JP2014104372A - ゼオライト触媒及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】触媒活性が極めて優れたゼオライト触媒とその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明によれば、(1)Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、(2)工程(1)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、(3)工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する工程と、(4)前記ろ液中の固形分を回収する工程を備える、ゼオライト触媒の製造方法が提供される。
【選択図】図1
【解決手段】 本発明によれば、(1)Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、(2)工程(1)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、(3)工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する工程と、(4)前記ろ液中の固形分を回収する工程を備える、ゼオライト触媒の製造方法が提供される。
【選択図】図1
Description
本発明は、ゼオライト触媒及びその製造方法に関する。
ゼオライト触媒は石油精製における接触分解に用いられ、炭化水素の変換触媒として工業的に多く用いられている。特に超安定Y (Ultra-stable Y、USY) 型ゼオライトはFCC(Fluid Catalytic Cracking、流動接触分解)などに用いられる重要な触媒である。
特許文献1には、NH4−Y型ゼオライトを窒素ガスと水蒸気を用いて475〜600℃でスチーミングして得られたH−USY型ゼオライトを硝酸アンモニウム水溶液でイオン交換することによって、アルカンクラッキングの触媒活性に優れたゼオライト触媒が得られる旨が記載されている。
特許文献1に記載の触媒は高活性であるが、触媒活性をさらに高めることが切望されている。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、触媒活性が極めて優れたゼオライト触媒とその製造方法を提供するものである。
本発明によれば、
(1)Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、
(2)工程(1)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、
(3)工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する工程と、
(4)前記ろ液中の固形分を回収する工程を備える、ゼオライト触媒の製造方法が提供される。
(1)Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、
(2)工程(1)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、
(3)工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する工程と、
(4)前記ろ液中の固形分を回収する工程を備える、ゼオライト触媒の製造方法が提供される。
特許文献1では、NH4−Y型ゼオライトを水蒸気処理して得られたH−USY型ゼオライトを硝酸アンモニウム水溶液で処理した後にろ過を行い、ろ紙上の残った固形分(ろ物)を回収して、ゼオライト触媒として用いた。本発明者らは、このゼオライト触媒の活性をさらに向上させるべく、日々研究を進めていたある日、ろ過によって得られたろ液が白く濁っていることに気がついた。これまで、ろ液は使い道がなく、そのまま廃棄していたが、その日は、このろ液を白く濁らせているものの正体を突き止めてみるべく、遠心分離によって白濁を生じさせているろ液中の固形分を回収してみた。
そして、この回収した固形分を炭化水素のクラッキング反応の触媒として使用してみたところ、非常に高い触媒活性を示した(この触媒を以下、「触媒A」と称する。)。従来は、廃棄していたろ液中から、このような高活性の触媒が得られることは驚きの発見であった。また、この触媒の活性が高い理由についてさらなる研究を行ったところ、この触媒はY型ゼオライトと同様の結晶構造を有しているが、平均粒子径が20〜40nmのナノ粒子状になっており、しかも酸強度が141kJ/mol以上である強酸点の酸量が0.14mol/kg以上であるという通常のY型ゼオライトが有しない特徴を有していた。そして、この粒子径が小さいこと、及び強酸点の酸量が多いことが高活性の要因であることが分かった。
また、本発明者らは、研究をさらに進め、ろ液から回収した固形分に対して、450℃以上で水蒸気処理とアンモニウム塩水溶液処理を施してみたところ、ゼオライト触媒の活性がさらに活性するという驚きの結果が得られた(この触媒を以下「触媒B」と称する。)。
そして、活性向上の要因を探るために、触媒Bを電子顕微鏡で観察したところ、一次粒子が凝集して形成した二次粒子がさらに凝集して三次粒子を形成しており、一次粒子の平均粒子径は10〜30nmであることが分かった。このような極めて小さな一次粒子から二次粒子及び三次粒子が形成されているという階層構造のため、触媒Bの外表面積が非常に大きくなった。なお、触媒Aについては、このような階層構造は形成されていないので、触媒Bの階層構造は、触媒Aに対して水蒸気処理及びアンモニウム塩水溶液処理を施した際に形成されたものであると言える。
また、触媒Bについても、酸量・酸強度の測定を行ったところ、酸強度が148kJ/mol以上という非常に強い強酸点の酸量が0.06mol/kg以上であることが分かった。
そして、これらの結果から、触媒Bが触媒Aよりもさらに高活性である理由は、触媒Bの構成粒子が階層構造を形成しているために触媒Bの外表面積が非常に大きくなったこと、及び触媒Bの強酸点の酸強度が触媒Aよりも強いことであると考えられる。
