JP2014099461A - 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 - Google Patents
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014099461A JP2014099461A JP2012249390A JP2012249390A JP2014099461A JP 2014099461 A JP2014099461 A JP 2014099461A JP 2012249390 A JP2012249390 A JP 2012249390A JP 2012249390 A JP2012249390 A JP 2012249390A JP 2014099461 A JP2014099461 A JP 2014099461A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- mask blank
- substrate
- reflective
- reflective mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 102
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 429
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 252
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 110
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 87
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 51
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 98
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 96
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 44
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 35
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 6
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 6
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 24
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 abstract description 22
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 abstract description 11
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 128
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 94
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 33
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 25
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 23
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 18
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 14
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 14
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 12
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 8
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004535 TaBN Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N propane-1,2-diol;propanoic acid Chemical compound CCC(O)=O.CC(O)CO RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 150000003481 tantalum Chemical class 0.000 description 1
- 229910000500 β-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 マスクブランク基板の主表面上に多層反射膜を含む反射用薄膜を有する反射型マスクブランクの製造方法であって、前記反射型マスクブランクの製造方法が、前記反射用薄膜の上面に、レジスト層を形成し、前記レジスト層を用いたリソグラフィープロセスによって、前記多層反射膜の少なくとも一部を除去することにより、前記反射型マスクブランクの欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークを形成する基準マーク形成工程とを含み、前記基準マーク形成工程が、所定の滴下工程及び均一化工程を含む、反射型マスクブランクの製造方法である。
【選択図】 図1
Description
本発明の構成1は、マスクブランク基板の主表面上に反射用薄膜を有する反射型マスクブランクの製造方法であって、
前記反射用薄膜が、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた多層反射膜を少なくとも含み、
前記反射型マスクブランクの製造方法が、
前記反射用薄膜を有する前記マスクブランク基板を用意する工程と、
前記反射用薄膜の上面に、レジスト層を形成し、前記レジスト層を用いたリソグラフィープロセスによって、前記多層反射膜の少なくとも一部を除去することにより、前記反射型マスクブランクの欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークを形成する基準マーク形成工程と
を含み、
前記基準マーク形成工程が、
前記反射用薄膜の上面にレジスト液を滴下して供給する滴下工程と、
滴下した前記レジスト液を均一に広げる均一化工程と、
を含み、
前記滴下工程の間、前記マスクブランク基板が、静止しているか、又は、滴下された前記レジスト液が前記マスクブランク基板の回転による作用で実質的に移動しない回転速度で回転しており、
前記均一化工程が、前記マスクブランク基板の回転速度を、前記均一化工程の最高回転速度に至るまで加速する回転加速段階を含み、
前記回転加速段階において、前記マスクブランク基板の回転速度の加速開始から前記均一化工程の最高回転速度に至るまでの時間が、少なくとも1秒以上あることを特徴とする、反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成2の反射型マスクブランクの製造方法は、前記反射用薄膜の上面が、前記多層反射膜の上面である、構成1に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成3の反射型マスクブランクの製造方法は、前記反射用薄膜が、前記多層反射膜の上面に形成された保護膜を含み、前記反射用薄膜の上面が、前記保護膜の上面である、構成1に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成4の反射型マスクブランクの製造方法は、前記回転加速段階において、前記均一化工程の最高回転速度の10%以上50%未満の回転速度まで第一の回転加速度で前記マスクブランク基板の回転速度を上昇させる第一の回転加速段階と、前記第一の回転加速段階の後に、前記第一の回転加速度よりも高い第二の回転加速度で前記マスクブランク基板の回転速度を上昇させる第二の回転加速段階とを含むことを特徴とする、構成1〜3のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成5の反射型マスクブランクの製造方法は、前記反射用薄膜の上面が、スパッタリングにより成膜されたMo、Nb、Ru又はSiから選択される少なくとも1以上の元素が含まれる層の表面であることを特徴とする、構成1〜4のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成6の反射型マスクブランクの製造方法は、前記均一化工程の最高回転速度が、500rpm以上であることを特徴とする、構成1〜5のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成7の反射型マスクブランクの製造方法は、前記マスクブランク基板の主表面上に、前記主表面の周縁部において前記マスクブランク基板の内側から外側に向かって膜厚が小さくなる膜厚傾斜領域が設けられるように前記多層反射膜が形成されていることを特徴とする、構成1〜6のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。
