JP2014103973A - 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 - Google Patents
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014103973A JP2014103973A JP2012256523A JP2012256523A JP2014103973A JP 2014103973 A JP2014103973 A JP 2014103973A JP 2012256523 A JP2012256523 A JP 2012256523A JP 2012256523 A JP2012256523 A JP 2012256523A JP 2014103973 A JP2014103973 A JP 2014103973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- median
- particle beam
- center
- channels
- irradiation apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 60
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 79
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 22
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 8
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- -1 carbon ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】本実施形態の粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、生成された前記粒子線ビームを走査指示値に従って2次元走査するビーム走査部と、前記粒子線ビームの走査位置を検出するセンサ部であって、複数チャネルの第1の線状電極が第1の方向に並列配置され、複数チャネルの第2の線状電極が前記第1の方向と直交する第2の方向に並列配置されるセンサ部と、前記第1及び第2の線状電極から出力される複数の信号の値からメディアンを求めるメディアン処理部と、求めた前記複数の信号のメディアンから前記粒子線ビームの重心位置を算出する重心位置算出部と、算出された前記重心位置と予め設定された基準走査位置との誤差が所定値よりも大きいときは、前記粒子線ビームの出射を停止させる制御部と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
図1は、本実施形態に係る粒子線ビーム照射装置1の構成例を示した図である。粒子線ビーム照射装置1は、ビーム生成部10、出射制御部20、X用電磁石30a及びY用電磁石30bを有するビーム走査部30、線量モニタ部40、位置モニタ部(センサ部)50、リッジフィルタ60、レンジシフタ70、制御部80、ビーム形状算出部90、記憶部97、表示部98等を備えて構成されている。制御部80はその内部構成として走査制御部81及び異常判定部82を有している。またビーム形状算出部90はその内部構成としてメディアン処理部94及び重心位置算出部91を有している。
図3は、スライス上の走査パターンの一例を示す図である。左上の開始格子点から右下の最終格子点に到る軌跡パターンが治療計画で予め定められ、この軌跡パターンにそって一方向に順次粒子線ビームが走査されていく。
位置モニタ部50では電極間に数kVの高電圧をかけることによって通過する粒子線ビームの大きさを検出している。このため、図9に示すように、電極の一部で放電が発生することがある。放電が発生した電極には大電流が流れるため、図9に示すように、その電極からは粒子線ビームが通過していないにも関わらず非常に大きな信号(誤信号)が出力されることになる。
前述した第1の実施形態で行う時間方向のメディアン処理は、各チャネルから時系列で出力される複数のデータに対するメディアンを求める処理である。これに対して、以下に説明する第2の実施形態で行う空間的メディアン処理は、上述した時間方向のメディアン処理に換えて、あるサンプル時刻において複数のチャネルから同時に出力される複数データに対するメディアンを求める処理である。
10 ビーム生成部
20 出射制御部
30 ビーム走査部
50 位置モニタ部
50a 位置モニタ部のX電極
50b 位置モニタ部のY電極
80 制御部
81 走査制御部
82 異常判定部
90 ビーム形状算出部
91 重心位置算出部
94、99 メディアン処理部
Claims (10)
- 粒子線ビームを生成するビーム生成部と、
生成された前記粒子線ビームを走査指示値に従って2次元走査するビーム走査部と、
前記粒子線ビームの走査位置を検出するセンサ部であって、複数チャネルの第1の線状電極が第1の方向に並列配置され、複数チャネルの第2の線状電極が前記第1の方向と直交する第2の方向に並列配置されるセンサ部と、
前記第1及び第2の線状電極から出力される複数の信号の値からメディアンを求めるメディアン処理部と、
求めた前記複数の信号のメディアンから前記粒子線ビームの重心位置を算出する重心位置算出部と、
算出された前記重心位置と予め設定された基準走査位置との誤差が所定値よりも大きいときは、前記粒子線ビームの出射を停止させる制御部と、
を備えたことを特徴とする粒子線ビーム照射装置。 - 前記メディアンは、
前記第1及び第2の線状電極の夫々から時系列で出力される前記複数の信号の値から求める時間方向のメディアンである、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記メディアン処理部は、
前記時系列で出力される前記複数の信号の値を小さい順に並べたときの中央に位置する値を、前記時間方向のメディアンとする、
ことを特徴とする請求項2に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記メディアンは、
前記複数チャネルの第1及び第2の線状電極のうち、注目するチャネルを中心とする所定の大きさの窓の範囲に並列配列されている複数チャネルから出力される信号の値から求める空間的なメディアンである、
ことを特徴とする請求項1に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 前記メディアン処理部は、
前記複数チャネルから出力される信号の値を小さい順に並べたときの中央に位置する値を前記注目するチャネルの前記空間的なメディアンとする、
ことを特徴とする請求項4に記載の粒子線ビーム照射装置。 - 粒子線ビームを生成するし、
生成された前記粒子線ビームを走査指示値に従って2次元走査し、
前記粒子線ビームの走査位置を検出するため、複数チャネルの第1の線状電極が第1の方向に並列配置され複数チャネルの第2の線状電極が前記第1の方向と直交する第2の方向に並列配置されるセンサ、の前記第1及び第2の線状電極から信号を出力し、
前記第1及び第2の線状電極から出力される複数の信号の値からメディアンを求め、
求めた前記複数の信号のメディアンから前記粒子線ビームの重心位置を算出し、
算出した前記重心位置と予め設定された基準走査位置との誤差が所定値よりも大きいときは、前記粒子線ビームの出射を停止させる、
ことを特徴とする粒子線ビーム照射装置の制御方法。 - 前記メディアンは、
