JP2014051461A - 光学活性2,3−ジヒドロファルネサールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(1)
で表される光学活性2,3−ジヒドロファルネサールの製造方法であって、アミン類のリチウム塩の存在下、β−ファルネセンのアミノ化を行って、(2E)−ファルネシルアリルアミンを得、次いで不斉異性化し、一般式(4)
で表される光学活性フェルネシルエナミンとなし、更に加溶媒分解することを特徴とする、製造方法(式中、R1、R2は、各々独立に、水素原子、アルキル基等を表す。ただし、R1及びR2は、同時に水素原子ではなく、又は、R1とR2とが結合して環を形成していてもよい。*は、不斉炭素原子を示す)。
【選択図】なし
Description
さらに、2,3−ジヒドロファルネサールは、抗菌活性機能を持ちミューゲ香料として有用な(6E)−2,3−ジヒドロファルネサール(特開平8−245979号公報)の重要な原料となるものである。
[1]式(1)
で表される光学活性2,3−ジヒドロファルネサールの製造方法であって、
アミン類のリチウム塩の存在下、式(2)
で表される(2E)−ファルネシルアリルアミンを得、次いで不斉異性化し、一般式(3)
で表される光学活性フェルネシルエナミンとなし、更に加溶媒分解することを特徴とする、前記方法。
[2]一般式(5)
[Rh(オレフィン)L]+X- (5)
(式中、オレフィンは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロオクタジエン、ノボルナジエン、シクロオクタ−1,5−ジエンであり、Xは、ClO4,BF4,PF6,PCl6であり、Lは光学活性二座ホスフィン配位子である)
で表されるロジウム一価カリオン錯体、または、一般式(6)
[Rh(L)2]+X- (6)
(式中、X及びLは、前記と同義である。)
で表されるロジウム−二核錯体で、不斉異性化することを特徴とする、前記[1]記載の製造方法。
[3]一般式(4)
で表される光学活性フェルネシルエナミン。
[4]一般式(4)で表される光学活性フェルネシルエナミンの立体配置が3S−体である、前記[3]記載の光学活性フェルネシルエナミン。
[5]一般式(4)で表される光学活性フェルネシルエナミンの立体配置が3R−体である、前記[3]記載の光学活性フェルネシルエナミン。
そして、本発明の新規な光学活性ジヒドロファルネシルエナミンは、光学活性2,3−ジヒドロファルネソールを製造するための中間体として有用である。
本発明の光学活性2,3−ジヒドロファルネサールの製造方法の概要は、以下に示される反応により行われる。
本発明で使用されるアミン類は、次の一般式(7):
HNR1R2 (7)
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよい炭素数6〜15のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2〜15の複素環基、置換基を有しているもよい炭素数7〜12のアラルキル基からなる群から選択され、ただし、R1及びR2は、同時に水素原子ではなく、又は、R1とR2とが結合して環を形成していてもよい。)
で表される。
一般式(7)のR1及びR2で表される3〜8員環の脂環式基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等を例示することができる。
一般式(7)のR1及びR2で表されるアリール基としては、炭素数6〜15のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基等の芳香族単環、多環式基を例示することができる。さらに、フェノセニル基等のメタロセニル基を例示することができる。
一般式(7)のR1及びR2で表されるアラルキル基としては、例えば炭素数7〜12のアラルキル基、例えば、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基等を例示することができる。
また同様に、R1及びR2で表される前記脂環式基、アリール基、複素環基及びアラルキル基も置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、脂環式基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、トリ置換オルガノシリル基、カルボキシル基、アシル基、アシルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ニトロ基等が挙げられる。
置換基としてのアリール基としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基及びビフェニル基などの炭素数6〜14のアリール基が挙げられる。
置換基としてのアラルキル基としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、α−ナフチルメチル基及びβ−ナフチルメチル基などの炭素数7〜12のアラルキル基が挙げられる。
置換基としての脂環式基としては、シククペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基などの炭素数5〜8の脂環式基が挙げられる。
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などが挙げられる。
置換基としてのトリ置換オルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロポルシリル基、ジメチルイソップロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチル(2,3−ジメチル−2−ブチル)シリル基、tert−ブチルジメチルシリル基及びジメチルヘキシルシリル基などのトリ−炭素数1〜6のアルキルシリル基が挙げられる。
置換基としてのカルボキシル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、などの炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基やフェノキシカルボニル基などの炭素数6〜11のアルールカルボキシル基が挙げられる。
置換基としてのアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピロニル基、n−ブチロイル基、イソブチロイル基、ベンゾイル基などの炭素数1〜8のアシル基が挙げられる。
