JP2014071069A - 垂直型プローブ - Google Patents
垂直型プローブ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014071069A JP2014071069A JP2012219389A JP2012219389A JP2014071069A JP 2014071069 A JP2014071069 A JP 2014071069A JP 2012219389 A JP2012219389 A JP 2012219389A JP 2012219389 A JP2012219389 A JP 2012219389A JP 2014071069 A JP2014071069 A JP 2014071069A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating layer
- probe
- vertical probe
- plating
- vertical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
【課題】座屈方向が一定となり狭ピッチで配置可能な垂直型プローブおよび垂直型プローブを用いたプローブカードを提供する。
【解決手段】複数のめっき層が横断方向に積層されて形成された垂直型プローブであって、前記複数のめっき層は、少なくとも、所定の結晶粒径を有する第1金属粒子が積層された第1めっき層と、前記第1金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2金属粒子が積層された第2めっき層からなる。
【選択図】 図1
【解決手段】複数のめっき層が横断方向に積層されて形成された垂直型プローブであって、前記複数のめっき層は、少なくとも、所定の結晶粒径を有する第1金属粒子が積層された第1めっき層と、前記第1金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2金属粒子が積層された第2めっき層からなる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、プローブカードに用いられる垂直型プローブに関する。
半導体の検査を行うプローブカードに用いられるプローブの1つとして垂直型プローブが用いられており、前記垂直型プローブは、プローブカードにおいて所定の間隔で平行に配置された、垂直型プローブの針元の位置決めを行う針元ガイド板と、垂直型プローブの針先の位置決めを行う針先ガイド板によって位置決めされている。
このような垂直型プローブとしては、丸棒から形成した断面が円形の垂直型プローブ、また、めっきを積層して形成した断面が矩形の垂直型プローブ(特許文献1参照)等が存在する。そして、従来の垂直型プローブは、座屈方向を限定するために、湾曲形状、あるいは、特許文献1に記載されているような折り曲げ形状を有している。
丸い棒材を用いた直線形状のプローブは座屈する方向が一定でないために、座屈する方向を揃えるために予め湾曲部を設ける加工を行わなければ、オーバードライブ時に各プローブが変形する方向が一定とならずに隣接するプローブ同士が接触すると言う問題があった。このような問題を解消するために、特許文献1では、矩形断面を用いることにより、座屈方向を揃えることを可能としている。
しかしながら、プローブに湾曲部あるいは折り曲げ部を設けて座屈方向を限定する場合には、前記湾曲部あるいは折り曲げ部の存在により直線形状ではないために、プローブを2つのガイド板に位置決めする際に、プローブの針元を針元ガイド板にガイド穴に挿入し、針先を針先ガイド板のガイド板に挿入する作業は、非常に手間が掛るという問題が生じている。
そこで、本願発明は、従来の問題点を解決するために、座屈方向が一定となり、かつ、ガイド板のガイド穴への挿入作業を容易に行うことができる垂直型プローブを提供することを目的とする。
本発明の垂直型プローブは、複数のめっき層が横断方向に積層されて形成された垂直型プローブであって、前記複数のめっき層は、少なくとも、所定の結晶粒径を有する第1の金属粒子が積層された第1のめっき層と、前記第1の金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2の金属粒子が積層された第2のめっき層からなることを特徴とし、さらに、側面に凸部が形成される。
本発明の垂直型プローブは、複数のめっき層が横断方向に積層されて形成された垂直型プローブであって、前記複数のめっき層は、少なくとも、所定の結晶粒径を有する第1の金属粒子が積層された第1のめっき層と、前記第1の金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2の金属粒子が積層された第2のめっき層からなることにより、プローブカードにおいて隣接する垂直型プローブの座屈する方向を簡単に統一することが可能となり、また、プローブカードのガイド板への挿入作業が容易になる。そして、側面に突起を設けることでガイド板から抜け落ちるのを防止して簡単に確実にガイド板で保持することが可能となる。
図を用いて本発明の垂直型プローブ1を以下に詳細に説明する。図1が本発明の第1の実施形態の垂直型プローブ1の側面図であり、図2が垂直型プローブ1の断面図である。
本発明の第1の実施形態の垂直型プローブ1は、図1に示すように、針元から針先までほぼ直線形状であるがわずかに座屈変形したものであり、検査対象物と接触する先端部2を有し、図2に示すように長方形の断面を有する。そして、前記垂直型プローブ1の針元の部分を膨らませた突起5が設けられている。
前記垂直型プローブ1は、MEMS電鋳技術を用いて複数の層を積層して形成した積層構造であり、本実施形態では、第1めっき層3と第2めっき層4からなる2層構造である。そして、前記第1めっき層3と前記第2めっき層4は、所定の結晶粒径を有する第1の金属粒子が積層された第1めっき層3と、前記第1の金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2の金属粒子が積層された第2めっき層4を用いる。