前記第1及び第2の線状電極の夫々から時系列で出力される前記複数の信号の値から求める時間方向のメディアンである、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射装置の制御方法。 - 前記時系列で出力される前記複数の信号の値を小さい順に並べたときの中央に位置する値を、前記時間方向のメディアンとする、
ことを特徴とする請求項7に記載の粒子線ビーム照射装置の制御方法。 - 前記メディアンは、
前記複数チャネルの第1及び第2の線状電極のうち、注目するチャネルを中心とする所定の大きさの窓の範囲に並列配列されている複数チャネルから出力される信号の値から求める空間的なメディアンである、
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子線ビーム照射装置の制御方法。 - 前記複数チャネルから出力される信号の値を小さい順に並べたときの中央に位置する値を前記注目するチャネルの前記空間的なメディアンとする、
ことを特徴とする請求項9に記載の粒子線ビーム照射装置の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012256523A JP5904102B2 (ja) | 2012-11-22 | 2012-11-22 | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012256523A JP5904102B2 (ja) | 2012-11-22 | 2012-11-22 | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014103973A true JP2014103973A (ja) | 2014-06-09 |
JP5904102B2 JP5904102B2 (ja) | 2016-04-13 |
Family
ID=51026001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012256523A Active JP5904102B2 (ja) | 2012-11-22 | 2012-11-22 | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5904102B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06348841A (ja) * | 1993-06-03 | 1994-12-22 | Kawasaki Steel Corp | メディアンフィルタ |
JP2011161056A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
JP2012513020A (ja) * | 2008-12-19 | 2012-06-07 | ライプニツ‐インスティテュート フューア ノイロビオロギー | 位置分解測定機器に入射する量子ビームの空間座標を取得する位置分解測定機器とその方法 |
-
2012
- 2012-11-22 JP JP2012256523A patent/JP5904102B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06348841A (ja) * | 1993-06-03 | 1994-12-22 | Kawasaki Steel Corp | メディアンフィルタ |
JP2012513020A (ja) * | 2008-12-19 | 2012-06-07 | ライプニツ‐インスティテュート フューア ノイロビオロギー | 位置分解測定機器に入射する量子ビームの空間座標を取得する位置分解測定機器とその方法 |
JP2011161056A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5904102B2 (ja) | 2016-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5417644B2 (ja) | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 | |
JP5668000B2 (ja) | ビームモニタシステム及び粒子線照射システム | |
JP5463509B2 (ja) | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 | |
US10653891B2 (en) | Particle beam treatment system, particle beam treatment management system and method | |
US20100108903A1 (en) | Determination of control parameters for irradiation of a moving target volume in a body | |
TWI418379B (zh) | 粒子束照射裝置、粒子束治療裝置及記錄資料顯示程式之記錄媒體 | |
JP2009000347A (ja) | 粒子線照射システム | |
WO2014103471A1 (ja) | 粒子線治療装置 | |
JP6095117B2 (ja) | ビームモニタシステムおよび粒子線照射システム | |
JP5976474B2 (ja) | 粒子線照射システムおよび治療計画装置 | |
JP2008175829A (ja) | 粒子線測定方法および粒子線測定用モニタ装置 | |
JP2015033402A5 (ja) | ||
JP2014103974A (ja) | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 | |
EP3375484A1 (en) | Particle beam therapy system | |
JP5904102B2 (ja) | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 | |
JP2015142671A (ja) | 粒子線ビーム照射装置及びその制御方法 | |
JP6214906B2 (ja) | レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置 | |
JP2009261634A (ja) | 荷電粒子ビーム照射システム | |
JP5805552B2 (ja) | 粒子線照射システム制御装置および粒子線治療システム | |
JP6174983B2 (ja) | ビーム監視システムおよび粒子線照射システム | |
JP6353104B2 (ja) | イオン加速器及び重粒子線治療装置 | |
JP2012202933A (ja) | Ri製造装置及びri製造方法 | |
JP2020036953A (ja) | 粒子線ビーム照射装置、粒子線ビーム表示方法および粒子線ビーム表示プログラム | |
JP7220403B2 (ja) | 粒子線治療システム、計測粒子線ct画像生成方法、およびct画像生成プログラム | |
JP6869479B2 (ja) | 粒子線ビーム照射装置及び粒子線ビーム表示プログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160229 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5904102 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |