JP2018205350A - 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、マスクブランク、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、レジスト除去装置、及びレジスト除去方法 - Google Patents
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Abstract
Description
従来は、ブランクス検査等において、基板の欠陥の存在位置を、基板センターを原点(0,0)とし、その位置からの距離で特定していた。このため、位置精度が低く、装置間でも検出のばらつきがあり、パターン描画時に、欠陥を避けてパターン形成用薄膜にパターニングする場合でもμmオーダーでの回避は困難であった。このため、パターンを転写する方向を変えたり、転写する位置をmmオーダーでラフにずらして欠陥を回避していた。
特許文献1には、球相当直径で30nm程度の微小な欠陥の位置を正確に特定できるように、EUVリソグラフィ用反射型マスクブランク用基板の成膜面に、大きさが球相当直径で30〜100nmの少なくとも3つのマークを形成することが開示されている。
すなわち、上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。
基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜とを備える反射型マスクブランクであって、前記吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜を備え、前記反射型マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、前記レジスト膜は、前記基準マーク上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域を有することを特徴とする反射型マスクブランク。
前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、略円形状又は略角形状であることを特徴とする構成1に記載の反射型マスクブランク。
(構成3)
前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、円形状であり、直径4mm以下であることを特徴とする構成2に記載の反射型マスクブランク。
前記基準マークは、大きさが6インチ角の反射型マスクブランクにおいて、外周部端面から5mm以上内側に形成されることを特徴とする構成1乃至3のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
(構成5)
前記基準マークは、前記多層反射膜に形成されることを特徴とする構成1乃至4のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
前記基準マークは、電子線又は欠陥検査光の走査方向に対して200nm以上10μm以下の幅の部分を有することを特徴とする構成1乃至5のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
構成1乃至6のいずれかに記載の反射型マスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、前記吸収体膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜とを備えるマスクブランクであって、前記薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜を備え、前記マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、前記レジスト膜は、前記基準マーク上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域を有することを特徴とするマスクブランク。
前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、略円形状又は略角形状であることを特徴とする構成8に記載のマスクブランク。
(構成10)
前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、円形状であり、直径4mm以下であることを特徴とする構成9に記載のマスクブランク。
前記基準マークは、大きさが6インチ角のマスクブランクにおいて、外周部端面から5mm以上内側に形成されることを特徴とする構成8乃至10のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成12)
前記基準マークは、前記薄膜に形成されることを特徴とする構成8乃至11のいずれかに記載のマスクブランク。