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、同様な内容については繰り返しの煩雑を避けるために、適宜説明を省略する。
本発明の一実施形態のゼオライト触媒の製造方法は、触媒Aを製造するために、以下の工程(1)〜(4)の工程を備え、触媒Bを製造するために、工程(5)〜(7)をさらに備える。
(1)第1水蒸気処理工程
(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程
(3)ろ過工程
(4)ろ液固形分回収工程
(5)第2水蒸気処理工程
(6)第2アンモニウム塩水溶液処理工程
(7)固形分回収工程
(1)第1水蒸気処理工程
(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程
(3)ろ過工程
(4)ろ液固形分回収工程
(5)第2水蒸気処理工程
(6)第2アンモニウム塩水溶液処理工程
(7)固形分回収工程
(1)第1水蒸気処理工程
この工程では、Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う。Y型ゼオライトは、市販されているものを用いることができる。Y型ゼオライトの種類は限定されず、触媒A及び触媒Bの原料となるものであればよく、NH4−Y型、Na−Y型、H−Y型の何れであってもよい。なお、NH4−Y型とは、Y型ゼオライト中のカチオン種がNH4であるY型ゼオライト意味する。他のゼオライトについても同様に表記する。
この工程では、Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う。Y型ゼオライトは、市販されているものを用いることができる。Y型ゼオライトの種類は限定されず、触媒A及び触媒Bの原料となるものであればよく、NH4−Y型、Na−Y型、H−Y型の何れであってもよい。なお、NH4−Y型とは、Y型ゼオライト中のカチオン種がNH4であるY型ゼオライト意味する。他のゼオライトについても同様に表記する。
Y型ゼオライトは、市販品をそのまま用いてもよく、イオン交換を行った後に用いてもよい。例えば、Na−Y型ゼオライトは、そのまま用いてもよく、硝酸アンモニウムなどのアンモニウム塩を用いてイオン交換を行うことによってNH4−Y型ゼオライトとしてから用いてもよい。
水蒸気処理は、Y型ゼオライトを450℃以上で水蒸気含有ガスに曝すことによって行う。これによってY型ゼオライトに脱アルミ及び脱シリコンが生じてH−USY型ゼオライトとなる。脱アルミ及び脱シリコンによってゼオライト骨格から離脱したアルミ及びシリコンが本発明の触媒A及び触媒Bを形成するための原料となる。ゼオライト骨格から離脱したアルミ及びシリコンは、原子状であってもよく、少数の原子が集まっているものであってもよい。以下、このようなアルミ及びシリコンを「デブリ」と称する。
水蒸気処理の方法は、特に限定されないが、一例では、Y型ゼオライトを配置した450℃以上に加熱されたガラス管内に水蒸気含有ガスを流通させる方法が挙げられる。水蒸気処理を行う目的は、この処理によってY型ゼオライトに脱アルミ及び脱シリコンを生じさせることであるので、水蒸気処理の条件は、脱アルミ及び脱シリコンが適切に生じる条件とする。
水蒸気処理の温度を450℃以上としたのは、この温度が低すぎると脱アルミ及び脱シリコンが生じにくいからである。水蒸気処理の温度の上限は、特に規定されないが、ろ過工程でろ紙上の残ったろ物も触媒として利用する場合には、1000℃以下であることが好ましい。これよりも高いとゼオライトの骨格構造が破壊されてしまうからである。水蒸気処理の温度は、好ましくは、500〜800℃であり、具体的には例えば、450、475、500、525、550、575、600、625、650、700、750、800、900、1000℃であり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
水蒸気含有ガスは、脱アルミ及び脱シリコンが可能な程度に水蒸気が含まれているものであればよく、その水蒸気分圧は好ましくは10%以上である。水蒸気分圧が低すぎると脱アルミ及び脱シリコンが起こりにくいからである。本発明の触媒A及びBを形成するという目的からは脱アルミ及び脱シリコンが激しく進んだ方が好ましく、その観点からは水蒸気分圧に上限は無いが、ろ過工程でろ紙上の残ったろ物も触媒として利用する場合には、水蒸気分圧が高すぎるとゼオライト構造が破壊されすぎるので好ましくなく、水蒸気分圧は好ましくは50%以下であり、さらに好ましくは25%以下である。水蒸気分圧は、具体的には例えば、10、15、20、25、30、40、50、60、70、80、90、100%であり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
水蒸気処理の時間は、脱アルミ及び脱シリコンが十分に生じる時間であれば限定されず、例えば2〜50時間であり、5〜15時間が好ましい。水蒸気処理の時間は、具体的には例えば、1、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50時間であり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
水蒸気含有ガス中の水蒸気以外の成分は、不活性なガスが好ましく、例えば窒素やアルゴンである。
(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程
この工程では、工程(1)の後の生成物(H−USY型ゼオライト)に対してアンモニウム塩水溶液処理(以下、「水溶液処理」と称する)を行う。
この工程では、工程(1)の後の生成物(H−USY型ゼオライト)に対してアンモニウム塩水溶液処理(以下、「水溶液処理」と称する)を行う。
この処理によって、H−USY型ゼオライトの水素イオンがアンモニウムイオンで置換されてNH4−USY型ゼオライトが得られる。また、水蒸気処理によって生じたデブリの大部分はゼオライト細孔内にとどまっており、このままでは利用できないが、アンモニウム塩水溶液処理によって細孔内から排出され、溶媒中に分散する。アンモニウム塩水溶液はAl種を溶出させやすい性質を有しているので、アンモニウム塩水溶液を用いれば、デブリの排出が容易である。
水溶液処理の方法は、特に限定されず、イオン交換やデブリ排出の目的が達成できるように行えばよく、例えば、H−USY型ゼオライトとアンモニウム塩水溶液とを混合して攪拌することによって行うことができる。
アンモニウム塩水溶液の濃度は、特に限定されないが、濃度が低すぎると、デブリの排出が不十分になりやすいので、アンモニウム塩水溶液の濃度は、0.01mol/L以上が好ましい。上限は特に規定されないが、例えば10mol/Lである。この濃度は、具体的には例えば、0.01、0.02、0.05、0.1、0.2、0.5、1、2、5、10mol/Lであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
アンモニウム塩水溶液の水溶液量は特に限定されず、H−USY型ゼオライト1gに対して、例えば10、20、30、60、100、または150mlである。水溶液処理を行う時間は特に限定されず、例えば2、3、4、5、または10時間である。また水溶液処理を行う温度は特に限定されず、例えば60、70、80、または90℃である。
アンモニウム塩の種類は、特に限定されず、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウムなどが利用可能である。
(3)ろ過工程
この工程では、工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する。
この工程では、工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する。
特許文献1の方法では、このろ過工程において、ろ紙上のろ物を回収して触媒として用いたが、本発明では、ろ液の方を回収する。水蒸気処理で生成された非常に微細なデブリがアンモニウム塩水溶液処理によってゼオライト内の細孔から排出され、水溶液中に放出される。デブリは、後述するように直径30nm程度であるので、市販されている一般的なろ紙によって捕捉されず、ろ液中に存在する。本発明では、このろ液中のデブリを触媒として用いるので、このろ過工程では、ろ物ではなくろ液を回収する。なお、特許文献1のように、ろ物を回収して、別途、触媒として用いることもできる。また、この工程で用いるろ紙は、30nm程度のデブリを通過させ、デブリになっていないゼオライト本体を通過させない程度の目開きを持っているものであれば特に限定されない。一例では、ろ紙は、JIS P3801によって規定される5種Cのものが好ましい。
(4)ろ液固形分回収工程
この工程では、前記ろ液中の固形分を回収する。回収の方法は、例えば遠心分離であるが、これに限定されず、例えば、余分な水分を蒸発させることによって固形分を回収してもよい。回収した固形分が触媒Aである。この触媒Aの平均粒子径は、水蒸気処理やアンモニウム塩水溶液処理の条件によって変化しうるが例えば20〜40nmという非常に小さいものである。触媒Aを構成する粒子は、通常、高次構造を形成しておらず、微粉のままで存在している。触媒Aの平均粒子径は、7万倍のSEM画像中で確認できる直径10nm以上の200個以上の粒子の直径をそれぞれ測定したものを平均することによって求める。触媒Aの平均粒子径は、具体的には例えば、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40nmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
この工程では、前記ろ液中の固形分を回収する。回収の方法は、例えば遠心分離であるが、これに限定されず、例えば、余分な水分を蒸発させることによって固形分を回収してもよい。回収した固形分が触媒Aである。この触媒Aの平均粒子径は、水蒸気処理やアンモニウム塩水溶液処理の条件によって変化しうるが例えば20〜40nmという非常に小さいものである。触媒Aを構成する粒子は、通常、高次構造を形成しておらず、微粉のままで存在している。触媒Aの平均粒子径は、7万倍のSEM画像中で確認できる直径10nm以上の200個以上の粒子の直径をそれぞれ測定したものを平均することによって求める。触媒Aの平均粒子径は、具体的には例えば、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40nmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
触媒AのX線回折パターンを測定すると、通常のY型ゼオライトと同じ位置にピークが現れるので、触媒AはY型ゼオライトと同様の結晶構造を有しているといえる。触媒AがY型ゼオライト構造を有している理由は、アンモニウム塩水溶液中のアンモニウムイオンが構造規定剤(「テンプレート」とも称される。)として機能したためであると考えられる。
また、触媒Aは、酸強度が141kJ/mol以上である強酸点の酸量が0.14mol/kg以上であるという通常のY型ゼオライトが有しない特徴を有する。この強酸点は、触媒Aに存在している骨格外アルミ種に起因している。上記酸強度は、例えば150kJ/mol以下であり、具体的には例えば、141、142、143、144、145、146、147、148、149、150kJ/molであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。また、上記酸量は、例えば0.24mol/kg以下であり、具体的には例えば、0.14、0.15、0.16、0.17、0.18、0.19、0.2、0.21、0.22、0.23mol/kgであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
触媒Aは、粒子径が極めて小さいという点と、強酸点の酸量が多いことが特徴であり、この特徴のために、炭化水素のクラッキングにおいて、非常に高い活性を示す。