本発明の構成8の反射型マスクブランクの製造方法は、前記反射用薄膜の上面に吸収体膜を形成する吸収体膜形成工程を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法である。吸収体膜をパターニングすることにより、吸収体膜パターンを有する反射型マスクを得ることができる。
本発明は、構成8の反射型マスクブランクの製造方法によって製造された反射型マスクブランクの前記吸収体膜をパターニングするパターニング形成工程を有することを特徴とする、反射型マスクの製造方法である。本発明の構成9の反射型マスクの製造方法により、パターン形成領域における欠陥の発生が抑制され、かつ直線的な輪郭の基準マークを有する反射型マスクを得ることができる。
実施例1に使用した基板11は、SiO2−TiO2系のガラス基板11(6インチ角[152.4mm×152.4mm]、厚さが6.3mm)である。このガラス基板11を機械研磨することにより、表面粗さRms(二乗平均平方根粗さ)が0.15nm(測定領域:1μm×1μm、原子間力顕微鏡で測定)の平滑な表面と、0.05μm以下の平坦度とを有するガラス基板11を得た。
レジスト:ポジ型化学増幅型レジストFEP171(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)
溶剤:PGMEA(プロピレングリコールモノメチルアセテート)とPGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)の混合溶剤
保護膜形成工程(S3)の後に基準マーク形成工程(S2)を実施した以外は、実施例1と同一の条件で、実施例2の反射型マスクブランク1を製造した。
基準マーク形成工程(S2)のうち、均一化工程(S22)が異なる他は、実施例1と同一の条件で、比較例1の反射型マスクブランク1を製造した。表2に、比較例1の基準マーク形成工程(S2)中の滴下工程(S21)及び均一化工程(S22)の際の、基板の回転速度の時間変化を示す。比較例1の場合には、均一化工程(S22)において、低回転加速段階(S22−1)及び高回転加速段階(S22−2)は行わなかった。比較例1の場合には、その代わりに、滴下工程(S21)の直後、300rpmの低速回転を3秒間実施し、低速回転の直後、1500rpmの高速回転段階(S22−3)を3.5秒間実施した。
基準マーク形成工程(S2)のうち、均一化工程(S22)が異なる他は、実施例1と同一の条件で、比較例2の反射型マスクブランク1を製造した。表3に、比較例2の基準マーク形成工程(S2)中の滴下工程(S21)及び均一化工程(S22)の際の、基板の回転速度の時間変化を示す。比較例2の場合には、均一化工程(S22)において、低回転加速段階(S22−1)及び高回転加速段階(S22−2)は行わなかった。比較例2の場合には、その代わりに、滴下工程(S21)の直前に滴下前回転(1000rpmで1秒間)を実施し、その回転速度を維持したまま、滴下工程(S21)を実施した。滴下工程(S21)の直後、高速回転段階(S22−3)の前に、低速回転(500rpmで3秒間)を実施した。
実施例1、2及び比較例1、2について、基準マーク形成工程(S2)の乾燥工程(S23)終了時点の欠陥数を、レーザー干渉コンフォーカル光学系による60nm感度の欠陥検査装置(レーザーテック社製 M6640)を用いて、欠陥の大きさごとにカウントした。欠陥数の測定結果を表4に示す。
2 反射型マスク
11 基板(ガラス基板)
12 多層反射膜
13 保護膜
14 露光光吸収体層
15 低反射層
16 吸収体膜
18 導電膜
19 電子線描画用レジスト膜
21 レジストパターン
22 吸収体膜パターン
31 EUV光
32 レーザープラズマX線源
33 縮小光学系
34 半導体基板
50 パターン転写装置
60 イオンビームスパッタリング装置
61 集束イオンビーム発生装置
62 ターゲット
63 回転ステージ
64 集束イオンビーム
66 スパッタ粒子
68 遮蔽部材
71 主表面
72 側面
73 面取面
80 基準マーク
82 ファインマーク
84 補助マーク
90 膜厚傾斜領域
115 多層反射膜付き基板
120 回転塗布装置
121 スピンナーチャック
122 ノズル
123 カップ
124 インナーリング
126 レジスト液
130 排気手段
132 開口部
134 気流
Dslope 膜厚傾斜領域の幅
α スパッタ粒子の入射角
Claims (9)
- マスクブランク基板の主表面上に反射用薄膜を有する反射型マスクブランクの製造方法であって、
前記反射用薄膜が、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた多層反射膜を少なくとも含み、
前記反射型マスクブランクの製造方法が、
前記反射用薄膜を有する前記マスクブランク基板を用意する工程と、
前記反射用薄膜の上面に、レジスト層を形成し、前記レジスト層を用いたリソグラフィープロセスによって、前記多層反射膜の少なくとも一部を除去することにより、前記反射型マスクブランクの欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークを形成する基準マーク形成工程と
を含み、
前記基準マーク形成工程が、
前記反射用薄膜の上面にレジスト液を滴下して供給する滴下工程と、
滴下した前記レジスト液を均一に広げる均一化工程と、
を含み、
前記滴下工程の間、前記マスクブランク基板が、静止しているか、又は、滴下された前記レジスト液が前記マスクブランク基板の回転による作用で実質的に移動しない回転速度で回転しており、
前記均一化工程が、前記マスクブランク基板の回転速度を、前記均一化工程の最高回転速度に至るまで加速する回転加速段階を含み、
前記回転加速段階において、前記マスクブランク基板の回転速度の加速開始から前記均一化工程の最高回転速度に至るまでの時間が、少なくとも1秒以上あることを特徴とする、反射型マスクブランクの製造方法。 - 前記反射用薄膜の上面が、前記多層反射膜の上面である、請求項1に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記反射用薄膜が、前記多層反射膜の上面に形成された保護膜を含み、前記反射用薄膜の上面が、前記保護膜の上面である、請求項1に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記回転加速段階において、前記均一化工程の最高回転速度の10%以上50%未満の回転速度まで第一の回転加速度で前記マスクブランク基板の回転速度を上昇させる第一の回転加速段階と、前記第一の回転加速段階の後に、前記第一の回転加速度よりも高い第二の回転加速度で前記マスクブランク基板の回転速度を上昇させる第二の回転加速段階とを含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記反射用薄膜の上面が、スパッタリングにより成膜されたMo、Nb、Ru又はSiから選択される少なくとも1以上の元素が含まれる層の表面であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記均一化工程の最高回転速度が、500rpm以上であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記マスクブランク基板の主表面上に、前記主表面の周縁部において前記マスクブランク基板の内側から外側に向かって膜厚が小さくなる膜厚傾斜領域が設けられるように前記多層反射膜が形成されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 前記反射用薄膜の上面に吸収体膜を形成する吸収体膜形成工程を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射型マスクブランクの製造方法。
- 請求項8の反射型マスクブランクの製造方法によって製造された反射型マスクブランクの前記吸収体膜をパターニングするパターニング形成工程を有することを特徴とする、反射型マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012249390A JP6114009B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012249390A JP6114009B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014099461A true JP2014099461A (ja) | 2014-05-29 |