構成8乃至12のいずれかに記載のマスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、前記薄膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有することを特徴とするマスクの製造方法。
構成7に記載の反射型マスクの製造方法により製造された反射型マスク、又は、構成13に記載のマスクの製造方法により製造されたマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
基板上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的に除去するレジスト除去装置であって、レジスト膜を溶解除去するための溶媒を前記レジスト膜の不要レジスト部に吐出する溶媒吐出部と、前記溶媒によって溶解された不要レジスト部のレジスト液を吸引して排出する排液吸引部とを備え、前記レジスト膜の不要レジスト部を、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去することを特徴とするレジスト除去装置。
前記溶媒吐出部の吐出ノズルの直径と前記排液吸引部の吸引ノズルの直径とが異なり、前記吐出ノズルの中心軸と前記吸引ノズルの中心軸とが一致するように配置されることを特徴とする構成15に記載のレジスト除去装置。
(構成17)
前記吐出ノズルと前記吸引ノズルの各々の水平断面形状は同一形状であり、かつ略円形状又は略角形状であることを特徴とする構成16に記載のレジスト除去装置。
前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜と、該吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されている反射型マスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする構成15乃至17のいずれかに記載のレジスト除去装置。
前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜と、該薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されているマスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする構成15乃至17のいずれかに記載のレジスト除去装置。
基板上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的に除去するレジスト除去方法であって、レジスト膜を溶解除去するための溶媒を吐出する吐出ノズルを用いて、前記溶媒を前記レジスト膜の不要レジスト部に給液して不要レジスト部のレジスト膜を溶解させ、前記溶媒によって溶解されたレジスト液を吸引して排出する吸引ノズルを用いて、前記溶媒によって溶解された不要レジスト部のレジスト液を吸引して排出させることにより、前記レジスト膜の不要レジスト部を、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去することを特徴とするレジスト除去方法。
前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜と、該吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されている反射型マスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする構成20に記載のレジスト除去方法。
前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜と、該薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されているマスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする構成20に記載のレジスト除去方法。
また、本発明によれば、これらマスクブランクを使用し、これらの欠陥情報に基づき、描画データの修正、修正データによる電子線描画を行なうことで欠陥を低減させることができ、さらに膜剥がれ等が発生することもない反射型マスク及びマスクを提供することができる。
また、本発明によれば、基板上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的(スポット的)に除去することができ、例えば上記の反射型マスクブランクやマスクブランクの製造に好適なレジスト除去装置及びレジスト除去方法を提供することができる。
[反射型マスクブランク]
本発明に係る反射型マスクブランクは、上記構成1にあるとおり、基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜とを備える反射型マスクブランクであって、前記吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜を備え、前記反射型マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、前記レジスト膜は、前記基準マーク上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域を有することを特徴とするものである。