触媒Aは優れた触媒であるが、粒子径が小さすぎて扱いにくい(触媒としての使用後の回収が容易でない)という問題があり、そこで、以下の工程(5)〜(7)を実施して、微粒子が階層構造を形成している触媒Bを製造する。
(5)第2水蒸気処理工程
この工程では、工程(4)で回収した前記固形分に対して450℃以上で水蒸気処理を行う。この水蒸気処理によって触媒Aの脱アルミが進行し、強酸点の酸強度が強められる。この水蒸気処理に適用可能な条件は、第1水蒸気処理工程において説明したものと同様である。第2水蒸気処理工程での水蒸気処理の条件は、第1水蒸気処理工程での条件と同一であっても異なっていてもよい。
この工程では、工程(4)で回収した前記固形分に対して450℃以上で水蒸気処理を行う。この水蒸気処理によって触媒Aの脱アルミが進行し、強酸点の酸強度が強められる。この水蒸気処理に適用可能な条件は、第1水蒸気処理工程において説明したものと同様である。第2水蒸気処理工程での水蒸気処理の条件は、第1水蒸気処理工程での条件と同一であっても異なっていてもよい。
(6)第2アンモニウム塩水溶液処理工程
この工程では、工程(5)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う。この工程の目的は、第2水蒸気処理工程で生じてゼオライトの細孔内にとどまっているデブリを細孔から排出することである。これによって、製造される触媒Bの触媒活性が向上する。このアンモニウム塩水溶液処理に適用可能な条件は、第1アンモニウム塩水溶液処理工程において説明したものと同様である。第2アンモニウム塩水溶液処理工程でのアンモニウム塩水溶液処理の条件は、第1アンモニウム塩水溶液処理工程での条件と同一であっても異なっていてもよい。
この工程では、工程(5)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う。この工程の目的は、第2水蒸気処理工程で生じてゼオライトの細孔内にとどまっているデブリを細孔から排出することである。これによって、製造される触媒Bの触媒活性が向上する。このアンモニウム塩水溶液処理に適用可能な条件は、第1アンモニウム塩水溶液処理工程において説明したものと同様である。第2アンモニウム塩水溶液処理工程でのアンモニウム塩水溶液処理の条件は、第1アンモニウム塩水溶液処理工程での条件と同一であっても異なっていてもよい。
(7)固形分回収工程
この工程では、工程(6)の後の生成物から固形分を回収する。回収の方法は、例えば遠心分離であるが、これに限定されず、例えば、余分な水分を蒸発させることによって固形分を回収してもよい。回収した固形分が触媒Bである。
この工程では、工程(6)の後の生成物から固形分を回収する。回収の方法は、例えば遠心分離であるが、これに限定されず、例えば、余分な水分を蒸発させることによって固形分を回収してもよい。回収した固形分が触媒Bである。
触媒Bの構造は、図1の模式図に示すように、平均粒子径が10〜30nmという極めて微細な一次粒子が凝集して二次粒子を形成し、この二次粒子が凝集して、三次粒子を形成するという階層構造を有している。二次粒子の平均粒子径は100〜500nm程度であり、三次粒子の平均粒子径は1〜50μm程度である。触媒Bはこのような階層構造を有しているので、その外表面積が非常に大きい。一般的なゼオライトは、細孔内の表面積を含めると非常に大きな表面積を有しているが、細孔内の表面積を除いた外表面積は必ずしも大きくないので、細孔内に入り込めないような巨大な炭化水素のクラッキング性能は高くない。一方、触媒Bは階層構造のために外表面積が極めて大きく、そのため、クラッキングを行う炭化水素のサイズによらずに、高い触媒活性を示すことができる。また、触媒Bの三次粒子が比較的大きいので、反応に利用した後に触媒Bを回収することが比較的容易である。
なお、触媒Bの一次粒子の平均粒子径は、70000倍のSEM画像中で確認できる直径10nm以上の200個以上の粒子の直径をそれぞれ測定したものを平均することによって求める。一次粒子の平均粒子径は、具体的には例えば、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30nmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
触媒Bの二次粒子の平均粒子径は、10000倍のSEM画像中で確認できる直径50nm以上の200個以上粒子の直径をそれぞれ測定したものを平均することによって求める。二次粒子の平均粒子径は、具体的には例えば、100、150、200、250、300、350、400、450、500nmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。の直径をそれぞれ測定したものを平均することによって求める。
触媒Bの三次粒子の平均粒子径は、7000倍のSEM画像中で確認できる直径1μm以上の粒子の直径を測定したものである。触媒Bの三次粒子の平均粒子径は、具体的には例えば、1、5、10、15、20、30、40、50μmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
触媒BのX線回折パターンを測定すると、通常のY型ゼオライトと同じ位置にピークが現れるので、触媒BはY型ゼオライトと同様の結晶構造を有しているといえる。
また、触媒Bは、酸強度が148kJ/mol以上である強酸点の酸量が0.06mol/kg以上であるという通常のY型ゼオライトが有しない特徴を有する。この強酸点は、触媒Bに存在している骨格外アルミ種に起因している。上記酸強度は、例えば160kJ/mol以下であり、具体的には例えば、148、149、150、151、152、153、154、155、156、157、158、159、160kJ/molであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。また、上記酸量は、例えば0.16mol/kg以下であり、具体的には例えば、0.06、0.07、0.08、0.09、0.1、0.11、0.12、0.13、0.14、0.15、0.16mol/kgであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