JP6114009B2 JP6114009B2 (ja) | 2017-04-12 |
Family
ID=50941254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012249390A Active JP6114009B2 (ja) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6114009B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160018437A (ko) * | 2014-08-07 | 2016-02-17 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크용 유리 기판 및 그의 제조 방법 |
JP2017525999A (ja) * | 2014-07-11 | 2017-09-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 多層スタックを有する極紫外線反射素子、及び極紫外線反射素子を製造する方法 |
WO2022203024A1 (ja) * | 2021-03-26 | 2022-09-29 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
KR20220160500A (ko) * | 2021-05-27 | 2022-12-06 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 도전막을 구비하는 기판 및 반사형 마스크 블랭크 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10151407A (ja) * | 1996-11-25 | 1998-06-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布液塗布方法 |
JPWO2008129914A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | 旭硝子株式会社 | Euvマスクブランク |
WO2010110237A1 (ja) * | 2009-03-26 | 2010-09-30 | Hoya株式会社 | 反射型マスク用多層反射膜付基板及び反射型マスクブランク並びにそれらの製造方法 |
-
2012
- 2012-11-13 JP JP2012249390A patent/JP6114009B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10151407A (ja) * | 1996-11-25 | 1998-06-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布液塗布方法 |
JPWO2008129914A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | 旭硝子株式会社 | Euvマスクブランク |
WO2010110237A1 (ja) * | 2009-03-26 | 2010-09-30 | Hoya株式会社 | 反射型マスク用多層反射膜付基板及び反射型マスクブランク並びにそれらの製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017525999A (ja) * | 2014-07-11 | 2017-09-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 多層スタックを有する極紫外線反射素子、及び極紫外線反射素子を製造する方法 |
KR20160018437A (ko) * | 2014-08-07 | 2016-02-17 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크용 유리 기판 및 그의 제조 방법 |
JP2016038573A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 旭硝子株式会社 | マスクブランク用ガラス基板、および、その製造方法 |
KR102341558B1 (ko) | 2014-08-07 | 2021-12-22 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크용 유리 기판 및 그의 제조 방법 |
WO2022203024A1 (ja) * | 2021-03-26 | 2022-09-29 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
KR20220160500A (ko) * | 2021-05-27 | 2022-12-06 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 도전막을 구비하는 기판 및 반사형 마스크 블랭크 |
KR102649277B1 (ko) | 2021-05-27 | 2024-03-20 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 도전막을 구비하는 기판 및 반사형 마스크 블랭크 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6114009B2 (ja) | 2017-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6111243B2 (ja) | 多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 | |
US7504185B2 (en) | Method for depositing multi-layer film of mask blank for EUV lithography and method for producing mask blank for EUV lithography | |
JP5327046B2 (ja) | Euvマスクブランク | |
JP6298259B2 (ja) | マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | |
JP2015111312A (ja) | マスクブランク及び転写マスクの製造方法 | |
JP6114009B2 (ja) | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 | |
JP6251524B2 (ja) | マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | |
JP6106413B2 (ja) | 反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 | |
JP6586934B2 (ja) | 反射型マスクブランク、及び反射型マスクブランクの製造方法 | |
JP4629396B2 (ja) | マスクブランクの製造方法及び転写マスクの製造方法 | |
JP3973103B2 (ja) | マスクブランクスの製造方法 | |
WO2004088418A1 (ja) | マスクブランクスの製造方法 | |
JP2010267777A (ja) | ナノインプリントモールド用基材の処理方法およびそれを用いたナノインプリントモールドの製造方法 | |
JP2018205350A (ja) | 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、マスクブランク、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、レジスト除去装置、及びレジスト除去方法 | |
JP7168573B2 (ja) | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 | |
JP2013131728A (ja) | 反射型マスク用基板、反射型マスクブランクス、反射型マスク、および、それらの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150316 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170314 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170316 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6114009 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |