって、以下の一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で示される化合物を挙げることができる。

上式中、Ｒ^ｃは炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状1-アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、末端が炭素原子数１〜３のアルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５のアルキル基が好ましい。又、分岐により不斉炭素が生じる場合には、化合物として光学活性であってもラセミ体であってもよい。

環Ｄ、環Ｅ及び環Ｆは各々独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基又は１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基が好ましい。特に環Ｅがトランス−１，４−シクロへキシレン基又はトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に、環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましく、環Ｆがトランス−１，４−シクロへキシレン基又はトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に環Ｄ及び環Ｅはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。又、（Ｂ３）において環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。

Ｌ^ｄ、Ｌ^ｅ及びＬ^ｆは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び）−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、エチレン基又は−ＣＯＯ−が特に好ましい。又、一般式（Ｂ２）においてはその少なくとも１個が、一般式（Ｂ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

Ｐ^ｂはシアノ基を表す。

環Ｙは芳香環であり以下の一般式（Ｌｄ）〜（Ｌｆ）のいずれかひとつを表す。

式中、Ｙ^ｋ〜Ｙ^ｑは各々独立的して水素原子あるいはフッ素原子を表すが、（Ｌｄ）において、Ｙ^ｋ及びＹ^ｌの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、（Ｌｅ）において、Ｙ^ｍ〜Ｙ^ｏの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｍはフッ素原子であることがさらに好ましく、（Ｌｆ）において、Ｙ^ｐ及びＹ^ｑの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｐはフッ素原子であることがさらに好ましい。

第四成分は誘電率異方性が０程度である、いわゆる非極性液晶化合物であり、以下の一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物を挙げることができる。

上式中、Ｒ^ｄ及びＰ^ｅは各々独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、炭素原子数１〜３の直鎖状アルコキシ基又は末端が炭素原子数１〜３アルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５の直鎖状アルキル基が好ましく、更に少なくとも一方は炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基又は炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基であることが特に好ましい。

環Ｇ、環Ｈ、環Ｉ及び環Ｊは各々独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子あるいはメチル基により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基を表すが、各化合物において、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基は１個以内であることが好ましく、他の環はトランス−１，４−シクロへキシレン基あるいは１〜２個のフッ素原子又はメチル基により置換されていてもよい１，４−フェニレン基であることが好ましい。環Ｇ、環Ｈ、環Ｉ及び環Ｊに存在するフッ素原子数の合計は２個以下が好ましく、０又は１個が好ましい。

Ｌ^ｇ、Ｌ^ｈ及びＬ^ｉは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び）−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−が好ましく、一般式（Ｃ２）においてはその少なくとも１個が、一般式（Ｃ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

なお、一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物は一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物及び一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で示される化合物を除く。

一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物、一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）及び一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物で示される化合物において、ヘテロ原子同士が直接結合する構造となることはない。

第五成分は液晶組成物にらせん構造を誘起する為に用いられる、光学活性な化合物である。好ましくは不斉炭素原子を持つ化合物であり、１−メチルヘプチルオキシ基を持つ化合物である事がさらに好ましい。

第六成分は応答速度を改善もしくは液晶組成物の配向性を改善する為に加えられる、紫外線照射又は加熱により重合させる事が可能な重合性官能基を持つ化合物である。重合性基としてはアクリルオキシ基又はメタクリルオキシ基である事が好ましく、メタクリルオキシ基である事が更に好ましい。また、重合性官能基を１から３個有する事が好ましく、２個有する事が更に好ましい。

本発明において、一般式（１）で表される化合物は、以下のようにして製造することができる。勿論本発明の趣旨及び適用範囲は、これら製造例により制限されるものではない。
（製法１）
一般式（２）

（式中Ｘ^１〜Ｘ^４は、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^４と同じ意味を表す。）で表される化合物は公開特許公報２００４−９１３６１を基に製造する事が出来る。

一般式（２）で表される化合物とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を塩基存在下反応させる事で、一般式（３）

（式中Ｘ^１〜Ｘ^４は、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^４と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

溶媒としては反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン又は１，１，２，２−テトラクロロエタン等の塩素系溶媒、ヘキサン、トルエン又はキシレン等の炭化水素系溶媒が好ましく、ジクロロメタン又はクロロホルムが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ピリジン又はルチジン等の含窒素芳香族系塩基、トリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等の脂肪族系アミン等が好ましく、ピリジンが特に好ましい。

