JP2014079687A - 分離膜及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、疎水性高分子と親水性高分子とを含む分離膜であって、親水性高分子が、重量平均分子量2000以上50000未満のポリビニルピロリドンを含有し、一方の表面の接触角と、他方の表面の接触角との差が6度以上である分離膜に関する。
【選択図】なし
Description
[1]疎水性高分子と親水性高分子とを含む分離膜であって、前記親水性高分子が、重量平均分子量2000以上50000未満のポリビニルピロリドンを含有し、前記分離膜の一方の表面の接触角と、他方の表面の接触角との差が6度以上である、分離膜。
[2]前記ポリビニルピロリドンの重量平均分子量が2500以上32000以下である、[1]に記載の分離膜。
[3]前記分離膜の一方の表面の接触角と、他方の表面の接触角との差が10度以上である、[1]又は[2]に記載の分離膜。
[4]前記疎水性高分子が、ポリエーテルスルホン又はポリスルホンを含有し、前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリエーテルスルホン又は前記ポリスルホンとの総量を基準として、2質量%以上8質量%以下である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の分離膜。
[5]前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリエーテルスルホン又は前記ポリスルホンとの総量を基準として、2質量%以上4.1質量%以下である、[4]に記載の分離膜。
[6]前記疎水性高分子が、ポリフッ化ビニリデンを含有し、前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリフッ化ビニリデンとの総量を基準として、0.2質量%以上2質量%以下である、[1]〜[3]のいずれか一つに記載の分離膜。
[7]前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリフッ化ビニリデンとの総量を基準として、1.5質量%以上2質量%以下である、[6]に記載の分離膜。
[8]中空糸膜である、[1]〜[7]のいずれかに記載の分離膜。
[9][1]〜[8]のいずれかに記載の分離膜を備えるモジュール。
[10][1]〜[8]のいずれかに記載の分離膜を用いる酵素濃縮方法。
[11][1]〜[8]のいずれかに記載の分離膜を用いる濾過方法。
[12]疎水性高分子、親水性高分子、並びに、該疎水性高分子及び該親水性高分子を溶解させる共通溶媒を少なくとも含有する製膜原液を、水を主成分とする溶液中で凝固させて分離膜を作製する工程を備え、前記親水性高分子は、重量平均分子量が2000以上50000未満のポリビニルピロリドンを含む、分離膜の製造方法。
[13]前記製膜原液が、前記疎水性高分子に対する貧溶剤であり、分子量300以下の貧溶剤を更に含有する、[12]に記載の分離膜の製造方法。
[14]前記製膜原液を中空糸状に吐出する、[12]又は[13]に記載の分離膜の製造方法。
[15]前記製膜原液を中空糸状に吐出する際に用いる中空剤の主成分が、水である、[14]に記載の分離膜の製造方法。
[16]空走時間が0.1秒以上10秒未満である、[12]〜[15]のいずれかに記載の分離膜の製造方法。
本実施形態の分離膜は、疎水性高分子と親水性高分子とを含む。疎水性高分子は、高い機械的及び化学的強度を有するため、分離膜の強度を担保する役割を持つ。一方、親水性高分子は、分離膜の表面を親水性に保ち、タンパク質や酵素を付着しにくくするため、良好な濾過性能に寄与する。
本実施形態の分離膜は、製膜原液に対して凝固力のある凝固溶液中に吐出して凝固させる、いわゆる湿式製膜法、或いは、製膜原液を吐出した後に所定の空走区間を確保する、いわゆる非溶剤誘起型相分離法によって製造することができる。
分離膜表面を平坦にして、測定したい面を上にしてスライドガラスの上に両面テープで固定した。膜表面に水滴を滴下させ、接触角測定器(協和界面科学製、FACE CONTACT−ANGULEMEYER)を使用して、θ/2法によって接触角を求めた。θ/2法とは、水滴の左もしくは右の端点と頂点を結ぶ直線の、膜表面に対する角度(θ/2)から接触角θを得る方法である。
未使用の分離膜を複数本準備しておき、その半数を用いてデキストラン阻止率(A)を測定した。残りの半数の分離膜は下記の(薬品浸漬方法)に記載のとおり処理し、その後デキストラン阻止率(B)を測定した。
デキストラン阻止率[%]=100−(濾液のシグナルの積分値/デキストラン水溶液のシグナルの積分値×100)
湿潤状態の分離膜を、500ppmの次亜塩素酸ナトリウム水溶液に、60℃で3時間浸漬させ、その後十分に水洗した。
分離膜を溶媒に溶解させ、その後水を加えて膜の基材となる疎水性高分子を析出させた。疎水性高分子を除去し、PVPの溶出した液を蒸発させ、固体のPVPを析出させた。GPCを用いて、以下の条件で得られたPVPの分子量を測定した。
カラム:Suprema linear M (直径8mm、長さ30cm)
カラム温度:40度
溶媒:水/アセトニトリル(80/20)+0.15mol/L NaCl+0.03mol/L NaH2PO4、pH=9
検出器:UV−Photometer GAT−LCD (波長254nm)
指標物質:光散乱法(方法は、M.J.R.Cantow,J.Polym.Sci.,A−1,5(1967)に記載)にて、Kollidon90、Kollidon30、SokalanHP165の分子量を測定し、指標物質とした。
多孔質膜の1H−NMR測定を下記の条件で実施して、得られたスペクトルから以下の方法でPVPの含有割合を算出した。
装置:ECS400(日本電子株式会社)
共鳴周波数:399.78MHz
溶媒:d7−DMF
測定温度:25℃
試料濃度:約5質量%
積算回数:256回
得られたスペクトルにおいて、2ppm付近に現れるポリビニルピロリドン(4H分)由来のシグナルの積分値(IPvP)と8ppm付近に現れるポリエーテルスルホン(4H分)由来のシグナルの積分値(IPES)から、下記式によって算出した。
PVP含有割合(質量%)=111(IPVP/4)/{232(IPES/4)+111(IPVP/4)}×100
得られたスペクトルにおいて、2ppm付近に現れるポリビニルピロリドン(4H分)由来のシグナルの積分値(IPvP)と7.3ppm付近に現れるポリスルホン(4H分)由来のシグナルの積分値(IPSf)から、下記式によって算出した。
PVP含有割合(質量%)=111(IPVP/4)/{443(IPSf/4)+111(IPVP/4)}×100
分離膜の抽出は、日本薬局方の人工腎臓装置承認基準の溶出試験に準拠して行った。すなわち、中空糸膜を乾燥させ2cm長(平膜であれば2cm角とする)に切断し、膜1.5gと注射用蒸留水150mLをガラス容器に入れ、70±5℃で1時間加温した。冷却後、膜を取り除いて、蒸留水を加えて150mLとした。この液をUV測定器で、220以上350nm未満での最大吸収波長を示す波長の吸光度を測定し、その条件下での抽出液の吸光度とした。
まず、中空糸膜を膜長手方向に垂直な向きにカミソリ等で薄く切り、顕微鏡を用いて膜の内径を測定した。その後、約10cm長の湿潤中空糸膜の一端を封止し、他端の中空部内へ注射針を入れ、25℃の環境下にて注射針から0.1MPaの圧力にて25℃の純水を中空部内へ注入し、外面から透過してくる水量を測定して下記式から純水透水量を測定した。この測定を4本行い、その算術平均をそれぞれの膜の純水透水量とした。
酵素溶液は、分離膜の孔径に応じて以下の2種類を使用した。
(1)デキストラン阻止率の測定で用いたデキストランの分子量が、100,000未満のとき(低分子量の酵素を想定。多くの酵素はこちらに含まれる)
市販のNOVOZYME社製のSavineaseを、水で10倍に希釈したものを酵素溶液とした。
高分子量のポリエチレンオキサイド水溶液を酵素溶液の模擬液とする。ポリエチレンオキサイド(明星化学工業株式会社製、アルコックスE−160)の0.1質量%水溶液を作製し、酵素溶液とした。
約20cm長の湿潤中空糸膜の両端に注射針を入れ、片端の注射針はチューブを介してポンプに接続し、酵素溶液が送液できるようにした。もう片端の注射針にはチューブを取り付け、チューブの先を酵素溶液の入った容器に入れ、中空部を通った酵素溶液が容器に戻るように回路を組んだ。また酵素溶液の容器は分離膜の下部に設置し、分離膜の内表面から外表面側に濾過されてきた濾液を回収できるようにした。また、分離膜からの酵素溶液の流出圧を測定できるようにした。分離膜の中空部を、酵素溶液1.0m/秒の流速で流れるように送液した。この際、流出圧は0.05MPaになるように調整した。また、TMPは0.1MPaになるよう調整した。この状態で、分離膜の中空部に酵素溶液を還流させ、一部を濾過するクロスフロー濾過を実施した。