図1及び図2に示される本発明の一実施形態の反射型マスクブランク10では、基板1と、該基板1上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜2及びEUV光を吸収する吸収体膜3とを備え、さらに吸収体膜3上に形成された電子線描画用のレジスト膜4を備えている。
図3は、上記基準マーク5の形状例を示す図である。
図3(a)のような十字形状の基準マークが代表的な例である。また、同図(b)のようなL字形状や、同図(c)に示すようなメインマーク5aの周囲に4つの補助マーク5b〜5eを配置したものや、同図(d)に示すようなメインマーク5aの周囲に2つの補助マーク5b、5cを配置した基準マークとすることもできる。なお、本発明ではこのような基準マークの形状例に勿論限定されるわけではない。
上記基準マーク5を用いて、欠陥位置の基準となる基準点は次のようにして決定される(図5を参照)。なお、ここでは、十字形状の基準マークを一例として挙げている。
上記基準マーク5上を電子線、あるいは欠陥検査光がX方向、Y方向に走査し、検出された基準マーク5上の交点(通常、基準マークの略中心)をもって基準点を決定する。
また、基準マークの断面形状としては、凹形状に限らず、凸形状、又は凹形状と凸形状の混合などが挙げられる。この場合には、集束イオンビーム又はフォトリソ法などで形成することができる。
例えば、波長13〜14nmのEUV光に対する多層反射膜としては、Mo膜とSi膜を交互に40周期程度積層したMo/Si周期積層膜が好ましく用いられる。その他に、EUV光の領域で使用される多層反射膜として、Ru/Si周期多層膜、Mo/Be周期多層膜、Mo化合物/Si化合物周期多層膜、Si/Nb周期多層膜、Si/Mo/Ru周期多層膜、Si/Mo/Ru/Mo周期多層膜、Si/Ru/Mo/Ru周期多層膜などがある。露光波長により、材質を適宜選択すればよい。上記多層反射膜2は、例えばイオンビームスパッタリング法で形成することができる。
下地層の膜厚は、例えば75nm〜300nmの範囲が好ましい。
上記吸収体膜3は、単一層でも、異なる組成の積層膜(例えば、TaBN層とTaBO層の積層)としてもよい。
上記吸収体膜3は、例えばスパッタリング法で形成することができる。上記吸収体膜3の膜厚は、例えば25nm〜70nmの範囲が好ましい。
このようなエッチングマスク膜は、上記吸収体膜3とはエッチング選択性のある材料で形成され、上記吸収体膜3が上記のタンタル系材料で形成される場合、エッチングマスク膜は、例えばクロム系材料で形成されることが好ましい。クロム系材料としては、クロム(Cr)単体またはクロム化合物(クロム酸化物、クロム窒化物、クロム酸窒化物、クロム炭化物など)が挙げられる。
上記エッチングマスク膜は、例えばスパッタリング法で形成することができる。また、上記エッチングマスク膜の膜厚は、例えば5nm〜15nmの範囲が好ましい。
次に、このようなレジスト膜未形成領域6の形成に好適なレジスト除去装置及びレジスト除去方法について詳述する。
図6は、レジスト除去装置の一実施形態を示す構成図であり、図7は、図6中の二重管ノズルの拡大構成図である。また、図8は、上記レジスト除去装置による作用を説明するための模式図である。
図6に示すレジスト除去装置は、例えば反射型マスクブランク上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的に除去するためのレジスト除去装置である。具体的には、レジスト膜を溶解除去するための溶媒を上記レジスト膜の不要レジスト部に吐出する溶媒吐出部と、溶媒によって溶解された不要レジスト部のレジスト液を吸引して排出する排液吸引部とを備える二重管ノズル37Aと、上記溶媒を二重管ノズル37Aに供給する給液系統と、二重管ノズル37Aから排出される溶解されたレジスト液等を排液する排液系統とを有している。
また、上記吐出ノズル51aと上記吸引ノズル52aの垂直方向の位置関係について、上記吐出ノズル51aの吐出面と上記吸引ノズル52aの吸引面とは、同一面上であることが好ましいが、レジスト膜未形成領域の大きさを調整する際に、吐出ノズル51aの吐出面を吸引ノズル52aの吸引面よりも高くしたり低くしたりして調整することも可能である。
本発明に使用する上記溶媒は、レジスト膜を溶解する性質を有するものであれば特に制約はない。レジスト膜の種類にもよるが、本発明に適用される電子線描画用のレジスト膜の場合、通常、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、アセトン、メチルセロソルブアセテート(MCA)、等の有機溶剤を単独で、或いは適宜混合して用いる。