反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−２０°〜４０℃が好ましく、０℃から３０℃が更に好ましい。

続いて、一般式（３）で表される化合物を遷移金属触媒及び各種添加剤存在下、シアン化カリウムと反応させる事で、一般式（４）

（式中Ｘ^１〜Ｘ^４は、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^４と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

遷移金属触媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、二塩化ビス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（ＩＩ）、二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）等のパラジウム系遷移金属触媒又は二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）、二臭化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）、二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ニッケル（ＩＩ）等のニッケル系遷移金属触媒が好ましく、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）又は二臭化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）が更に好ましい。また、反応の進行を促進するため、必要に応じてホスフィン系配位子を加えても良い。

必要に応じて使用される添加剤としては、反応を円滑に進行させるもので有ればいずれでも構わないが、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩又は金属亜鉛等が好ましい。

溶媒としては、反応を円滑に進行させるもので有ればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン又はキシレン等の芳香族系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、アセトニトリル又はプロピロニトリル等のニトリル系溶媒が好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド又はアセトニトリルが更に好ましい。

温度としては、反応を円滑に進行させる温度であればいずれでも構わないが、０℃〜反応溶媒が還流するまでの温度が好ましく、６０℃〜１４０℃である事が更に好ましい。

続いて、一般式（４）で表される化合物を還元剤と反応させた後、酸により加水分解処理する事で、一般式（５）

（式中Ｘ^１〜Ｘ^４は、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^４と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

還元剤としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、水素化リチウムアルミニウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム系試薬が好ましく、水素化ジイソブチルアルミニウムが更に好ましい。

加水分解に使用する酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸が好ましく、塩酸である事が更に好ましい。

溶媒としては、反応を円滑に進行させるもので有ればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、トルエン又はキシレンが更に好ましい。

温度としては、反応を円滑に進行させるもので有ればいずれの温度でも構わないが、−２０℃〜反応溶媒が還流する温度が好ましく、−１０℃〜３０℃が更に好ましい。

続いて、一般式（５）で表される化合物を還元剤と反応させる事で、一般式（６）

（式中Ｘ^１〜Ｘ^４は、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^４と同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

還元剤としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、ボラン等の水素化ホウ素系試薬、水素リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム等の水素化アルミニウム系試薬、パラジウム／炭素等を水素雰囲気下にて使用する方法等が好ましく、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムを用いる事が更に好ましい。

溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はトルエンである事が更に好ましい。また、還元剤に水素化ホウ素ナトリウム又は水素化ホウ素リチウムを用いる際には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒も上記溶媒に加えて好ましく、必要に応じて水を加えることも好ましい。

温度としては、反応を円滑に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−２０℃〜溶媒が還流するまでの温度が好ましく、０℃〜５０℃である事が更に好ましい。

続いて、一般式（７）

（式中Ｒ、Ｙ、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｌ、ｎ及びｍは、一般式（１）におけるＲ、Ｙ、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｌ、ｎ及びｍと同じ意味を表す。）で表される化合物を、塩基と反応させた後にホウ酸エステル類と反応させ、更にその後に酸化剤と反応させる事で、一般式（８）

（式中Ｒ、Ｙ、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｌ、ｎ及びｍは、一般式（１）におけるＲ、Ｙ、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｌ、ｎ及びｍと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

塩基としては、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム試薬、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジブチルアミド等のリチウムアミド試薬が好ましい。Ｙが水素原子を表す場合には、上記塩基の中でもｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム又はリチウムジイソプロピルアミドを使用する事が更に好ましい。Ｙがフッ素原子を表す場合には、上記塩基の中でもブチルリチウムを使用する事が更に好ましい。また、塩基を使用する際には必要応じて、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン又はヘキサメチルリン酸トリアミド等の系内で生成したアニオン種を安定化する試薬を加えても良い。

ホウ酸エステル類としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等が好ましい。

酸化剤としては、過酸化水素水や過ギ酸、過酢酸等の過酸類が好ましく、過酸化水素水を用いる事が更に好ましい。

溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、塩基及びホウ酸エステル類と反応させる際にはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン又はヘキサンを用いる事が更に好ましい。酸化剤と反応させる際には、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等の塩素系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒である事が好ましく、テトラヒドロフラン、ヘキサンを用いる事が更に好ましい。