酵素濾過時透水量[L/m2/h]=1分あたりの酵素溶液濾過量[L/min]×60[min/h]/A[m2]
ただし、Aはモジュールの膜面積[m2]、TMP=((流入圧)+(流出圧))/2[MPa]である。
酵素阻止率は、以下の方法により濾液中の酵素活性量から求めた。上記の酵素濾過時において、濾過開始から30分が経過した時点で、酵素溶液と濾液をサンプリングし、それぞれジメチルカゼイン、TNBS(2,4,6−trinitro benzen sulphonic acid)を添加した。このサンプルを酵素自動分析装置(Thermo Fisher Scientific 製)にて、波長425nmにおける吸光度を測定した。酵素阻止率は次式により算出した。
酵素阻止率[%]=100−(濾液吸光度/酵素溶液吸光度)×100
不純物を含めた全体の阻止率は、以下の方法により濾液の紫外線吸光度から求めた。上記の酵素濾過時において、濾過開始から30分が経過した時点で、酵素溶液と濾液をサンプリングし、それぞれ30倍に希釈した。希釈した液を、UV測定器(SHIMADZU製、UVmini1240)にて、波長280nmにおける吸光度を測定した。酵素阻止率は次式により算出した。
不純物を含めた阻止率[%]=100−(濾液吸光度/酵素溶液吸光度)×100
ポリエーテルスルホン(BASF製、EP6020)が22質量%、PVPK17(BASF製、LuvitecK17、重量平均分子量9000)が5質量%、NMPが43質量%、貧溶剤としてTEG(分子量194)が30質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を二重管ノズルの外側から押し出し、中心からは、内部凝固液として水を送り込んで、1.2秒の空走時間を経た後に温度50℃の水中を通過させて凝固させ、内径0.75mm、外径1.30mmの中空糸膜を得た(ゆえに、可紡性の評価を「○」とした)。
原料のPVPのグレードを、K17の代わりにK25(BASF製、KollidonK25、重量平均分子量31000)を用いたこと以外は、実施例1と同じ方法で中空糸膜を作製した。
原料のPVPのグレードを、K17の代わりにK12(BASF社製、KollidonK12PF、重量平均分子量2500)を用いたこと以外は、実施例1と同じ方法で中空糸膜を作製した。
ポリスルホン(Solvey製、ユーデルP−3500)が20質量%、PVPK17が5質量%、NMPが45質量%、貧溶剤としてTEGが30質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。
ポリエーテルスルホンが22質量%、PVPK17が25質量%、NMPが23質量%、貧溶剤としてTEGが30質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を得た。
ポリフッ化ビニリデン(アルケマ製、RC10231)が20質量%、PVPK17が5質量%、NMPが45質量%、貧溶剤としてTEGが30質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。この中空糸膜中のPVP量は、ポリフッ化ビニリデン及びPVPの総量を基準として1.8質量%であり、一次側表面と二次側表面の接触角は、それぞれ65度、77度であった。また、この中空糸膜を純水で抽出し、抽出液の吸光度を測定したところ、0.06であった。
ポリフッ化ビニリデン(アルケマ製、RC10231)が20質量%、PVPK17が5質量%、NMPが75質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。この中空糸膜中のPVP量は、ポリフッ化ビニリデン及びPVPの総量を基準として0.5質量%であり、一次側表面と二次側表面の接触角は、それぞれ70度、80度であった。また、この中空糸膜を純水で抽出し、抽出液の吸光度を測定したところ、0.02であった。