このように、触媒Bは、外表面積が非常に大きいことに加えて、非常に強い強酸点を有しているため、巨大な炭化水素のクラッキングに対して、高い触媒性能を発揮する。
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1.触媒A及び触媒Bの製造
以下の方法に従って、触媒A及び触媒Bを製造した。
以下の方法に従って、触媒A及び触媒Bを製造した。
(1)第1水蒸気処理工程
Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換して、NH4−Y型ゼオライトを得た。次に、得られたNH4−Y型ゼオライトに対して、水蒸気分圧18%の水蒸気含有ガスを用いて、550℃・10時間の水蒸気処理を行うことによって、H−USY型ゼオライトを得た。水蒸気処理は、NH4−Y型ゼオライトを石英管に収容し、マイクロフィーダー(注射器)で押し出した水を、リボンヒーターで加熱し、窒素と混合して希釈したものを全流速50mL/分で流通させることによって行った。
Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換して、NH4−Y型ゼオライトを得た。次に、得られたNH4−Y型ゼオライトに対して、水蒸気分圧18%の水蒸気含有ガスを用いて、550℃・10時間の水蒸気処理を行うことによって、H−USY型ゼオライトを得た。水蒸気処理は、NH4−Y型ゼオライトを石英管に収容し、マイクロフィーダー(注射器)で押し出した水を、リボンヒーターで加熱し、窒素と混合して希釈したものを全流速50mL/分で流通させることによって行った。
(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程
次に、上記工程で得られたH−USY型ゼオライトに対して硝酸アンモニウム水溶液処理を行った。この処理は、具体的には、H−USY型ゼオライト1gに対して100mLの硝酸アンモニウム水溶液(0.1mol/L)を三角フラスコに加え、80℃・4時間攪拌を行った。
次に、上記工程で得られたH−USY型ゼオライトに対して硝酸アンモニウム水溶液処理を行った。この処理は、具体的には、H−USY型ゼオライト1gに対して100mLの硝酸アンモニウム水溶液(0.1mol/L)を三角フラスコに加え、80℃・4時間攪拌を行った。
(3)ろ過工程
次に、上記工程後の生成物をろ過してろ液を回収した。ろ過は、ろ紙(ADVANTEC社製、型式5C、保留粒子径1μm)を用い、吸引ろ過によって行った。
次に、上記工程後の生成物をろ過してろ液を回収した。ろ過は、ろ紙(ADVANTEC社製、型式5C、保留粒子径1μm)を用い、吸引ろ過によって行った。
(4)ろ液固形分回収工程
得られたろ液は、図2に示すように白濁していた。これを遠心分離して固形分を回収した。遠心分離の条件は、2500rpm、0.5hであった。ここで回収した固形分が触媒Aである。触媒Aの質量は、NH4−Y型ゼオライトの質量の4%であった。
得られたろ液は、図2に示すように白濁していた。これを遠心分離して固形分を回収した。遠心分離の条件は、2500rpm、0.5hであった。ここで回収した固形分が触媒Aである。触媒Aの質量は、NH4−Y型ゼオライトの質量の4%であった。
(5)第2水蒸気処理工程
次に、回収した固形分に対して「(1)第1水蒸気処理工程」と同様の条件で水蒸気処理を行った。
次に、回収した固形分に対して「(1)第1水蒸気処理工程」と同様の条件で水蒸気処理を行った。
(6)第2アンモニウム塩水溶液処理工程
次に、水蒸気処理後の試料に対して、「(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程」と同様の条件で硝酸アンモニウム水溶液処理を行った。
次に、水蒸気処理後の試料に対して、「(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程」と同様の条件で硝酸アンモニウム水溶液処理を行った。
(7)固形分回収工程
次に、「第2アンモニウム塩水溶液処理工程」後の試料を遠心分離して固形分を回収した。遠心分離の条件は、2500rpm、0.5hであった。ここで回収した固形分が触媒Bである。
次に、「第2アンモニウム塩水溶液処理工程」後の試料を遠心分離して固形分を回収した。遠心分離の条件は、2500rpm、0.5hであった。ここで回収した固形分が触媒Bである。
2.組成分析
誘導結合プラズマ解析によって、触媒A及び触媒BのSi/Al2比を測定したところ、それぞれ、5.2及び6.3であった。触媒Bの方がSi/Al2比が大きくなっているのは、第2水蒸気処理工程及び第2アンモニウム塩水溶液処理工程によって脱アルミが進行したためであると考えられる。
誘導結合プラズマ解析によって、触媒A及び触媒BのSi/Al2比を測定したところ、それぞれ、5.2及び6.3であった。触媒Bの方がSi/Al2比が大きくなっているのは、第2水蒸気処理工程及び第2アンモニウム塩水溶液処理工程によって脱アルミが進行したためであると考えられる。
3.X線回折パターンの測定
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒BのX線回折パターンの測定を行った。測定は、以下の条件で行った。
装置:Rigaku Ultima IV
測定条件:40 kV/40 mA、2θ= 4〜50°、ステップ0.01、スキャン速度4°/min
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒BのX線回折パターンの測定を行った。測定は、以下の条件で行った。
装置:Rigaku Ultima IV
測定条件:40 kV/40 mA、2θ= 4〜50°、ステップ0.01、スキャン速度4°/min
その結果を図3に示す。図3を参照すると、これらの3つの試料のX線回折パターンは、ピークの位置がほぼ同一であることが分かる。この結果は、触媒A及び触媒BがNH4−Y型ゼオライトと同様の結晶構造を有していることを示している。
4.窒素吸着等温線の測定
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒Bについて窒素吸着等温線の測定を行った。測定は、以下の条件で行った。
装置:BELSORP MAX
前処理:真空中、300℃、1 h
サンプル量:約30 mg
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒Bについて窒素吸着等温線の測定を行った。測定は、以下の条件で行った。
装置:BELSORP MAX
前処理:真空中、300℃、1 h
サンプル量:約30 mg
その結果を図4に示す。図4を参照すると、これらの3つの試料の窒素吸着等温線はほぼ同一であることが分かる。また、NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒BのBET比表面積及びミクロ細孔容積は表1に示す通りであった。これらの結果は、触媒A及び触媒BがNH4−Y型ゼオライトと同様の結晶構造を有していることをさらに裏付ける。
5.触媒AのSEM画像の撮影・平均粒子径の測定
触媒AのSEM画像を撮影した。得られた画像(×20000、×70000)をそれぞれ図5(a)、(b)に示す。これらの画像から、触媒Aは、微細な球状粒子が高次構造を形成することなく分散していることが分かった。次に、図5(b)の画像中において、直径が10nm以上で200個以上の粒子の直径を測定した。その結果を図6に示す。得られた測定結果から平均粒子径を計算したところ、29.7nmであった。
触媒AのSEM画像を撮影した。得られた画像(×20000、×70000)をそれぞれ図5(a)、(b)に示す。これらの画像から、触媒Aは、微細な球状粒子が高次構造を形成することなく分散していることが分かった。次に、図5(b)の画像中において、直径が10nm以上で200個以上の粒子の直径を測定した。その結果を図6に示す。得られた測定結果から平均粒子径を計算したところ、29.7nmであった。
6.触媒BのSEM画像の撮影・平均粒子径の測定
触媒BのSEM画像を撮影した。得られた画像(×10000、×70000)をそれぞれ図7(a)、(b)に示す。図7(a)を参照すると、三次粒子が多数の二次粒子で構成されていることが分かる。また、二次粒子を拡大した図7(b)を参照すると、二次粒子が多数の一次粒子で構成されていることが分かる。一次粒子・二次粒子・三次粒子の平均粒子径を求めたところ、それぞれ、約21nm、300nm、10μmであった。
触媒BのSEM画像を撮影した。得られた画像(×10000、×70000)をそれぞれ図7(a)、(b)に示す。図7(a)を参照すると、三次粒子が多数の二次粒子で構成されていることが分かる。また、二次粒子を拡大した図7(b)を参照すると、二次粒子が多数の一次粒子で構成されていることが分かる。一次粒子・二次粒子・三次粒子の平均粒子径を求めたところ、それぞれ、約21nm、300nm、10μmであった。
7.Al27 MQMAS NMRの測定
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒BについてAl27 MQMAS NMRの測定を行った。測定にはBruker Avance DXS-600 NMRを用いた、repetition timeは10msである。3Q MAS NMRは、二つの強いパルス(3、1.2μs)で測定した。その結果を図8(a)〜(c)に示す。4配位、5配位、6配位のAl種が60−80ppm、36ppm、0−10ppmに現れた。触媒A及び触媒Bでは、4配位のAl種が2種類現れた。点線上に位置しているIV種は対称性が高いAl種に関するものであり、点線上から外れた位置にあるIVbは対称性が崩れたAl種に関するものである。触媒BのIVb種の強度は、触媒Aよりも強い。これは、水蒸気処理によって脱アルミが進行したため、対称性が崩れたAl種が増加したためであると考えられる。このIVb種が強酸点の起源であると考えられる。
NH4−Y型ゼオライト、触媒A及び触媒BについてAl27 MQMAS NMRの測定を行った。測定にはBruker Avance DXS-600 NMRを用いた、repetition timeは10msである。3Q MAS NMRは、二つの強いパルス(3、1.2μs)で測定した。その結果を図8(a)〜(c)に示す。4配位、5配位、6配位のAl種が60−80ppm、36ppm、0−10ppmに現れた。触媒A及び触媒Bでは、4配位のAl種が2種類現れた。点線上に位置しているIV種は対称性が高いAl種に関するものであり、点線上から外れた位置にあるIVbは対称性が崩れたAl種に関するものである。触媒BのIVb種の強度は、触媒Aよりも強い。これは、水蒸気処理によって脱アルミが進行したため、対称性が崩れたAl種が増加したためであると考えられる。このIVb種が強酸点の起源であると考えられる。
8.IRMS−TPD測定
H−Y型ゼオライト、触媒A、及び触媒Bについて、以下の方法に従って、IRMS−TPD測定を行った。H−Y型ゼオライトは、Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換してNH4−Y型ゼオライトとした後、真空中で加熱してNH3を離脱させることによって作製した。
まず、373Kで13kPaでNH3を試料に吸着させ、その後、気相のNH3を30分間排気した。次に、試料のIRスペクトルを10Kmin−1で昇温しながら測定し、1430cm−1付近のNH4 +の変角振動に起因するバンドを10Kごとに定量した。また、1325cm−1付近のバンド(ルイス酸に吸着したNH3)についても10Kごとに定量した。その面積の温度に対する微分変化を測定し吸着種についてのIR−TPDスペクトルを得た。それぞれのIR−TPDスペクトル(吸着種)に,吸光度係数の逆数に対応する係数(比を一定とした。NH4 +(1430cm−1):NH3(1325cm−1)=1:2.15)をそれぞれかけ,その和を質量分析計(MS)のスペクトルと一致させた.