温度としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、塩基及びホウ酸エステル類と反応させる際には−７８℃〜−２０℃である事が好ましく、−７８℃〜−４０℃である事が更に好ましい。酸化剤と反応させる際には、０℃〜溶媒が還流するまでの温度が好ましく、２０℃〜４５℃である事が更に好ましい。

続いて、一般式（６）で表される化合物をトリフェニルホスフィン及びアゾジカルボン酸エステル類存在下一般式（８）で表される化合物と反応させる事で、一般式（１）で表される化合物を得る事が出来る。

アゾジカルボン酸エステル類としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、アゾジカルボン酸ジエチル又はアゾジカルボン酸ジイソプロピルが好ましく、アゾジカルボン酸ジイソプロピルを用いる事が更に好ましい。

溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフランである事が更に好ましい。

温度としては、反応を円滑に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−４０℃〜４０℃である事が好ましく、−１０〜１０℃である事が更に好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。

Ｔ_ｎ−ｉはネマチック相−等方相の転移温度を表す。

化合物記載に下記の略号を使用する。

ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
Ｐｒ：ｎ−プロピル基
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル基
（実施例１）（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，６−ジフルオロフェニルオキシ］メタンの製造

（１−１） 窒素雰囲気下、５，６，７−トリフルオロ−２−ナフトール（２０８ｇ，特開２００４−９１３６１号に従って製造）、ピリジン（１２５ｇ）をジクロロメタン（１０００ｍＬ）に溶解させ、氷冷した。内温が１５℃を超えない速度でトリフルオロメタンスルホン酸無水物（３１０ｇ）をジクロロメタン（６２０ｍＬ）に溶解させた溶液を加え、室温にて７時間撹拌した。氷冷下、１５％塩酸（７００ｍＬ）を加え、有機層を分取した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、透明液体としてトリフルオロメタンスルホン酸５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル（２９７ｇ）を得た。
（１−２） 窒素雰囲気下、（１−１）で得られたトリフルオロメタンスルホン酸５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル（１２０ｇ）、シアン化カリウム（４７．３ｇ）、二臭化ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（ＩＩ）（１３．５ｇ）、トリフェニルホスフィン（９．５ｇ）及び金属亜鉛（２．４ｇ）をアセトニトリル（５４０ｍＬ）に懸濁させた溶液を８０℃に加熱し１６時間撹拌した。室温まで冷却した後、水（３００ｍＬ）及びトルエン（２００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を水（２００ｍＬ）にて二回洗浄した。得られた有機層に７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロぺルオキシド水溶液（１２ｍＬ）を加えて室温にて１時間撹拌した。分液し、有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、エタノールから再結晶する事で２−シアノ−５，６，７−トリフルオロナフタレン（３５．８ｇ）得た。
（１−３） 窒素雰囲気下、（１−２）で得られた２−シアノ−５，６，７−トリフルオロナフタレン（３５．８ｇ）をトルエン（７００ｍＬ）に溶解させ、氷冷下１．５ｍｏｌ／Ｌ水素化ジイソブチルアルミニウム・トルエン溶液（１１５ｍＬ）をゆっくりと加えた。室温にて１時間撹拌した後、氷冷下１０％塩酸（２００ｍＬ）を加えた。室温にてさらに１時間撹拌した後分液し、有機層を１０％塩酸（１００ｍＬ）、飽和食塩水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（１５０ｍＬ）にて洗浄し、有機層をアルミナカラムを通過させる事で、粗製５，６，７−トリフルオロ−２−ナフトアルデヒドのトルエン溶液を得た。
（１−４） 水素化ホウ素ナトリウム（３．９ｇ）をメタノール（８０ｍＬ）及びエタノール（８０ｍＬ）に溶解させ氷冷し、（１−３）で得られた５，６，７−トリフルオロ−２−ナフトアルデヒドのトルエン溶液全量をゆっくりと加えた。室温にて３時間撹拌した後、氷冷下１０％塩酸（２００ｍＬ）をゆっくりと加え、室温にて４５分間撹拌した。分液し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）、飽和食塩水（２００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、アルミナカラムクロマトグラフィーにより精製した後、トルエンから再結晶する事で、５，６，７−トリフルオロ−２−ヒドロキシメチルナフタレン（２４．４ｇ）得た。
（１−５） 窒素雰囲気下、金属マグネシウム（５．５ｇ）をＴＨＦ（５ｍＬ）に懸濁させ、３，５−ジフルオロブロモベンゼン（４１．５ｇ）をＴＨＦ（１２０ｍＬ）に溶解させた溶液を穏やかに還流する速度で加え、４０℃にて４５分間撹拌した。続いて、４０℃にて４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン（３９．８ｇ）をＴＨＦ（８５ｍＬ）に溶解させた溶液を加えた後、室温にて１時間撹拌した。反応液を５℃に冷却した１０％塩酸（１２０ｍＬ）に撹拌しながら静かに加え、トルエン（１６０ｍＬ）を加えて抽出した。有機層を飽和食塩水（１２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去する事で、粗製３，５−ジフルオロ−４−（１−ヒドロキシ−４−（４−ｔｒａｎｓ−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン（６２．５ｇ）を得た。