また、上記二重管ノズル37Aの上記吐出ノズル51a及び上記吸引ノズル52aは、レジスト膜4の表面から1000μm以下程度離間した高さ(離間距離)に設置して処理を行うことが好ましく、500μm以下がより好ましい。上記離間距離は、レジスト膜を溶解除去した後のレジスト膜未形成領域の外周端部のフリンジ(盛り上がり)やレジスト膜未形成領域の中央部のレジスト残渣に特に影響し、これらのフリンジや残渣を少なくするために、200μm以下とすることが望ましく、140μm以下がより望ましい。また、上記離間距離が小さ過ぎると、溶解されたレジスト液を十分に吸引できないため、5μm以上が好ましい。
さらに、図14に示す二重管ノズル37Aの吸引ノズル52a(外側ノズル)の外径ODaは、4mm以下が好ましく、2mm以下とすることがより好ましい。吸引ノズル52a(外側ノズル)の内径IDaは、3.95mm以下が好ましく、1.95mm以下とすることがより好ましい。二重管ノズル37Aの吐出ノズル51a(内側ノズル)の外径ODbは、3.9mm以下が好ましく、1.9mm以下とすることがより好ましい。吐出ノズル51a(内側ノズル)の内径IDbは、3.85mm以下が好ましく、1.85mm以下とすることがより好ましい。
また、反射型マスクブランクに対する上記二重管ノズル37Aの相対移動は、例えば、X−Yステージによるノズルスキャンでもよいし、ターンテーブルによる基板回転でもよい。
他の実施形態では、図10に示すように、二重管ノズル37Bは、本体部が、内側の排液管52と外側の給液管51との二重管構造となっており、上記給液管51の先端部は吐出ノズル51aを有し、上記排液管52の先端部は吸引ノズル52aを有している。そして、これら先端部のノズルは、内側の吸引ノズル52aと外側の吐出ノズル51aとの二重ノズル構造となっている。従って、上記吐出ノズル51aと上記吸引ノズル52aの各々の水平断面形状はいずれも円形状であるが、上記吐出ノズル51aの直径は上記吸引ノズル52aの直径よりも大きく、かつ、上記吐出ノズル51aの中心軸と上記吸引ノズル52aの中心軸とが一致するように配置されている。
本発明の反射型マスクブランクは例えば以下の製造方法によって得ることができる。
すなわち、上記基板1上に、EUV光を反射する多層反射膜2が形成された多層反射膜付き基板を準備する工程と、前記多層反射膜2に欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マーク5を形成する基準マーク形成工程と、前記基準マーク5を基準として多層反射膜付き基板の欠陥情報を取得する多層反射膜付き基板欠陥情報取得工程と、前記多層反射膜2上に吸収体膜3を形成する吸収体膜形成工程と、前記吸収体膜3上の全面に電子線描画用のレジスト膜4を形成するレジスト膜形成工程と、前記基準マーク5上の領域のレジスト膜を局所的(スポット的)に除去するレジスト膜未形成領域形成工程と、を有する反射型マスクブランクの製造方法である。
ここで、上記レジスト膜未形成領域形成工程は、上述のレジスト除去装置を用いたレジスト除去方法を適用して行うことができる。本発明の反射型マスクブランクの製造に好適なレジスト除去装置及びレジスト除去方法については上述したとおりであるので、ここでは説明を省略する。
また、上記多層反射膜付き基板の欠陥情報、及び/又は上記反射型マスクブランクの欠陥情報と、反射型マスクブランクとを対応させる工程をさらに有してもよい。
図12は、本発明のマスクブランクの一実施形態を示す断面構成図であり、ガラス基板11上に遮光膜12が形成され、該遮光膜12上に電子線描画用のレジスト膜13を備えているバイナリマスクブランク20を示す。本実施形態では、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マーク14は遮光膜12に凹形状となるように形成されている。そして、上記レジスト膜13は、上記基準マーク14上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域15を有する構成としている。上記構成におけるレジスト膜未形成領域の形成方法、基準マークとその形成方法は、上述の反射型マスクブランクの場合と同様である。
上記基準マーク14は、大きさが6インチ角のマスクブランクにおいて、外周部端面から5mm以上内側に形成されることが好ましく、特に8mm以上内側に形成されることが好ましい。また、この場合、上記レジスト膜未形成領域15の水平断面形状は円形状であれば、その直径は4mm以下であることが好ましい。
この遮光膜は、単層でも複数層(例えば遮光層と反射防止層との積層構造)としてもよい。また、遮光膜を遮光層と反射防止層との積層構造とする場合、この遮光層を複数層からなる構造としてもよい。また、上記位相シフト膜についても、単層でも複数層としてもよい。
上記タンタル(Ta)を含有する材料としては、タンタル単体のほかに、タンタルと他の金属元素(例えば、Hf、Zr等)との化合物、タンタルにさらに窒素、酸素、炭素及びホウ素のうち少なくとも1つの元素を含む材料、具体的には、TaN、TaO、TaC、TaB、TaON、TaCN、TaBN、TaCO、TaBO、TaBC、TaCON、TaBON、TaBCN、TaBCONを含む材料などが挙げられる。