H−Y型ゼオライト、触媒A、及び触媒Bについて、以下の方法に従って、IRMS−TPD測定を行った。H−Y型ゼオライトは、Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換してNH4−Y型ゼオライトとした後、真空中で加熱してNH3を離脱させることによって作製した。
まず、373Kで13kPaでNH3を試料に吸着させ、その後、気相のNH3を30分間排気した。次に、試料のIRスペクトルを10Kmin−1で昇温しながら測定し、1430cm−1付近のNH4 +の変角振動に起因するバンドを10Kごとに定量した。また、1325cm−1付近のバンド(ルイス酸に吸着したNH3)についても10Kごとに定量した。その面積の温度に対する微分変化を測定し吸着種についてのIR−TPDスペクトルを得た。それぞれのIR−TPDスペクトル(吸着種)に,吸光度係数の逆数に対応する係数(比を一定とした。NH4 +(1430cm−1):NH3(1325cm−1)=1:2.15)をそれぞれかけ,その和を質量分析計(MS)のスペクトルと一致させた.
OH領域をスーパーケージに存在するOHに由来する3633cm−1付近のバンドと,骨格外AlOHに由来する3609cm−1付近のバンド,USY特有の強酸点(O1H)に由来する3598cm−1付近のバンド,ソーダライトケージに由来する3551cm−1付近のバンド,ヘキサゴナルプリズムに由来する3520cm−1付近のバンドに各温度のIR差スペクトルを波形分離した.その面積の温度に対する微分変化を計算しOHについてのIR−TPDスペクトルを得た。
それぞれのIR−TPDスペクトル(OH)に,吸光度係数の逆数に対応する負の係数(比を一定とした.OHsuper:OHstrong:OHsodalite:OHhexagonal=1.0:2.7:0.38:0.38)をそれぞれのIR−TPDスペクトルにかけ,その和をNH4 +IR−TPDスペクトルと一致させた。
このようにそれぞれのOHについてIR−TPDを求め,理論式からそれぞれのOHについての酸量・酸強度を定量した。理論式は、特開2008−292366で説明されている通りである。
このようにそれぞれのOHについてIR−TPDを求め,理論式からそれぞれのOHについての酸量・酸強度を定量した。理論式は、特開2008−292366で説明されている通りである。
その結果を表2〜表3に示す。表2は、ブレンステッド酸点の量を示し、表3は、ブレンステッド酸点の強度を示す。
表2〜表3を参照すると、H−Y型ゼオライトは、酸点の量は多いが、その全てが酸強度120kJ/mol以下の比較的弱い酸点であった。一方、触媒Aは、酸強度144kJ/molの比較的強い酸点を有していた。さらに、触媒Bは、酸強度酸強度153kJ/molの非常に強い酸点を有していた。後述するように触媒A及び触媒Bは、炭化水素のクラッキングに対して高い触媒活性を示すが、その触媒活性は、この強い強酸点の存在に起因していると考えられる。
9.クラッキング反応への適用
市販の2種類のゼオライト(東ソー、HSZ−350HUA,341NHA)、H−Y型ゼオライト、上記「(3)ろ過工程」でろ紙上の残った固形分からなる触媒(USY−0.1M)、触媒A及び触媒B(それぞれ、水蒸気処理(スチーミング)を550℃で行ったものと、800℃で行ったもの)について、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのクラッキング反応を行った。H−Y型ゼオライトは、Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換してNH4−Y型ゼオライトとした後、真空中で加熱してNH3を離脱させることによって作製した。
反応に用いた触媒量は、5.0mg(DRY)であり、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンの分圧が14Torrになるように窒素で希釈した反応ガスを触媒に接触させることによって反応を進行させた。反応ガスの流速は、40mL/minとした。
市販の2種類のゼオライト(東ソー、HSZ−350HUA,341NHA)、H−Y型ゼオライト、上記「(3)ろ過工程」でろ紙上の残った固形分からなる触媒(USY−0.1M)、触媒A及び触媒B(それぞれ、水蒸気処理(スチーミング)を550℃で行ったものと、800℃で行ったもの)について、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのクラッキング反応を行った。H−Y型ゼオライトは、Na−Y型ゼオライト(東ソー株式会社製、HSZ−320NAA)を80℃でNH4NO3(0.5mol/L)で3回イオン交換してNH4−Y型ゼオライトとした後、真空中で加熱してNH3を離脱させることによって作製した。
反応に用いた触媒量は、5.0mg(DRY)であり、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンの分圧が14Torrになるように窒素で希釈した反応ガスを触媒に接触させることによって反応を進行させた。反応ガスの流速は、40mL/minとした。
その結果を図9に示す。図9を参照すると、触媒Aと触媒Bは、それ以外の4種類よりも優れた触媒活性を示すことが分かる。水蒸気処理を550℃で行った場合は触媒Bの方が触媒Aよりも活性が高かったが、水蒸気処理を800℃で行った場合は触媒Aの方が触媒Bよりも活性が高かった。550℃で水蒸気処理を行って得られた触媒Bは、423Kという比較的低い温度においても、34%という転化率が達成できた。この試験に用いた1,3,5−トリイソプロピルベンゼンはかさ高いためにゼオライトの細孔内に入り込むことができず、外表面においてのみ反応が進む。従って、触媒A及び触媒Bの優れた触媒活性は、触媒A及び触媒Bの外表面積が大きいことと、触媒A及び触媒Bが強酸点を有していることに起因していると考えられる。特に、触媒Bは、極めて微細な構成粒子が階層構造を有しているために外表面積がその分だけ大きくなり、高い触媒活性に繋がったと考えられる。
また、550℃で水蒸気処理を行なって得られた触媒Bについて、オクタンのクラッキング反応での触媒活性を調べたが、その触媒活性は、USY−0.1Mと同程度であった。オクタンはゼオライトの細孔内に入り込むことができるので、オクタンのクラッキング反応での触媒活性は、細孔内表面積を含む全表面積が関係する。従って、オクタンのクラッキング反応での触媒BとUSY−0.1Mの触媒活性が同程度で、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのクラッキング反応での触媒Bの触媒活性がUSY−0.1Mよりも高いという事実は、触媒BとUSY−0.1Mの比表面積や強酸点の強度が同程度であり、触媒Bが階層構造を有しているために広い外表面積を有していることが1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのクラッキング反応で優れた結果を与えた要因であることを示している。
従来は、1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのようなゼオライトの細孔に入り込まない巨大分子を効率的にクラッキングすることができる触媒は存在していなかった。本発明の触媒A及び触媒Bは、このような巨大分子を効率的にクラッキングすることを可能にしたという点で極めて技術的意義が高い触媒である。
10.アンモニウム塩水溶液の濃度及び種類の影響
「(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程」で使用するアンモニウム塩水溶液の濃度及び種類を表4に示すものに変更した場合の触媒活性への影響を調べるために、上記「(3)ろ過工程」でろ紙上の残った固形分からなる触媒の強酸点の酸強度と、この触媒を用いてオクタンのクラッキング反応を行った場合の活性化エネルギーを調べた。反応に用いた触媒量は、5.0mg(DRY)であり、オクタンの分圧が14Torrになるように窒素で希釈した反応ガスを触媒に接触させることによって反応を進行させた。反応ガスの流速は、40mL/minとした。
「(2)第1アンモニウム塩水溶液処理工程」で使用するアンモニウム塩水溶液の濃度及び種類を表4に示すものに変更した場合の触媒活性への影響を調べるために、上記「(3)ろ過工程」でろ紙上の残った固形分からなる触媒の強酸点の酸強度と、この触媒を用いてオクタンのクラッキング反応を行った場合の活性化エネルギーを調べた。反応に用いた触媒量は、5.0mg(DRY)であり、オクタンの分圧が14Torrになるように窒素で希釈した反応ガスを触媒に接触させることによって反応を進行させた。反応ガスの流速は、40mL/minとした。
得られた結果を表4に示す。表4中、USY−(数値)Mは、(数値)mol/Lの硝酸アンモニウム水溶液を用いたことを示し、USY−(塩の組成式)は、硝酸アンモニウム水溶液の代わりに、その塩の水溶液(0.5mol/L)を用いたことを示す。
表4を参照すると、アンモニウム塩水溶液の濃度及び種類を変更しても酸強度及び活性化エネルギーに与える影響は小さいということが分かる。この結果は、アンモニウム塩水溶液として、硝酸アンモニウム以外にも、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウムが好適に利用可能であることを示している。
Claims (8)
- (1)Y型ゼオライトに対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、
(2)工程(1)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、
(3)工程(2)の後の生成物をろ過してろ液を回収する工程と、
(4)前記ろ液中の固形分を回収する工程を備える、ゼオライト触媒の製造方法。 - (5)工程(4)で回収した前記固形分に対して450℃以上で水蒸気処理を行う工程と、
(6)工程(5)の後の生成物に対してアンモニウム塩水溶液処理を行う工程と、
(7)工程(6)の後の生成物から固形分を回収する工程をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 工程(1)、又は工程(1)及び工程(4)での水蒸気処理で用いる水蒸気含有ガスの水蒸気分圧は10%以上である、請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 工程(2)、又は工程(2)及び工程(5)でのアンモニウム塩水溶液の濃度は、0.01mol/L以上である、請求項1〜請求項3の何れか1つに記載の方法。
- 工程(2)、又は工程(2)及び工程(5)でのアンモニウム塩水溶液中のアンモニウム塩は、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウムから選択される少なくとも1種である、請求項1〜請求項4の何れか1つに記載の方法。
- 平均粒子径が20〜40nmであり、酸強度が141kJ/mol以上である強酸点の酸量が0.14mol/kg以上である、ゼオライト触媒。
- 一次粒子が凝集して形成された二次粒子が凝集して形成された三次粒子を有し、酸強度が148kJ/mol以上である強酸点の酸量が0.06mol/kg以上であり、前記一次粒子の平均粒子径が10〜30nmである、ゼオライト触媒。
- 前記二次粒子の平均粒子径が100〜500nmであり、前記三次粒子の平均粒子径が1〜50μmである、請求項7に記載の触媒。
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WO2021210674A1 (ja) * | 2020-04-16 | 2021-10-21 | 日揮触媒化成株式会社 | フォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法 |
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2012
- 2012-11-22 JP JP2012256531A patent/JP2014104372A/ja active Pending
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