（１−６） （１−５）で得られた粗製３，５−ジフルオロ−４−（１−ヒドロキシ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン（６２．５ｇ）及びｐ−トルエンスルホン酸１水和物（１．７ｇ）をトルエン（３００ｍＬ）に溶解させた溶液を還流させ、ディーンスターク装置を用いて発生する水を除去しながら５時間撹拌した。放冷し、水（１５０ｍＬ）を加えて分液し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）、飽和食塩水（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、粗製３，５−ジフルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニル）ベンゼン（６４．１ｇ）を得た。
（１−７） （１−６）で得られた粗製３，５−ジフルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニル）ベンゼン（６４．１ｇ）及び５ｗｔ％パラジウム／カーボン（３．０ｇ）をトルエン（２００ｍＬ）、エタノール（１００ｍＬ）に溶解させた溶液を、オートクレーブに入れ、水素雰囲気下（０．５ＭＰａ）４０℃にて５時間撹拌した。パラジウム／カーボンを濾過により除去し、溶媒を減圧留去する事により、粗製３，５−ジフルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキシル）ベンゼン（６４．３ｇ）を得た。
（１−８） 窒素雰囲気下、（１−７）にて得られた粗製３，５−ジフルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン（６４．３ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチルオキシカリウム（２．０ｇ）をＤＭＦ（３００ｍＬ）に溶解させ、７０℃にて３時間撹拌した。放冷後、トルエン（３００ｍＬ）及び水（３００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を水（３００ｍＬ）、飽和食塩水（３００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製、減圧蒸留（０．７ｍｍＨｇ、沸点１７１〜１７４℃）、エタノールから再結晶する事により、３，５−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン（４３．５ｇ）を得た。
（１−９） 窒素雰囲気下、（１−８）にて得られた３，５−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）ベンゼン（２５．０ｇ）をＴＨＦ（２５０ｍＬ）に溶解させ−４０℃に冷却し、１．６ｍｏｌ／Ｌブチルリチウム・ヘキサン溶液（５５ｍＬ）をゆっくりと加え、−４０℃にてさらに３０分間撹拌した。続いて、−４０℃にてホウ酸トリメチル（９．７ｇ）をゆっくりと加えた後、ゆっくりと室温まで昇温させた。水（５ｍＬ）を加えた後、１０％塩酸（６０ｍＬ）を加えて分液し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）を加えた。続いて、室温にてゆっくりと３０％過酸化水素水溶液（１０．６ｇ）を加えた後、４５℃にて３０時間撹拌した。室温まで放冷し、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を加えて分液し、水層にトルエン（７５ｍＬ）及びＴＨＦ（７５ｍＬ）を加えて抽出し、併せた有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、ヘキサン・トルエンの混合溶媒から再結晶する事で、２，６−ジフルオロ−４−［ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル］フェノール（１４．９ｇ）を得た。
（１−１０） 窒素雰囲気下、（１−４）にて得られた５，６，７−トリフルオロ−２−ヒドロキシメチルナフタレン（８．０ｇ）、（１−９）にて得られた２，６−ジフルオロ−４−［ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル］フェノール（１４．９ｇ）及びトリフェニルホスフィン（１０．９ｇ）をＴＨＦ（６０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下アゾジカルボン酸ジイソプロピル（８．０ｇ）をゆっくりと加えた後、室温にて１時間撹拌した。水（５ｍＬ）を加えた後、有機溶媒を減圧留去した後、メタノール（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）及び７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロぺルオキシド水溶液（２ｇ）を加えて室温にて３時間撹拌した。沈殿を濾過により取り出して減圧乾燥した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、アセトン及びトルエンの混合溶媒から再結晶する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，６−ジフルオロフェニルオキシ］メタン（１６．４ｇ）を得た。
相転移：Ｃｒ １２８ Ｎ ２３３ Ｉｓｏ
ＭＳ ｍ／ｚ：５３０［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．４１−７．３６（１Ｈ，ｍ），６．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．２５（２Ｈ，ｓ），２．３５（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ_１＝３．２Ｈｚ，Ｊ_２＝１２．１Ｈｚ），１．８９−１．７０（８Ｈ，ｍ），１．３３−１．２６（４Ｈ，ｍ），１．１６−１．１１（６Ｈ，ｍ），１．０６−０．９４（３Ｈ，ｍ），０．８９−０．８１（５Ｈ，ｍ）
（実施例２） （５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニルオキシ］メタンの合成