本発明は、上記構成の反射型マスクブランクにおける前記吸収体膜がパターニングされている反射型マスク、上記構成のマスクブランクにおける前記薄膜がパターニングされているマスクについても提供する。
図11は、前述の図1又は図2の反射型マスクブランク10における吸収体膜3がパターニングされた吸収体膜パターン3aを備える反射型マスク10Aを示す。
また、図13は、前述の図12のバイナリマスクブランク20における遮光膜12がパターニングされた遮光膜パターン12aを備えるバイナリマスク20Aを示す。
本発明の反射型マスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、形成されたレジストパターンをマスクにして前記吸収体膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有する反射型マスクの製造方法である。
また、上記電子線描画は、電子線描画機における電子線で基準マークを検出し、検出した基準点に基づいて修正した描画データを元に行うことが好適である。
本発明のマスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、前記薄膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有するマスクの製造方法である。
本発明に係る上記構成のマスクブランクを用いて得られるマスクは、マスクブランクにおける欠陥情報に基づく高精度の描画データの補正・修正、及びパターン描画によって、欠陥を低減させたものが得られる。
本発明は、上述の反射型マスクの製造方法により製造された反射型マスク、又は、上述のマスクの製造方法により製造されたマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法についても提供する。
本発明に係る反射型マスクブランクまたはマスクブランクを用いて得られる反射型マスクまたはマスク(例えばバイナリマスク)を用いることによって、パターン精度の優れたデバイスパターンが形成され、しかも欠陥を低減させた高品質の半導体装置(半導体デバイス)を製造することができる。
(実施例1)
両面研磨装置を用い、酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカ砥粒により段階的に研磨し、低濃度のケイフッ酸で基板表面を表面処理したSiO2−TiO2系のガラス基板(大きさが約152.4mm×約152.4mm、厚さが約6.35mm)を準備した。得られたガラス基板の表面粗さは、二乗平均平方根粗さ(RMS)で0.25nmであった。なお、表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM)にて測定し、測定領域は1μm×1μmとした。
なお、本実施例では、基準マークとして、前述の図3(a)に示すような十字形状の基準マークを形成した。大きさは、幅2μmで長さが1mmの十字形状で、深さは40nmの断面凹形状とした。
レジスト膜4の表面から二重管ノズル37Aまでの離間距離:40μm
吐出ノズル51a(内側ノズル)の外径ODb及び内径IDb:1.21mm及び0.75mm
吸引ノズル52a(外側ノズル)の外径ODa及び内径IDa:1.78mm及び1.32mm
吐出ノズル51aへの給液量:1.0ml/min
吐出ノズル51aからの吐出時間:30秒
吸引ノズル52aからの吸引量:0.5ml/min
以上のようにして、基準マーク上の領域のレジスト膜を局所的に除去したレジスト膜未形成領域を有するEUV反射型マスクブランクが得られた。
また、レジスト膜未形成領域における基準マークは、電子線描画装置やブランクス検査装置で、コントラストが0.021と高く、精度良く検出でき、しかも欠陥検出位置のばらつきも20nmで100nm以下となり再現性良く検出できた。
まず、EUV反射型マスクブランクの欠陥情報に基づいて、予め設計しておいたマスクパターンデータと照合し、露光装置を用いたパターン転写に影響のないマスクパターンデータに修正するか、パターン転写に影響があると判断した場合には、例えば欠陥をパターンの下に隠すように修正パターンデータを追加したマスクパターンデータに修正するか、修正パターンデータでも対応ができない欠陥については、マスク作製後の欠陥修正の負荷が低減できるマスクパターンデータに修正し、この修正されたマスクパターンデータに基づいて、上述のレジスト膜に対して電子線描画機によりマスクパターンを描画、現像を行い、レジストパターンを形成した。本実施例では、反射型マスクブランクの表面のレジスト膜に上述のレジスト膜未形成領域を有しているので、上記基準マークと欠陥との相対位置関係が高い精度で管理できたので、マスクパターンデータの修正を高精度で行うことができた。そして、電子線描画機においても電子線で容易に基準マークを検出でき、検出した基準点に基づいて、修正した描画データを元に電子線描画が行われた。
さらに、吸収体膜パターン上に残ったレジストパターンを熱硫酸で除去し、EUV反射型マスクを得た。
