JP2014099366A - 有機el素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光層を形成する際の有機溶媒としてハンセン溶解度パラメータΔδ2が90以上のものを選択する。好ましくは、有機溶媒の凝固点よりも高温で、かつ、雰囲気温度より以下、好ましくは雰囲気温度よりも10℃以上低い温度下において乾燥処理を行う。これにより、低分子材料層をトリフェニルアミン誘導体で構成する場合において、上層に他の有機膜となる発光層を形成したとしても、トリフェニルアミン誘導体の有機溶媒への溶解を抑制できる。したがって、低分子材料層や発光層の表面荒れを抑制でき、有機EL素子のリーク発生や特性低下を抑制することが可能となる。
【選択図】図4
Description
図1を参照して、第1実施形態にかかる有機EL素子100の構成について説明する。図1に示されるように、有機EL素子100は、基板1の上に、ホール注入電極2、低分子材料層3、発光層4および電子注入電極5が順に積層され、さらにこれら各部を金属缶6によって覆った構造とされている。
Δδ2=4×(δdp−δds)2+(δpp−δps)2+(δhp−δhs)2
数式1の右辺の第1項は分散項δd、第2項は極性項δp、第3項は水素結合項δhであり、それぞれ各項におけるトリフェニルアミン誘導体と有機溶媒との差を示している。各項におけるトリフェニルアミン誘導体と有機溶媒との差は、相溶性を示しており、各物質の溶解性を多次元のベクトルで表したときに、そのベクトルが近く、差が小さいほど、相溶性が高い、つまり溶け易いことを意味している。具体的には、トリフェニルアミン誘導体と同一系統の溶媒材料の場合、ハンセン溶解度パラメータΔδ2が増加すると、溶媒分子が大きくなり、溶質への引っ付き方が変化し、取り囲み難くなって溶解し難くなる。したがって、ハンセン溶解度パラメータΔδ2が大きいほど、トリフェニルアミン誘導体が有機溶媒に溶け難いことを表すことになる。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。例えば、発光層4の形成に用いる有機溶媒として1フェニルヘプタンや1フェニルヘキサンを例に挙げたが、ハンセン溶解度パラメータΔδ2が90以上の有機溶媒であれば他の有機溶媒であっても構わない。また、低分子材料層3のうち少なくとも発光層4と接する部分の構成材料をトリフェニルアミン誘導体とするだけでなく、トリフェニルアミン誘導体をエーテル化合物で表面処理することにより難溶化処理などを行っても良い。
2 ホール注入電極
3 低分子材料層
4 高分子発光層
5 電子注入層
6 金属缶
Claims (6)
- 基板(1)を用意する工程と、
前記基板の上に導電性物質にて構成されるホール注入電極(2)を形成する工程と、
前記ホール注入電極の上に、低分子材料にて構成されたホール輸送層となる低分子材料層(3)を形成する工程と、
前記低分子材料層の上に、高分子材料を溶解させた有機溶媒を塗布したのち、前記有機溶媒を乾燥させて前記高分子材料で構成される発光層(4)を形成する工程と、
前記発光層の上に導電性物質にて構成される電子注入電極(5)を形成する工程と、を有する有機EL素子の製造方法において、
前記発光層を形成する工程では、前記有機溶媒として、該有機溶媒と前記低分子材料とから計算されるハンセン溶解度パラメータΔδ2が90以上の溶媒を用いることを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記発光層を形成する工程では、前記有機溶媒および前記ホール注入電極および前記低分子材料層を形成した前記基板の温度を、前記有機溶媒の凝固点よりも高く、かつ、前記有機溶媒を塗布するときの雰囲気温度よりも10℃以上低い温度にして前記有機溶媒を塗布することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記発光層を形成する工程では、前記雰囲気温度を常温とすることを特徴とする請求項2に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記発光層を形成する工程では、前記有機溶媒の塗布後に、前記有機溶媒および前記ホール注入電極および前記低分子材料層を形成した前記基板の温度を、前記有機溶媒の凝固点よりも高く、かつ、前記有機溶媒を塗布するときの雰囲気温度よりも10℃以上低い温度に保ちつつ、真空乾燥することで、前記有機溶媒を乾燥させることを特徴とする請求項2または3に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記発光層を形成する工程では、前記有機溶媒として対称中心構造を有するトリフェニルアミン誘導体を用いることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記発光層を形成する工程では、前記有機溶媒としてスターバーストアミンを用いることを特徴とする請求項5に記載の有機EL素子の製造方法。
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