（２−１） 窒素雰囲気下、４−ブロモ−２，６−ジフルオロフェノール（４１．８ｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（４．６ｇ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（２００ｍＬ）及びエタノール（２００ｍＬ）を混合し６０℃に加熱し、２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルボロン酸（５８．１ｇ）をエタノール（１８０ｍＬ）に溶解させた溶液をゆっくりと加えた。６０℃にてさらに１５時間撹拌した後、放冷し、トルエン（２００ｍＬ）及び１０％塩酸（３００ｍＬ）を加えて分液した。水層にトルエン（２００ｍＬ）を加えて抽出し、併せた有機層を飽和食塩水（３００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒から再結晶する事で、２，６−ジフルオロ−４−［２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フェノール（４５．８ｇ）を得た。
（２−２）窒素雰囲気下、（１−４）で得られた５，６，７−トリフルオロ−２−ヒドロキシメチルナフタレン（８．０ｇ）、（２−１）で得られた２，６−ジフルオロ−４−［２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フェノール（１３．１ｇ）及びトリフェニルホスフィン（１１．４ｇ）をＴＨＦ（８０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下アゾジカルボン酸ジイソプロピル（８．４ｇ）をゆっくりと加えた。室温にて１時間撹拌した後、水（５ｍＬ）を加えて有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣にヘキサン（５０ｍＬ）、メタノール（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）及び７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロぺルオキシド水溶液（０．４ｇ）を加え、室温にて２時間撹拌した。沈殿を濾過により取り出し減圧乾燥し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、アセトン及びトルエンの混合溶媒から再結晶する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニルオキシ］メタン（１３．２ｇ）を得た。
相転移：Ｃｒ １２９ Ｎ ２０４ Ｉｓｏ
ＭＳ ｍ／ｚ：５４２［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４３−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．１４（１Ｈ，ｍ），７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５−６．９７（２Ｈ，ｍ），５．３５（２Ｈ，ｓ），２．４９（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ_１＝３．４Ｈｚ，Ｊ_２＝１２．２Ｈｚ），１．９３−１．８６（４Ｈ，ｍ），１．４９−１．１９（７Ｈ，ｍ），１．１０−１．００（２Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ）
（実施例３） （５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ］メタンの製造

実施例１及び２に記載の方法と同様にして実施する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ］メタン（１０．１ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：４４８［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４１−７．３６（１Ｈ，ｍ），６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），５．１７（２Ｈ，ｓ），２．３８（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ_１＝３．０Ｈｚ，Ｊ_２＝１２．３Ｈｚ），１．８６−１．８３（４Ｈ，ｍ），１．３８−１．２４（５Ｈ，ｍ），１．２２−１．１７（２Ｈ，ｍ），１．０６−０．９６（２Ｈ，ｍ），０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
（実施例４） （５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニル）フェニルオキシ］メタンの製造