こうして得られた反射型マスクを露光装置にセットし、レジスト膜を形成した半導体基板上へのパターン転写を行う場合、反射型マスク起因の転写パターンの欠陥も無く、良好なパターン転写を行うことができる。
両面研磨装置を用い、酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカ砥粒により段階的に研磨し、低濃度のケイフッ酸で基板表面を表面処理した合成石英基板(大きさが約152.4mm×約152.4mm、厚さが約6.35mm)を準備した。得られたガラス基板の表面粗さは、二乗平均平方根粗さ(RMS)で0.2nmであった。また、ガラス基板表面及び裏面の平坦度は約290nmであった。
ターゲットにタンタル(Ta)ターゲットを用い、キセノン(Xe)と窒素(N2)の混合ガス雰囲気(ガス圧0.076Pa、ガス流量比 Xe:N2=11sccm:15sccm)で、DC電源の電力を1.5kWとし、反応性スパッタリング(DCスパッタリング)により、TaN膜を膜厚44.9nmで成膜し、引き続いて、Taターゲットを用い、アルゴン(Ar)と酸素(O2)の混合ガス雰囲気(ガス圧0.3Pa、ガス流量比 Ar:O2=58sccm:32.5sccm)で、DC電源の電力を0.7kWとし、TaO膜を膜厚13nmで成膜することにより、TaN膜とTaO膜の積層からなるArFエキシマレーザー(波長193nm)用遮光膜を形成した。なお、ArFエキシマレーザーに対する遮光膜の光学濃度は3.0、表面反射率は19.5%であった。
以上のようにして、基準マーク上の領域のレジスト膜を局所的に除去したバイナリマスクブランクが得られた。
まず、実施例1と同様、バイナリマスクブランクの欠陥情報に基づいて、予め設計しておいたマスクパターンデータと照合し、露光装置を用いたパターン転写に影響のないマスクパターンデータに修正するか、パターン転写に影響があると判断した場合には、修正パターンデータを追加したマスクパターンデータに修正するか、修正パターンデータでも対応ができない欠陥については、マスク作製後の欠陥修正の負荷が低減できるマスクパターンデータに修正し、この修正されたマスクパターンデータに基づいて、上述のレジスト膜に対して電子線描画機によりマスクパターンを描画、現像を行い、レジストパターンを形成した。本実施例においても、マスクブランクの表面のレジスト膜に上述のレジスト膜未形成領域を有しているので、上記基準マークと欠陥との相対位置関係が高い精度で管理できたので、マスクパターンデータの修正を高精度で行うことができた。そして、電子線描画機においても電子線で基準マークを検出し、検出した基準点に基づいて、修正した描画データを元に電子線描画が行われた。
さらに、遮光膜パターン上に残ったレジストパターンを熱硫酸で除去し、バイナリマスクを得た。
こうして得られたバイナリマスクを露光装置にセットし、レジスト膜を形成した半導体基板上へのパターン転写を行ったところ、転写パターンの欠陥も無く、良好なパターン転写を行えた。
上記実施例1において、基準マーク上の領域にレジスト膜未形成領域を形成しないこと以外は、実施例1と同様に、基準マークを形成した多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクを順に作製した。
この得られたEUV反射型マスクについてマスク欠陥検査装置(KLA−Tencor社製Teron600シリーズ)により検査したところ、多層反射膜上に多数の凸欠陥が確認された。
この原因を詳細に検討したところ、電子線描画時に電子線で基準マークを精度良く検出できなかったため、基準マークを基準にした欠陥位置情報のばらつきが大きくなったためであることが判明した。
上記実施例1において、基準マークの形成箇所を含む領域であって、基板のコーナー部を基板外周部を含むL字状にレジスト膜を除去したこと以外は、実施例1と同様に、基準マークを形成した多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクを順に作製した。
しかしながら、反射型マスクを作製した際に、コーナー部の多層反射膜の側壁が露出したため、洗浄により膜剥がれを生じた。
上記実施例1において、前述の図6及び図7に示すレジスト除去装置を用いて、基準マーク上の領域にレジスト膜未形成領域を形成する工程において、レジスト溶解除去条件のうち、レジスト膜面に対するノズル高さ(離間距離)を表1に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして反射型マスクブランクを作製した。
形成されたレジスト膜未形成領域を観察して、以下の基準で評価し、その結果を表1に示した。
○:レジスト膜未形成領域における吸収体膜の露出面にレジスト残渣がなく、レジスト膜未形成領域の外周部端にフリンジ(盛り上がり)もなく、レジスト膜未形成領域が良好に形成されていた。
△:レジスト膜未形成領域における吸収体膜の露出面にレジスト残渣があるか、又はレジスト膜未形成領域の外周部端にフリンジ(盛り上がり)があるが、基準マークが検出可能な程度にはレジスト膜未形成領域が形成されていた。
×:レジスト膜未形成領域がうまく形成されなかった。
