JP2014086578A - オリエンタチャンバ - Google Patents
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Abstract
【課題】透明ウェハの外周部を明確に判別することが可能なオリエンタチャンバを提供する。
【解決手段】内部を真空状態に保持することが可能なハウジングと、ハウジング内部に設けられ、ウェハが載置される回転可能なステージと、ハウジング内部のステージの上方に設けられ、ステージ上に載置された回転しているウェハの外周部に光を照射するための光源と、ウェハの外周部に照射された光を受光する複数の受光素子が配列された受光面を有する受光部と、受光部からの情報に基づいて、ステージ上に載置されたウェハの向き及び位置を解析する解析部を備え、光源から照射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜している。
【選択図】図1
【解決手段】内部を真空状態に保持することが可能なハウジングと、ハウジング内部に設けられ、ウェハが載置される回転可能なステージと、ハウジング内部のステージの上方に設けられ、ステージ上に載置された回転しているウェハの外周部に光を照射するための光源と、ウェハの外周部に照射された光を受光する複数の受光素子が配列された受光面を有する受光部と、受光部からの情報に基づいて、ステージ上に載置されたウェハの向き及び位置を解析する解析部を備え、光源から照射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜している。
【選択図】図1
Description
本発明はオリエンタチャンバに係り、特に、ウェハの向き及び位置の検出及び調整等を容易に行うことが可能なオリエンタチャンバに関する。
近年、半導体デバイスを製造するための半導体ウェハの処理には、複数のチャンバが一体化されたマルチチャンバ式の半導体製造システムが用いられている。
図4は、このような半導体製造システムの一例を示す。この半導体製造システム100は、真空状態である内部に設けられた搬送ロボット104により、半導体ウェハを各チャンバに搬送する搬送チャンバ102と、搬送チャンバ102内に半導体ウェハを搬送するために、チャンバ内部の圧力を大気圧状態から真空状態に変化させるロードロックチャンバ106と、搬送ロボット104上に載置された半導体ウェハの位置や向きの検出、調整等を行うオリエンタチャンバ108と、半導体ウェハに物理気相蒸着(PVD)法、化学気相蒸着(CVD)法による成膜や、エッチング等の処理を施すプロセスチャンバ110が設けられている。
図5は、従来のオリエンタチャンバ108の一例を示す。このオリエンタチャンバ108は、ハウジング112と、ハウジング112内に設けられ、半導体ウェハWが載置される回転可能なステージ114と、半導体ウェハWの外周部に光を照射するための光源116と、光源116から半導体ウェハWの外周部に照射された光を受光する受光部118と、受光部118が受光した光を解析して、ステージ114上におけるウェハの向き、位置を解析するための解析部120が設けられている。
上記の半導体製造システム100において、搬送ロボット104によってロードロックチャンバ106からオリエンタチャンバ108へ搬送されてきた半導体ウェハWは、ステージ114上に載置され、回転される。この状態で、光源116からの光が半導体ウェハWの外周部に照射される。光源116からの光の一部はウェハにより遮断され、受光部118には到達せず、この部分は受光部により影部と認識される。また、光源116からの光の他の部分はウェハWの外側を通過して、受光部118に受光され、この部分は受光部により通過部と認識される。この照射はウェハが最低一回転するまで行われる。受光部118が受けた影部と通過部の情報は解析部120に送られ、保存、解析される。
半導体ウェハWの外周には、通常、半導体ウェハWの向きの判別を容易にするためのフラット面(オリフラ部)や、切り欠き(ノッチ部)が設けられている。オリフラ部やノッチ部に光が照射される場合や、ステージ114上のウェハWが偏心している場合(ウェハWの中心とステージ114の回転中心のずれている場合)には、受光部118において影部が生じる位置が変化する。解析部はこの変化に基づいて、ウェハWの向きや偏心を判別する。これによって、オリエンタチャンバ108からウェハWを回収する際に、ロボット104の動作を調整することにより、ロボット104の所望の位置及び向きにウェハWを載置することが可能になる。
オリエンタチャンバ108を経た半導体ウェハWは搬送ロボット104によりプロセスチャンバ110へ搬送され、ここで半導体ウェハWに所定の処理が行われる。その後、半導体ウェハWは搬送ロボット104によりロードロックチャンバ106へ搬送される。半導体ウェハWを収容したロードロックチャンバ106では、内部の圧力が真空状態から大気圧状態に復圧された後、密閉状態が解除される。これによって、半導体ウェハWに対する一連の処理が完了する。
上述した従来のオリエンタチャンバ108においては、光源116は半導体ウェハWの外周部の真上に配置されており、光源116は半導体ウェハの外周部に対して垂直方向から光を照射している。この場合、半導体ウェハが不透明基板であれば、受光部は影部と通過部を比較的明確に識別することができる。
しかしながら、従来のオリエンタチャンバでは影部と通過部を明確に識別することができないことがあるといった問題があった。即ち、ウェハとして透明ウェハが用いられる場合、オリエンタチャンバはウェハ外周部の丸められた形状や角張った形状等の不規則形状に起因する光の反射、散乱に基づく微細な変化により影部を判別せざるを得ないため、識別が困難になることがあった。
本発明は上述した問題点を解決するためになされたものであり、透明ウェハについても影部の識別が容易なオリエンタチャンバを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明のオリエンタチャンバは、内部を真空状態に保持することが可能なハウジングと、前記ハウジング内部に設けられ、ウェハが載置される回転可能なステージと、前記ハウジング内部のステージの上方に設けられ、前記ステージ上に載置された回転しているウェハの外周部に光を照射するための光源と、前記ウェハの外周部に照射された光を受光する複数の受光素子が配列された受光面を有する受光部と、前記受光部からの情報に基づいて、ステージ上に載置されたウェハの向き及び位置を解析する解析部を備え、前記光源から照射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜するように構成した。
上記のオリエンタチャンバによれば、光源からの光は、ステージ上に載置された回転しているウェハの外周部に照射される。光源からの光のうちウェハの外周部に照射された光はウェハの外周部で反射、散乱されて、受光面に受光される。この光は受光部により影部と認識される。また、光源からの光のうち、ウェハの外側を通過する光はそのまま受光面に受光され、この光は受光部により通過部と認識される。ウェハの外周部の形状変化やウェハの偏心は、受光部において影部が生じる位置の変化として現れる。解析部はこの変化に基づいて、ウェハWの向きや偏心を判別する。
本発明のオリエンタチャンバによれば、この光源から出射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜しているので、ウェハWの外周部で形成される影部が受光面で長く形成される。これによって、ウェハWの外周部をより明確に判別することが可能になる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明に係るオリエンタチャンバの一実施形態を示す。このオリエンタチャンバ10は、例えば、図4に示される半導体製造システム100を構成するチャンバとして用いられる。
図1において、オリエンタチャンバ10は、内部を真空状態に保持することが可能なハウジング12を備えている。ハウジング12内部には、透明ウェハ等のウェハWが載置される円板状のステージ14が水平に設けられている。このステージ14の下面の中心部には回転軸16が連結されており、ステージ14を矢印方向に回転させることができる。
ハウジング12内部のステージ14の上方には、ウェハWの外周部に光を照射するための光源18が設けられている。この光源18としては、例えば、650nmの波長の光を出射するレーザー光源を用いることができる。この光源18から出射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって所定の傾斜角で傾斜している。この傾斜角は、好ましくは55°〜75°、より好ましくは60°〜70°である。
ハウジング12内部でステージ14の下方には、光源18からウェハWの外周部に照射された光を受光する受光部20が設けられている。この受光部20の受光面20aは、光源からの光と90°の角度をなすように配置されている。受光部20の受光面20aには、多数の受光素子(例えば、CCD素子、図示せず)が配列されており、受光面20aのどの位置で光を受光し、又は受光しなかったか判別することができる。
また、オリエンタチャンバ10には、受光部20が受光した光を解析して、ステージ14上におけるウェハWの向き、位置を解析するための解析部22が設けられている。
以下、上記のオリエンタチャンバ10の作用について説明する。
図4に示される半導体製造システム100において、ウェハWは、搬送ロボット104によってロードロックチャンバ106からオリエンタチャンバ12へ搬送される。このウェハWはステージ14上に載置される。そして、ステージ14が回転され、光源18からの光が半導体ウェハWの外周部に照射される。光源18からの光のうちウェハWの外周部に到達した光はウェハWの外周部で反射、散乱されて、受光面20aに受光される。この光は受光部20により影部と認識される。また、光源からの光のうち、ウェハの外側を通過する光はそのまま受光面20aに受光され、この光は受光部20により通過部と認識される。ウェハWの外周部の形状変化(例えば、オリフラ部やノッチ部)やウェハの偏心は、受光部において影部が生じる位置の変化として現れる。光源18から光の照射は、ウェハWが最低一回転するまで行われ、受光部20が受けた影部と通過部の情報は解析部22に送られ、保存、解析される。
本発明に係るオリエンタチャンバ10によれば、この光源18から出射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜しているので、ウェハWの外周部で形成される影部が受光面20aで長く形成される。これによって、ウェハWの外周部をより明確に判別することが可能になる。
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。図2A〜図2Dは、従来のオリエンタチャンバ108と本発明に係るオリエンタチャンバ10により透明ウェハを処理した結果を示す。図2A〜図2Dにおいて、横軸は受光部の受光面における座標値を示す。また、縦軸は受光面の各座標値における受光素子の受光状態を示し、受光素子が受ける光量が小さい場合に高く表示され、受光素子が受ける光量が大きい場合に低く表示されている。また、各図の上段は実測されたデータを示し、下段は閾値処理を行って、各受光素子が光を受けているか否かを示した結果を示す。図2A〜図2Dにおいて、受光素子が光を受けている状態から光を受けていない状態に変化した点が、ウェハの外周部を示すことになる。
図2Aは光源から出射される光がウェハ外周部に90°の角度で照射されている場合(従来のオリエンタチャンバ)を示す。また、図2B〜図2Dは、光源から出射される光が、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって各々、55°、65°、75°傾斜している場合(本願発明のオリエンタチャンバ)を示す。
図2Aでは、受光素子が光を受けている状態から光を受けていない状態に変化した点が複数箇所検出されており、影部の検出が困難であることが判る。これに対して、また、図2B〜図2Dではこの状況が改善されている。特に、光を65°傾斜させた図2Cでは、影部の検出は1箇所のみであり、影部の検出が容易になったことが判る。
次に、本発明の他の実施形態について説明する。図3は、本発明に係るオリエンタチャンバの他の実施形態を示す。以下の説明では、上述したオリエンタチャンバの構成については、同一の参照番号を付し、その詳細な説明は省略する。
図3において、オリエンタチャンバは、ハウジング12内部に、半導体ウェハWの外周部に照射された光を、水平方向に配置された受光部20に反射するための反射部材24が設けられている。この反射部材24としては、ハウジング内部と同一金属材料(例えば、アルミニウム)で形成された反射板を用いることができる。また、反射部材24として、米国仮出願番号第61/716,062号(出願日2012年10月19日、発明の名称:「真空チャンバ用反射部材及びこれを組み込んだ基板処理装置」)に記載されているような石英基板に蒸着アルミニウム層と酸化ケイ素層を順次堆積させた真空チャンバ用ミラーを用いることも可能である。
本実施形態のオリエンタチャンバによれば、傾斜させた光源から発せられる光を反射部材で水平方向に配置された受光部に反射するため、各部材のアライメントが容易になり、チャンバの省スペース化を図ることが容易になるという効果を奏する。
上記の説明から明らかなように、本発明のオリエンタチャンバによれば、光源から出射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜しているので、ウェハの外周部で形成される影部が受光面で長く投影することができる。これによって、透明ウェハの外周部をより明確に判別することが可能になる。
10 オリエンタチャンバ
12 ハウジング
14 ステージ
16 回転軸
18 光源
20 受光部
22 制御部
W ウェハ
12 ハウジング
14 ステージ
16 回転軸
18 光源
20 受光部
22 制御部
W ウェハ
Claims (4)
- 内部を真空状態に保持することが可能なハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられ、ウェハが載置される回転可能なステージと、
前記ハウジング内部のステージの上方に設けられ、前記ステージ上に載置された回転しているウェハの外周部に光を照射するための光源と、
前記ウェハの外周部に照射された光を受光する複数の受光素子が配列された受光面を有する受光部と、
前記受光部からの情報に基づいて、ステージ上に載置されたウェハの向き及び位置を解析する解析部を備え、
前記光源から照射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって傾斜しているオリエンタチャンバ。 - 前記光源から照射される光は、ウェハの外周部から上方に延びる垂線から前記ウェハの中心方向に向かって55°〜75°の角度で傾斜している請求項1記載のオリエンタチャンバ。
- 前記ハウジング内部に設けられ、前記ウェハの外周部に照射された光を前記受光部の受光面に反射する反射部を備える請求項1又は2記載のオリエンタチャンバ。
- 前記反射部は、前記ハウジングの内表面を形成する金属材料の反射層を有する請求項3記載のオリエンタチャンバ。
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