（４−１） 乾燥窒素下、（１−４）で得られた５，６，７−トリフルオロ−２−ヒドロキシメチルナフタレン（１０．０ｇ）、４−ブロモ−２，６−ジフルオロフェノール（９．８ｇ）及びトリフェニルホスフィン（１３．６ｇ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させ、氷冷し、アゾジカルボン酸ジイソプロピル（１０．０ｇ）をゆっくりと加えた。室温にて１時間撹拌した後、水（５ｍＬ）を加えた後、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣にヘキサン（５０ｍＬ）、メタノール（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）及び７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロぺルオキシド水溶液（５ｇ）を加え、室温にて１時間撹拌した。分液し、有機層を水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−（４−ブロモ−２，６−ジフルオロフェニルオキシ）メタン（１８．２ｇ）を得た。
（４−２） 窒素雰囲気下、４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ブロモベンゼン（３６．６ｇ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（１３０ｍＬ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（４．５ｇ）及びエタノール（１８０ｍＬ）を混合し６０℃に加熱し、３−フルオロフェニルボロン酸（２０．０ｇ）をエタノール（６０ｍＬ）に溶解させた溶液をゆっくりと加え、６０℃にて６時間撹拌した。放冷し、トルエン（２００ｍＬ）及び水（３００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を水（３００ｍＬ）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、エタノール及びアセトンの混合溶媒から再結晶する事で３−［４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フルオロベンゼン（２９．９ｇ）を得た。
（４−３） 窒素雰囲気下、（４−２）で得られた３−［４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フルオロベンゼン（２９．９ｇ）をＴＨＦ（３００ｍＬ）に溶解し、−６０℃に冷却し、１．０ｍｏｌ／Ｌ ｓｅｃ−ブチルリチウム・ヘキサン溶液（１２０ｍＬ）をゆっくりと加えた。−６０℃にて１時間撹拌した後、−６０℃にてホウ酸トリイソプロピル（２４．７ｇ）を加え、ゆっくりと室温まで昇温した。水（１０ｍＬ）を加えた後、１０％塩酸（１００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を飽和食塩水（３００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機溶媒を減圧留去する事で、粗製２−フルオロ−４−［４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フェニルボロン酸（３３．２ｇ）を得た。
（４−４） 窒素雰囲気下、（４−１）で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−（４−ブロモ−２，６−ジフルオロフェニルオキシ）メタン（１８．２ｇ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（４５ｍＬ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．６ｇ）及びＴＨＦ（９０ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱し、（４−３）で得られた２−フルオロ−４−［４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］フェニルボロン酸（１６．９ｇ）をＴＨＦ（９０ｍＬ）に溶解させた溶液をゆっくりと加え、６０℃にてさらに１０時間撹拌した。放冷し、トルエン（３００ｍＬ）及び水（２００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を水（３００ｍＬ）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、更にアセトン及びトルエンの混合溶媒から再結晶する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニル）フェニルオキシ］メタン（４９．５ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：６１８［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．４１−７．３６（３Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０６−６．９８（２Ｈ，ｍ），６．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），５．１１（２Ｈ，ｓ），２．４９（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ１＝２．８Ｈｚ，Ｊ２＝１２．０Ｈｚ），１．９３−１．８６（４Ｈ，ｍ），１．４９−１．１９（７Ｈ，ｍ），１．１１−１．００（２Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
（実施例５）（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニルオキシ］メタンの製造

実施例１〜４に記載の方法と同様にして実施する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニルオキシ］メタン（５．１ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：４２４［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４１−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．８６−６．７７（２Ｈ，ｍ），５．０７（２Ｈ，ｓ），２．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．７２−１．６３（２Ｈ，ｍ），０．９７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（参考例１）（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−オキシ）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］メタンの製造