実施例4−1、4−2、参考例3は、上記実施例3−1において、前述の図6及び図7に示すレジスト除去装置を用いて、基準マーク上の領域にレジスト膜未形成領域を形成する工程において、レジスト溶解除去条件のうち、レジスト膜面に対するノズル高さ(離間距離)を20μm、吸引量を0.5ml/minとし、給液量を表2に示すように変更して、給液量に対する吸引量の比率(吸引/給液比)を変えたこと以外は、実施例3−1と同様にして反射型マスクブランクを作製した。
また、実施例4−3〜4−5、参考例4は、レジスト溶解除去条件のうち、レジスト膜面に対するノズル高さ(離間距離)を20μm、吸引量を0.8ml/minとし、給液量を表2に示すように変更して、給液量に対する吸引量の比率(吸引/給液比)を変えたこと以外は、実施例3−1と同様にして反射型マスクブランクを作製した。
形成されたレジスト膜未形成領域を観察して、上記と同じ基準で評価し、その結果を表2に示した。
実施例5−1、5−2、参考例5は、上記実施例4−2において、前述の図6及び図7に示すレジスト除去装置を用いて、基準マーク上の領域にレジスト膜未形成領域を形成する工程において、レジスト溶解除去条件のうち、レジスト膜面に対するノズル高さ(離間距離)を20μmとし、吸引ノズル52a(外側ノズル)の外径ODa及び内径IDaは変えずに、吐出ノズル51a(内側ノズル)の外径ODb及び内径IDbを変更して、二重管ノズル37Aの吐出面積に対する吸引面積の比率(面積比)を表3に示すように変えたこと以外は、実施例4−2と同様にして反射型マスクブランクを作製した。
形成されたレジスト膜未形成領域を観察して、上記と同じ基準で評価し、その結果を表3に示した。
2 多層反射膜
3 吸収体膜
4 レジスト膜
5 基準マーク
5a メインマーク
5b、5c、5d、5e 補助マーク
6 レジスト膜未形成領域
10 反射型マスクブランク
10A 反射型マスク
11 ガラス基板
12 遮光膜
13 レジスト膜
14 基準マーク
15 レジスト膜未形成領域
20 バイナリマスクブランク
20A バイナリマスク
30 溶媒タンク
31 フィルター
32 ベントバルブ
33 ストップバルブ
34 バッファタンク
35 ストップバルブ
36 流量調整弁
37A、37B 二重管ノズル
38 気液分離層
39 廃液バルブ
40 流量調整弁
41 流量計
42 バキュームポンプ
51 給液管
52 排液管
51a 吐出ノズル
52a 吸引ノズル
Claims (22)
- 基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜とを備える反射型マスクブランクであって、
前記吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜を備え、
前記反射型マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、
前記レジスト膜は、前記基準マーク上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域を有することを特徴とする反射型マスクブランク。 - 前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、略円形状又は略角形状であることを特徴とする請求項1に記載の反射型マスクブランク。
- 前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、円形状であり、直径4mm以下であることを特徴とする請求項2に記載の反射型マスクブランク。
- 前記基準マークは、大きさが6インチ角の反射型マスクブランクにおいて、外周部端面から5mm以上内側に形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
- 前記基準マークは、前記多層反射膜に形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
- 前記基準マークは、電子線又は欠陥検査光の走査方向に対して200nm以上10μm以下の幅の部分を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の反射型マスクブランク。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の反射型マスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、前記吸収体膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
- 基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜とを備えるマスクブランクであって、
前記薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜を備え、
前記マスクブランクに、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されており、