前記第1めっき層3および前記第2めっき層4が、互いに結晶粒径の異なる第1の金属粒子および第2の金属粒子を有する構造とする方法として、前記第1めっき層3および第2めっき層4を形成する際に、めっき温度を変化させる方法、そして、電流密度を変化させる方法がある。
めっきによって金属粒子を積層してめっき層を形成する際に、めっき温度を高くすると冷却速度が遅くなり、その結果、めっき層の金属粒子の結晶粒径は大きくなる。また、電流密度を大きくすると、めっき層の金属粒子の結晶粒径は小さくなる。この2つの条件を組み合わせることにより、前記第1めっき層3および前記第2めっき層4が、互いに結晶粒径の異なる第1の金属粒子および第2の金属粒子を有する構造とすることができる。
このような方法を用いて、前記第1めっき層3と前記第2めっき層4を、図2に示すように、前記長方形断面の短辺方向に積層して形成する。この際に、前記第1めっき層3の層厚は、前記第2めっき層4の層厚よりも大きくなるように形成する。
この時、例えば、前記第1めっき層3、前記第2めっき層4の順番でめっき層を積層する場合、前記第2めっき層4を形成する際に、前記第1めっき層3を形成した条件に対して、めっき温度を低くし、電流密度を高くする。これにより、前記第2めっき層4の第2金属粒子の結晶粒径は、前記第1めっき層3の第1金属粒子よりも小さくなる。
前記第1めっき層3および前記第2めっき層4の形成は、MEMS電鋳技術を用いてめっき層を形成する際に、めっき層の形成時間に応じて電流密度(単位面積に垂直な方向に単位時間に流れる電気量)および温度を2段階で変更しながら連続してめっき層を形成する。第1めっき層3から順にめっき層を形成する場合には、まず初めに、第1の電流密度および温度でめっき層の形成を行い、第1めっき層3に相当する厚みのめっき層が形成された時点で、第1の電流密度および温度を第2の電流密度および温度に変更する。ここまでに形成されためっき層が第1めっき層3となる。
次に、第2の電流密度で第2めっき層4に相当する厚みのめっき層を形成する。第2の電流密度および温度で形成された部分のめっき層が第2めっき層4となる。このように、電流密度および温度を変更してめっき層の形成を行うことにより、同一の材質のめっき層であるが、各めっき層を形成する金属粒子の結晶粒径が異なるために、互いに異なる熱応力緩和特性を有するめっき層となる。このようなめっき層の形成の際に、コンピュータプログラム制御による連続電流密度および温度の設定も可能であり、様々な応力の異なる複数のめっき層の形成が制御可能となる。
このように、前記第1めっき層3および前記第2めっき層4が、互いに結晶粒径の異なる第1の金属粒子および第2の金属粒子からなるように形成すると、前記第1めっき層3と前記第2めっき層4とは互いに異なる内部応力を有することになり、その結果、図1に示すように、僅かに座屈した形状となる。
このような座屈はめっきの内部応力を利用したものである。異なる内部応力を有する複数のめっき層からなる場合、めっき構造が形成される際に引張(または圧縮)応力が発生しており、めっき直後にはめっき中の残存水素などの影響で応力が変化し易い状態になることが多い。そのために、ある温度に加熱処理を行うことで水素を抜け出させるとめっきの応力が緩和され、この安定状態において変形量が一定に保持できるようになり座屈変形された状態が保たれる。このような応力変化を利用して座屈変形を行わせている。
このように僅かに座屈した形状について、一例を用いて説明すると、垂直型プローブ1の長さを2mm、断面形状を60μm×40μmとすると、座屈による変形量(図1のw)は、10μm程度となり、長さ方向に対して約0.5%の変形量となり、極僅かに変形した状態となる。しかしながら、このような変形量であっても、垂直型プローブ1に垂直方向の力が加わった場合には、予め座屈変形した方向にさらに座屈することとなるので、座屈方向を限定するには十分な変形量である。
よって、前記垂直型プローブ1をプローブカードに配置する際には、変形した方向を揃えて配置すると、複数の垂直型プローブ1を同一方向に座屈させることが可能となる。また、前記突起5によってガイド板から抜け落ちるのを防止することもできる。
本発明の前記垂直型プローブ1は、極僅かに変形しただけで、ほぼ直線形状であることから、プローブカードの2つのガイド板のガイド穴に挿入し配置する作業が簡単に行うことができる。そのため、自動作業によって垂直型プローブ1を配置することも可能である。
次に、前記垂直型プローブ1を配置したプローブカード10について説明する。図3に示すように、プローブカード10は、複数の前記垂直型プローブ1、メイン基板11、針元ガイド板12、針先ガイド板13、および前記針元ガイド板12と前記針先ガイド板13とを所定の間隔で配置するためのスペーサ16を含むものである。
前記針元ガイド板12に設けられた第1ガイド穴14および前記針先ガイド板13に設けられた第2ガイド穴15は、前記垂直型プローブ1の断面形状に合わせて、長方形断面とする。そして、前記針元ガイド板12と前記針先ガイド板13は、前記第1ガイド穴14と前記第2ガイド穴15が上下に重なるように配置する。
このように配置した前記針元ガイド板12と前記針先ガイド板13に前記垂直型プローブ1を配置する作業は、前記垂直型プローブ1を前記第1ガイド穴14の上方から挿入する。前記垂直型プローブ1は僅かに弾性変形しているだけであるので、前記第1ガイド穴14から挿入された前記垂直型プローブ1の針先はそのまま前記第2ガイド穴15へと挿入される。そして、前記凸部5が前記針元ガイド板12の上面と接触すると、前記垂直型プローブ1は前記針元ガイド板12に保持され、前記針元ガイド板12および前記針先ガイド板13に配置される。
前記垂直型プローブ1の断面形状が、一例として挙げた60μm×40μmの場合、前記第1ガイド穴14および前記第2ガイド穴15を70μm×50μmとすれば、前記垂直型プローブ1を前記第1ガイド穴14から前記第2ガイド穴15へと簡単に挿入することができる。このようにして配置された2mmの長さの前記垂直型プローブ1は前記針先ガイド板13から下方に100μm突出し、前記針元ガイド板12から上方に100μm突出した状態となる。
前記第1ガイド穴14および前記第2ガイド穴15を、それぞれ前記針元ガイド板12および前記針元ガイド板13に形成する際に、全てのガイド穴14,15が同一方向となるように形成しておき、前記垂直型プローブ1をガイド穴14,15に挿入する際に、全ての垂直型プローブ1を変形している方向を揃えた状態で挿入すると、前記垂直型プローブ1はガイド穴14,15内で向きを変えることができないので、全ての垂直型プローブ1の向きが固定された状態で配置される。その後、前記針元ガイド板12と前記針先ガイド板13を前記メイン基板11に取り付け、その他の配線等を行うとプローブカード10が完成する。
このようにして、垂直型プローブ1の前記プローブカード10への配置は完了するが、前記プローブカード10に配置された垂直型プローブ1は全て僅かに変形している方向が揃えられているので、半導体装置の検査を行いオーバードライブした時に、隣接する前記垂直型プローブ1は互いに接触することなく同じ方向に座屈変形することとなる。
このように本発明の垂直型プローブ1を用いることによって、簡単に座屈する方向を統一することが可能となり、互いに隣接する垂直型プローブ1同士が接触するという問題は解消される。また、垂直型プローブ1をプローブカード10に配置する作業も従来よりも容易になり、動作業によって垂直型プローブ1を配置することも可能である。プローブカード10のその他の構造については、特にここで限定するものではなく、従来のプローブカードを基に、例えば、補強板を用いたり適宜変更、追加することが可能である。
次に、第2の実施形態の垂直型プローブ21について説明する。図4が本発明の第2の実施形態の垂直型プローブ21の側面図であり、図5が垂直型プローブ21の断面図である。本発明の第2の実施形態の垂直型プローブ21は、第1の実施形態の垂直型プローブ1のめっき層を4層構造としたものであり、形状自体は同じものを用いており、図4に示すように、針元から針先までほぼ直線形状であるがわずかに座屈変形したものであり、検査対象物と接触する先端部22を有し、図5に示すように長方形の断面を有する。そして、前記垂直型プローブ21の針元の部分を膨らませた突起27が設けられている。
前記垂直型プローブ21は、MEMS電鋳技術を用いて複数の層を積層して形成した積層構造であり、本実施形態では、図5に示すように、第1めっき層23、第2めっき層24、第3めっき層25、第4めっき層26からなる4層構造である。
前記第1めっき層23から前記第4めっき層26までの形成は、MEMS電鋳技術を用いてめっき層を形成する際に、めっき層の形成時間に応じて電流密度(単位面積に垂直な方向に単位時間に流れる電気量)およ微温度を4段階で変更しながら連続してめっき層を形成する。
第1めっき層23から順にめっき層を形成する場合には、まず初めに、第1の電流密度および温度でめっき層の形成を行い、第1めっき層23に相当する厚みのめっき層が形成された時点で、第1の電流密度を第2の電流密度および温度に変更する。ここまでにできためっき層が第1めっき層23となる。
次に、第2の電流密度で第2めっき層24に相当する厚みのめっき層が形成された時点で、第2の電流密度および温度を第3の電流密度および温度に変更する。第2の電流密度および温度で形成された部分のめっき層が第2めっき層24となる。このように、電流密度および温度の変更を第4電流密度まで行うことにより、続いて、第3めっき層25、第4めっき層26となるめっき層を形成していく。
このようにして形成された第1めっき層23、第2めっき層24、第3めっき層25および第4めっき層26は同一の材質のめっき層であるが、互いに異なる結晶粒径を有するために、互いに異なる熱応力緩和特性を有するめっき層となる。この時、電流密度は段階的に増加させ、温度は段階的に低下させると、第1めっき層23、第2めっき層24、第3めっき層25および第4めっき層26は、各めっき層をそれぞれ形成する第1金属粒子〜第4金属粒子の結晶粒径が順に小さくなり、互いに異なる結晶粒径となる。
第1めっき層23から第4めっき層26は、図5に示すように、前記長方形断面の短辺方向に順番に形成する。この際に、各層の厚みはほぼ同じものとしている。ここでは、4層構造の場合について説明したが、層数については特に限定するものではなく、材質、また、電流密度および温度の変更度合い等は適宜決定することが可能である。
前記垂直型プローブ21は、長方形の断面を用いることにより、座屈方向が長方形の短辺方向(2方向)に限定される。さらに、本実施形態では垂直型プローブ21の断面を異なる電流密度および温度で形成した第1めっき層23、第2めっき層24、第3めっき層25および第4めっき層26からなる互いに異なる結晶粒径を有する4層構造とすることで、前記垂直型プローブ21は極僅かに弾性変形した形状を有する形状となる。このような前記垂直型プローブ21の断面の向きを揃えて、前記垂直型プローブ1と同様にプローブカードに配置すると、複数の垂直型プローブ21を同一方向に座屈させることが可能となる。
また、前記垂直型プローブ21は、図4に示すように、極僅かに変形したほぼ直線形状で形成されているために、プローブカードの針元ガイド板および針先ガイド板のガイド穴に挿入し配置する作業が簡単に行うことができる。そのため、自動作業によって垂直型プローブ21を配置することも可能である。
このように、本発明の垂直型プローブは、断面形状を揃えて配置するだけで、座屈方向を揃えることが可能となる。また、プローブカードへの配置作業も従来よりも容易に行うことが可能となる。
1 プローブ
2 先端部
3 第1めっき層
4 第2めっき層
5 突起
10 プローブカード
11 メイン基板
12 針元ガイド板
13 針先ガイド板
14 第1ガイド穴
15 第2ガイド穴
16 スペーサー
21 プローブ
22 先端部
23 第1めっき層
24 第2めっき層
25 第3めっき層
26 第4めっき層
27 突起
2 先端部
3 第1めっき層
4 第2めっき層
5 突起
10 プローブカード
11 メイン基板
12 針元ガイド板
13 針先ガイド板
14 第1ガイド穴
15 第2ガイド穴
16 スペーサー
21 プローブ
22 先端部
23 第1めっき層
24 第2めっき層
25 第3めっき層
26 第4めっき層
27 突起
Claims (2)
- 複数のめっき層が横断方向に積層されて形成された垂直型プローブであって、
前記複数のめっき層は、少なくとも、所定の結晶粒径を有する第1金属粒子が積層された第1めっき層と、前記第1金属粒子とは異なる結晶粒径を有する第2金属粒子が積層された第2めっき層からなることを特徴とする垂直型プローブ。 - 側面に凸部が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の垂直型プローブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012219389A JP2014071069A (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | 垂直型プローブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012219389A JP2014071069A (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | 垂直型プローブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014071069A true JP2014071069A (ja) | 2014-04-21 |
Family
ID=50746386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012219389A Pending JP2014071069A (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | 垂直型プローブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014071069A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016156003A1 (en) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Technoprobe S.P.A. | Vertical contact probe and corresponding testing head with vertical contact probes, particularly for high frequency applications |
US10386387B2 (en) | 2016-01-14 | 2019-08-20 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Probe guide plate and probe device |
KR102114210B1 (ko) * | 2018-12-17 | 2020-05-25 | 주식회사 코리아 인스트루먼트 | 프로브 빔 및 프로브 모듈 |
US11059292B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-07-13 | Ricoh Company, Ltd. | Head diaphragm substrate, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636850A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Toshiba Corp | 電子部品の製造方法 |
JP2004501517A (ja) * | 2000-06-20 | 2004-01-15 | ナノネクサス インコーポレイテッド | 集積回路をテスト及びパッケージングするためのシステム |
JP2006043878A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Palo Alto Research Center Inc | 金属間材料からなるバネ構造及びバネ構造の製造方法 |
JP2006084450A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | コンタクトプローブおよびプローブカード |
JP2007078371A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-29 | Nhk Spring Co Ltd | 導電性接触子および導電性接触子の製造方法 |
-
2012
- 2012-10-01 JP JP2012219389A patent/JP2014071069A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636850A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Toshiba Corp | 電子部品の製造方法 |
JP2004501517A (ja) * | 2000-06-20 | 2004-01-15 | ナノネクサス インコーポレイテッド | 集積回路をテスト及びパッケージングするためのシステム |
JP2006043878A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Palo Alto Research Center Inc | 金属間材料からなるバネ構造及びバネ構造の製造方法 |
JP2006084450A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | コンタクトプローブおよびプローブカード |
JP2007078371A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-29 | Nhk Spring Co Ltd | 導電性接触子および導電性接触子の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016156003A1 (en) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Technoprobe S.P.A. | Vertical contact probe and corresponding testing head with vertical contact probes, particularly for high frequency applications |
US10386388B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-08-20 | Technoprobe S.P.A. | Contact probe and corresponding testing head |
US10386387B2 (en) | 2016-01-14 | 2019-08-20 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Probe guide plate and probe device |
US11059292B2 (en) | 2018-03-14 | 2021-07-13 | Ricoh Company, Ltd. | Head diaphragm substrate, liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
KR102114210B1 (ko) * | 2018-12-17 | 2020-05-25 | 주식회사 코리아 인스트루먼트 | 프로브 빔 및 프로브 모듈 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101123126B1 (ko) | 프로브 지지판의 제조 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 프로브 지지판 | |
JP2014071069A (ja) | 垂直型プローブ | |
EP3740765B1 (en) | Cantilever contact probe and corresponding probe head | |
US20110316576A1 (en) | Probe Card | |
US20180277799A1 (en) | Deposition mask, method of manufacturing deposition mask and metal plate | |
JP2012242178A (ja) | バーチカルプローブおよびそれを用いたプローブヘッド | |
KR102050987B1 (ko) | 전기 소자들을 테스트하기 위한 장치용 프로브 카드 | |
JP2009162483A (ja) | 電気的接続装置 | |
JPWO2010061857A1 (ja) | コンタクトプローブ、プローブユニットおよびプローブユニットの組立方法 | |
CN112424615A (zh) | 检查治具以及检查装置 | |
WO2010095520A1 (ja) | コンタクトプローブおよびプローブユニット | |
JP2014044189A (ja) | プローブ及びこれを用いたプローブカード | |
CN110662969B (zh) | 接触探针和用于测试电子器件的装置的相关探头 | |
JP5643476B2 (ja) | 二重弾性機構プローブカード | |
US6710610B1 (en) | Socket for testing of semiconductor device, and semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device | |
US20150054537A1 (en) | System and method for assembling a probe head | |
KR20100088753A (ko) | 프로브 구조물 및 이를 갖는 프로브 카드 | |
JP2018059797A (ja) | 電気的接続装置及び電気的接続装置の製造方法 | |
JP6796457B2 (ja) | 電気的接続装置、プローブ及び製造方法 | |
JP2009028982A (ja) | キャリアプレートの製造方法およびキャリアプレート | |
JP2009198258A (ja) | 縦型プローブを搭載したプローブカード | |
US20200116758A1 (en) | Probe module having microelectromechanical probe and method of manufacturing the same | |
EP3187883A1 (en) | Inspection terminal unit, probe card and method for manufacturing inspection terminal unit | |
JP2013142689A (ja) | 複数チップ同時測定用プローブ組立体 | |
JP2016006401A (ja) | プローブを保持したガイド部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160628 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170110 |