（６−１） 実施例１に記載の方法と同様な方法にて実施する事で、３，５−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン（３６．８ｇ）を得た。
（６−２） 窒素雰囲気下、（６−１）にて得られた３，５−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン（３６．８ｇ）をＴＨＦ（１８０ｍＬ）に溶解させ、−４０℃に冷却し、１．６ｍｏｌ／Ｌブチルリチウム・ヘキサン溶液（１０６ｍＬ）をゆっくりと加えた。−４０℃にて更に１時間撹拌した後、ＤＭＦ（１４．７ｇ）をゆっくりと加えた後、ゆっくりと室温まで昇温した。１０％塩酸（１５０ｍＬ）及びトルエン（１５０ｍＬ）を加えて分液し、水層にトルエン（１００ｍＬ）を加えて抽出し、併せた有機層を飽和食塩水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去する事で、粗製２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンズアルデヒド（４０．５ｇ）を得た。
（６−３） （６−２）にて得られた２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンズアルデヒド（１５．０ｇ）、１０％水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）及びエタノール（１５０ｍＬ）を混合し、氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｇ）をゆっくりと加え、室温にて３時間撹拌した。反応液を１０％塩酸（３００ｍＬ）に加え、トルエン（１５０ｍＬ）を加えて分液した。水層にトルエン（１００ｍＬ）を加えて抽出し、併せた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）及び飽和食塩水（１５０ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去する事で、粗製２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンジルアルコール（１４．４ｇ）を得た。
（６−４） 窒素雰囲気下、５，６，７−トリフルオロ−２−ナフトール（１０．６ｇ，特開２００４−９１３６１号に従って製造）、（６−３）にて得られた２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ベンジルアルコール（１４．４ｇ）及びトリフェニルホスフィン（１７．１ｇ）をＴＨＦ（７０ｍＬ）に溶解させ、−１０℃に冷却し、アゾジカルボン酸ジイソプロピル（１１．９ｇ）をゆっくりと加えた。室温にて更に１時間撹拌した後、水（５ｍＬ）を加えて有機溶媒を減圧留去し、得られた残渣にヘキサン（１５０ｍＬ）、メタノール（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）及び７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロぺルオキシド（３ｇ）を加えて、室温にて２時間撹拌した。分液し、有機層を水（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、アセトン及びエタノールの混合溶媒から再結晶する事で、（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−オキシ）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］メタン（１３．６ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：４４８［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ，），７．４９−７．４７（１Ｈ，ｍ），７．３８−７．３３（１Ｈ，ｍ），６．６４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ１＝５．６Ｈｚ、Ｊ２＝９．０Ｈｚ），５．０７（ｓ，２Ｈ），２．４２（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ１＝３．２Ｈｚ，Ｊ２＝１２．４Ｈｚ），１．８６−１．８４（４Ｈ，ｍ），１．４５−１．１７（７Ｈ，ｍ），１．０８−０．９９（２Ｈ，ｍ），０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（参考例２）５，６，７−トリフルオロ−２−［３−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル］ナフタレンの製造

実施例１〜４に記載の方法と同様にして行う事で、５，６，７−トリフルオロ−２−［３−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル］ナフタレン（５０．１ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：３９４［Ｍ^＋］
（実施例６） 液晶組成物の調製−１
以下の組成からなるホスト液晶組成物（Ｈ）