ポリエーテルスルホンが22質量%、PVPK30(BASF製、LuvitecK30、重量平均分子量50000)が5質量%、NMPが73質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。
ポリエーテルスルホンが22質量%、PVPK90(BASF製、LuvitecK90、重量平均分子量1600000)が5質量%、NMPが73質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。
ポリエーテルスルホンが22質量%、PVPK30が5質量%、NMPが43質量%、貧溶剤としてTEGが30質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。
ポリエーテルスルホンが22質量%、NMPが78質量%からなる原料を混合溶解して製膜原液を得た。この製膜原液を用いて、実施例1と同じ方法で製膜して中空糸膜を作製した。
Claims (16)
- 疎水性高分子と親水性高分子とを含む分離膜であって、
前記親水性高分子が、重量平均分子量2000以上50000未満のポリビニルピロリドンを含有し、
前記分離膜の一方の表面の接触角と、他方の表面の接触角との差が6度以上である、分離膜。 - 前記ポリビニルピロリドンの重量平均分子量が2500以上32000以下である、請求項1に記載の分離膜。
- 前記分離膜の一方の表面の接触角と、他方の表面の接触角との差が10度以上である、請求項1又は2に記載の分離膜。
- 前記疎水性高分子が、ポリエーテルスルホン又はポリスルホンを含有し、
前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリエーテルスルホン又は前記ポリスルホンとの総量を基準として、2質量%以上8質量%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の分離膜。 - 前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリエーテルスルホン又は前記ポリスルホンとの総量を基準として、2質量%以上4.1質量%以下である、請求項4に記載の分離膜。
- 前記疎水性高分子が、ポリフッ化ビニリデンを含有し、
前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリフッ化ビニリデンとの総量を基準として、0.2質量%以上2質量%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の分離膜。 - 前記ポリビニルピロリドンの割合が、該ポリビニルピロリドンと前記ポリフッ化ビニリデンとの総量を基準として、1.5質量%以上2質量%以下である、請求項6に記載の分離膜。
- 中空糸膜である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の分離膜。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の分離膜を備える、モジュール。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の分離膜を用いる、酵素濃縮方法。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の分離膜を用いる、濾過方法。
- 疎水性高分子、親水性高分子、並びに、該疎水性高分子及び該親水性高分子を溶解させる共通溶媒を少なくとも含有する製膜原液を、水を主成分とする溶液中で凝固させて分離膜を作製する工程を備え、
前記親水性高分子は、重量平均分子量が2000以上50000未満のポリビニルピロリドンを含む、分離膜の製造方法。 - 前記製膜原液が、前記疎水性高分子に対する貧溶剤であり、分子量300以下の貧溶剤を更に含有する、請求項12に記載の分離膜の製造方法。
- 前記製膜原液を中空糸状に吐出する、請求項12又は13に記載の分離膜の製造方法。
- 前記製膜原液を中空糸状に吐出する際に用いる中空剤の主成分が、水である、請求項14に記載の分離膜の製造方法。
- 空走時間が0.1秒以上10秒未満である、請求項12〜15のいずれか一項に記載の分離膜の製造方法。
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