前記レジスト膜は、前記基準マーク上の領域のレジスト膜が、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去されたレジスト膜未形成領域を有することを特徴とするマスクブランク。 - 前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、略円形状又は略角形状であることを特徴とする請求項8に記載のマスクブランク。
- 前記レジスト膜未形成領域の水平断面形状は、円形状であり、直径4mm以下であることを特徴とする請求項9に記載のマスクブランク。
- 前記基準マークは、大きさが6インチ角のマスクブランクにおいて、外周部端面から5mm以上内側に形成されることを特徴とする請求項8乃至10のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記基準マークは、前記薄膜に形成されることを特徴とする請求項8乃至11のいずれかに記載のマスクブランク。
- 請求項8乃至12のいずれかに記載のマスクブランクを用いて、電子線描画及び現像によってレジストパターンを形成する工程と、前記薄膜をパターニングする工程と、欠陥検査装置による検査工程とを有することを特徴とするマスクの製造方法。
- 請求項7に記載の反射型マスクの製造方法により製造された反射型マスク、又は、請求項13に記載のマスクの製造方法により製造されたマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 基板上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的に除去するレジスト除去装置であって、
レジスト膜を溶解除去するための溶媒を前記レジスト膜の不要レジスト部に吐出する溶媒吐出部と、
前記溶媒によって溶解された不要レジスト部のレジスト液を吸引して排出する排液吸引部とを備え、
前記レジスト膜の不要レジスト部を、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去することを特徴とするレジスト除去装置。 - 前記溶媒吐出部の吐出ノズルの直径と前記排液吸引部の吸引ノズルの直径とが異なり、前記吐出ノズルの中心軸と前記吸引ノズルの中心軸とが一致するように配置されることを特徴とする請求項15に記載のレジスト除去装置。
- 前記吐出ノズルと前記吸引ノズルの各々の水平断面形状は同一形状であり、かつ略円形状又は略角形状であることを特徴とする請求項16に記載のレジスト除去装置。
- 前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜と、該吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されている反射型マスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする請求項15乃至17のいずれかに記載のレジスト除去装置。
- 前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜と、該薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されているマスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする請求項15乃至17のいずれかに記載のレジスト除去装置。
- 基板上に形成された電子線描画用のレジスト膜を局所的に除去するレジスト除去方法であって、
レジスト膜を溶解除去するための溶媒を吐出する吐出ノズルを用いて、前記溶媒を前記レジスト膜の不要レジスト部に給液して不要レジスト部のレジスト膜を溶解させ、
前記溶媒によって溶解されたレジスト液を吸引して排出する吸引ノズルを用いて、前記溶媒によって溶解された不要レジスト部のレジスト液を吸引して排出させることにより、
前記レジスト膜の不要レジスト部を、基板外周部のレジスト膜を残して穴状に除去することを特徴とするレジスト除去方法。 - 前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成されたEUV光を反射する多層反射膜及びEUV光を吸収する吸収体膜と、該吸収体膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されている反射型マスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする請求項20に記載のレジスト除去方法。
- 前記レジスト膜の不要レジスト部は、基板と、該基板上に形成された転写パターンとなる薄膜と、該薄膜上に形成された電子線描画用のレジスト膜とを備え、欠陥情報における欠陥位置の基準となる基準マークが形成されているマスクブランクにおける前記基準マーク上の領域のレジスト膜であることを特徴とする請求項20に記載のレジスト除去方法。
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