を調製した。ここで、（Ｈ）の物性値は以下の通りである。

ネマチック相上限温度（Ｔ_ｎｉ）：１１７．２℃
誘電率異方性（Δε）：４．３８
屈折率異方性（Δｎ）：０．０８９９
粘度（η_２０）：２０．３ｍＰａ・ｓ
この母体液晶（Ｈ）８０％と、実施例１で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，６−ジフルオロフェニルオキシ］メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ａ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１４２．８℃
Δε：６．４６
Δｎ：０．０９８９
η_２０：３１．４ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［４−（ｔｒａｎｓ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，６−ジフルオロフェニルオキシ］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉ極めて大きく上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝２４５．１℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝１４．８）、η_２０をあまり大きくしない（外挿η_２０＝７５．９ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ａ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例７） 液晶組成物の調製−２
母体液晶（Ｈ）８０％と実施例２で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニルオキシ］メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｂ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１３４．９℃
Δε：８．０４
Δｎ：０．１１５７
η_２０：３４．５ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニルオキシ］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを極めて大きく上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝２０５．６℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝２２．７）、比較的粘度を上昇させにくい（外挿η_２０＝９１．３ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｂ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例８） 液晶組成物の調製−３
母体液晶（Ｈ）８０％と実施例３で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ］メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｃ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１１１．２℃
Δε：８．１２
Δｎ：０．１００３
η_２０：２２．９ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉをあまり低下させず（外挿Ｔ_ｎｉ＝８７．１℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝２３．１）、粘度を上昇させない（外挿η_２０＝３３．５ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｃ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例９）液晶組成物の調製−４
母体液晶（Ｈ）９０％と実施例４で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニル）フェニルオキシ］メタン１０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｄ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１３３．８℃
Δε：６．７１
Δｎ：０．１１０６
η_２０：３０．３ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２，６−ジフルオロ−４−（２−フルオロ−４−（４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）フェニル）フェニルオキシ］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを極めて大きく上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝２８３．５℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝２７．７）、比較的粘度を上昇させにくい（外挿η_２０＝１２０．１ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｄ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例１０）液晶組成物の調製−５
母体液晶（Ｈ）８５％と実施例５で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニルオキシ］メタン１５％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｅ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１１０．２℃
Δε：６．５７
Δｎ：０．１１７５
η_２０：２３．２ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−イル）−［２−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニルオキシ］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉをやや下降させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝７０．６℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝１９．０）、粘度をほとんど上昇させない（外挿η_２０＝３９．９ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｅ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（参考例３）液晶組成物の調製−６
母体液晶（Ｈ）９０％と実施例５で得られた（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−オキシ）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］メタン１０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｆ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１０９．３℃
Δε：６．４１
Δｎ：０．０９１４
η_２０：２６．３ｍＰａ・ｓ
（５，６，７−トリフルオロナフタレン−２−オキシ）−［２，６−ジフルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを極めて大きく下降させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝３７．８℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝２４．７）、粘度を大きく上昇させる（外挿η_２０＝８０．７ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｅ）は、室温にて３日間保存したところ、結晶の析出が確認された事から、保存安定性に乏しい事が分かった。
（参考例４）液晶組成物の調製−７
母体液晶（Ｈ）９０％と参考例２にて得られた５，６，７−トリフルオロ−２−［３−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル］ナフタレン１０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｆ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：１１９．６℃
Δε：６．１５
Δｎ：０．１１３７
η_２０：２３．８ｍＰａ・ｓ
５，６，７−トリフルオロ−２−［３−フルオロ−４−（４−プロピルフェニル）フェニル］ナフタレンの添加の効果として、Ｔ_ｎ−ｉをやや上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝１４０．８℃）、Δεを正に大きくできる（外挿Δε＝２２．１）事がわかる。調製した液晶組成物（Ｍ−Ｆ）を、室温にて二週間保存したところ結晶が析出していた事から、低い保存安定性を示す事がわかった。

実施例８と参考例３及び参考例４を比較する事により、本願発明化合物は参考化合物と比べて、高い保存安定性を維持しながら、粘度を低下させる効果が極めて高い事がわかる。

Claims (12)

1. 一般式（１）
   

   

   （式中、Ｒは炭素原子数１から１５のアルキル基又は炭素原子数２から１５のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯ−により置き換えられても良く、
   Ａ^１〜Ａ^３は各々独立して、
   （ａ）１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立してＯ−又は−Ｓ−に置き換えられても良い。）
   （ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。）
   からなる群より選ばれる基であり、
   Ｚ^１〜Ｚ^３は各々独立して、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は単結合を表し、
   Ｘ^１、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
   Ｘ^２はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表し、
   Ｙは水素原子又はフッ素原子を表し、
   ｌ、ｎ及びｍは各々独立して０又は１を表すが、ｌ＋ｍ＋ｎは１〜３を表す。）で表される化合物。
2. 一般式（１）において、Ｙがフッ素原子を表す請求項１に記載の化合物。
3. 一般式（１）において、Ｘ^４が水素原子を表す請求項１又は２に記載の化合物
4. 一般式（１）において、存在するＡ^１〜Ａ^３が各々独立して下記のいずれかの基
   

   

   を表す請求項１から３に記載の化合物。
5. 一般式（１）において、存在するＺ^１〜Ｚ^３が−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合を表す請求項１から３のいずれか一項に記載の化合物。
6. 一般式（１）において、Ｘ^２がフッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はトリフルオロメチル基を表す請求項１から５のいずれか一項に記載の化合物。
7. 一般式（１）において、Ｘ^１及びＸ^３が水素原子又はフッ素原子を表す請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物。
8. 一般式（１）において、存在するＺ^１が−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表し、Ｚ^２及びＺ^３が単結合を表す請求項１から７のいずれか一項に記載の化合物。
9. 一般式（１）において、存在するＺ^１〜Ｚ^３が共に単結合を表す請求項１から７のいずれか一項に記載の化合物。
10. 一般式（１）において、存在するＸ^１〜Ｘ^３が共にフッ素原子を表す請求項１から９のいずれか一項に記載の化合物。
11. 請求項１から１０のいずれか一項に記載の化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物。
12. 請求項１１記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。