置換基としてのアシルオキシ基としては、ホルミルオキシ基、アシルオキシ基、プロピオニルアキシ基、n−ブチロイルオキシ基、イソブチロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などの炭素数1〜8のアシルオキシ基が挙げられる。
置換基としての置換アミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ピペリジル基、ピペリジル基などの炭素数1〜12のアルキル基が離間したジアルキルアミノ基が挙げられる。
本発明で用いられるアミン類のリチウム塩は、有機リチウム化合物とアミン類を反応させることによって得られる。また、リチウム金属とアミン類をイソプレン、スチレンなどお水素受容オレフィンの存在下に反応せしめるなどの方法で調製することができ、いずれの方法を用いてもよい。
ここで、有機リチウム化合物としては、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、フェニルリチウム等を上げることができる。
アミノ化に利用されるリチウム触媒の量は、反応に使用されるアミン類に対して、0.001〜1倍モルであり、好ましく0.05〜0.5倍モルである。
反応時間は、当業者が適宜決定することができるが、通常、数分〜24時間であり、好ましくは1〜10時間である。
ファルネシルアリルアミンは、(2E)−体と(2Z)−体の異性体が存在する化合物である。しかしながら、本発明の合成方法で得られるファルネシルアリルアミンは、(2E)−体である(2E)−ファルネシルアリルアミン(3)が、(2E)−体/(2Z)−体比が99/1〜100/0と極めて高い化学純度を有するものであり、精密蒸留することなく、次工程の不斉異性化に用いてもよい。
(2E)−ファルネシルアリルアミン(3)を不斉異性化する方法としては、光学活性遷移金属錯体を触媒として異性化する方法を採用することができる。
本発明で用いられる光学活性遷移金属錯体は、遷移金属錯体と光学配位子とを含有する錯体が好ましく用いられる。
本発明の(2E)−ファルネシルアリルアミン(3)を不斉異性化する光学活性遷移金属錯体に用いる配位子としては、単座配位子、多座配位子等が挙げられる、好ましくは光学活性二座ホスフィン配位子が挙げられる。
で表される光学活性二座ホスフィン配位子が挙げられる。
特に好ましいR7及びR8でとしては、水素原子、メトキシ基が挙げられる。
特に好ましいR9としては、メチル基、メトキシ基が挙げられる。
(式中、オレフィンは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロオクタジエン、ノボルナジエン、シクロオクタ−1,5−ジエンであり、Xは、ClO4,BF4,PF6,PCl6であり、Lは光学活性二座ホスフィン配位子である)
(式中、X及びLは、前記と同義である。)
光学活性ロジウム錯体を製造する具体的な例としては、例えば、特開昭58−4748号公報、特開昭59−20294号公報、特開昭60−61587号公報に記載の方法に準じて、クロロ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー([Rh(cod)Cl]2)と過塩素酸銀と上記した光学活性二座ホスフィン配位子を反応せしめて合成することができる。
一般式(5)で表される光学活性ロジウム錯体は、次の通りである:
[Rh(cod)(L)]OTf、[Rh(cod)(L)]BF4、
[Rh(cod)(L)]ClO4、[Rh(cod)(L)]SbF6、
[Rh(cod)(L)]PF6、[Rh(cod)(L)]BPh4、
[Rh(nbd)(L)]OTf 、[Rh(nbd)(L)]BF4、
[Rh(nbd)(L)]ClO4、[Rh(nbd)(L)]SbF6、
[Rh(nbd)(L)]PF6、[Rh(nbd)(L)]BPh4。
一般式(6)で表される光学活性ロジウム錯体、次の通りである:
[Rh(L)2]OTf 、[Rh(L)2]BF4、[Rh(L)2]ClO4、
[Rh(L)2]SbF6、[Rh(L)2]PF6、[Rh(L)2]BPh4。
さらに、必要に応じ助溶媒が使用されてもよい。助溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば何れのものを用いてもよく、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等芳香族系溶媒等の有機溶媒が挙げられる。
本実施例中の分析には、次の分析機器を用いて行った。
NMR測定装置:AVANCEIII 500型(500MHz;ブルカーバイオスピン社製)
[質量分析及び化学純度]
ガスクロマトグラフ質量分析計:GCMS−QP2010(島津製作所社製)
使用カラム:BC−WAX(50mx0.25mmID;ジーエルサイエンス社製)
オーブン条件:70℃−217℃,4℃/min
[光学純度]
ガスクロマトグラフ:GC−2010(島津製作所社製)
使用カラム:BGB−174(30mx0.25mmID;BGB Analytik AG社製)
オーブン条件:90℃−150℃,0.4℃/min
赤外吸収スペクトル測定装置:FT/IR−6100(日本分光社製)
窓材:塩化ナトリウム
旋光度計:P−1020(日本分光社製)
窒素気流中にてジエチルアミン;4.29g(0.0587mol)を20mlフラスコに入れ、5℃にて攪拌した。次いでn−ブチルリチウムのヘキサン溶液;3.7ml(1.6mol/L,0.0587mol)を加え、5℃、10分間攪拌してリチウムジエチルアミン溶液とした。
30ml耐圧アンプルを窒素置換し、これにβ−ファルネセン;4.0g(0.0196mol)(和光純薬工業株式会社製)を加え、15℃、10分間攪拌した。次に上記リチウムジエチルアミン溶液を5分間かけて加えた後、70℃、4時間加熱攪拌した(転化率;99%以上)。
反応終了後、トルエン;40mlを加えた後、水;8mlにて洗浄した。続いてクライゼン蒸留にてまずトルエンを留去後、沸点;108~110℃/20PaにてN,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルヂデカ−2E,6E,10−トリエン−1−アミン;4.48g(ガクスロ化学純度;92.9%(2E,6E−体),1.8%(2Z,6E−体),4.16g(0.015mol)を収率;77%;にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 1.03 (t, J=7.2Hz, 3H×2), δ 1.60 (s, 3H×2), δ 1.64 (s, 3H), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.15 (m, 2H×4), δ 2.51 (q, J=7.2Hz, 2H×2), δ3.06 (d, J=6.8Hz, 2H), δ 5.10 (t, J=6.8Hz, 1H), δ 5.11 (t, J=6.8Hz, 1H), δ 5.27 (t, J=6.8Hz, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ 11.86(CH3×2), 16.04(CH3), 16.36(CH3), 17.68(CH3), 25.70(CH3), 26.44(CH2), 26.79(CH2), 39.75(CH2), 39.85(CH2), 46.72(CH2×2) , 50.57(CH2), 121.79(CH), 124.08(CH), 124.42(CH), 131.28(C), 135.11(C), 137.68(C)
窒素気流中にてクロロ(1,5-シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー([Rh(cod)Cl]2;24.7mg(0.05mmol)と過塩素酸銀(AgClO4);20.7mg(0.1mmmol)を20ml枝付フラスコに入れ、攪拌下にテトラヒドロフラン;6mlを加えて15℃、2時間攪拌した。次いで(S)-Tol−BINAP;67.8mg(0.1mmmol)を含むテトラヒドロフラン溶液4mlを加え、15℃、2時間攪拌した後、生成した塩化銀をろ過して除き、ろ液を触媒溶液とした。
200ml耐圧アンプルを窒素置換し、これに上記ロジウム錯体触媒溶液5ml(0.05mmmol)、テトラヒドロフラン;2mlを加え、最後に(実施例1にて得られた)N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルヂデカ−2E,6E,10−トリエン−1−アミン;3.36g(ガスクロ純度;92.9%,3.12g;11.25mmol)を加えて100℃、14時間加熱攪拌した(転化率;99%以上)。
反応終了後、クライゼン蒸留にてまずテトラヒドロフランを留去後、沸点;88〜97℃/20Paにて(3R)−N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−1,6E,10−トリエン−1−アミン;2.65g(ガスクロ純度;93.5%,0.915g;8.93mmol)を収率;79%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 0.97 (d, J=6.7Hz, 3H), δ 1.04 (t, J=7.1Hz, 3H×2), δ 1.2-1.35 (m, 2H), δ 1.59 (s, 3H), δ 1.60 (s, 3H), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.1 (m, 7H), δ 2.93 (q, J=7.1Hz, 2H×2), δ 4.04 (dd, J=8.2, 13.9Hz, 1H), δ 5.1 (m, 1H×2), δ 5.80 (d, J=13.9Hz, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ 12.16(CH3×2), 15.96(CH3), 17.66(CH3), 22.73(CH3), 25.68(CH3), 25.95(CH2), 26.76(CH2), 34.99(CH), 38.90(CH2), 39.77(CH2), 44.43(CH2×2), 105.07(CH), 124.49(CH), 125.15(CH), 131.17(C), 134.36(C), 135.78(CH)
窒素気流中にてクロロ(1,5-シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー([Rh(cod)Cl]2;24.7mg(0.05mmol)と過塩素酸銀(AgClO4);20.7mg(0.1mmol) を20ml枝付フラスコに入れ、攪拌下にテトラヒドロフラン;6mlを加えて15℃、2時間攪拌した。次いで(R)-Tol−BINAP;67.8mg(0.1mmol)を含むテトラヒドロフラン溶液4mlを加え、15℃、2時間攪拌した後、生成した塩化銀をろ過して除き、ろ液を触媒溶液とした。
200ml耐圧アンプルを窒素置換し、これに上記ロジウム錯体触媒溶液2ml(0.02mmol)、テトラヒドロフラン;2mlを加え、最後に(実施例1にて得られた)N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−2,6,10−トリエン−1−アミン;1.12g(ガスクロ純度;92.9%,1.04g;3.75mmol)を加えて100℃、14時間加熱攪拌した(転化率;99%以上)。
反応終了後、クライゼン蒸留にてまずテトラヒドロフランを留去後、沸点;88〜94℃/20Paにて(3S)−N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−1,6E,10−トリエン−1−アミン;1.00g(ガスクロ純度;91.5%,0.915g;3.30mmol)を収率;88%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D): δ 0.97 (d, J=6.8Hz, 3H), δ 1.04 (t, J=7.1Hz, 3H×2), δ 1.2-1.35 (m, 2H), δ 1.59 (s, 3H), δ 1.60 (s, 3H), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.1 (m, 7H), δ 2.93 (q, J=7.1Hz, 2H×2), δ 4.04 (dd, J=8.1, 13.9Hz, 1H), δ 5.1 (m, 1H×2), δ 5.79 (d, J=13.9Hz, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ 12.16(CH3×2), 15.96(CH3), 17.66(CH3), 22.73(CH3), 25.68(CH3), 25.95(CH2), 26.76(CH2), 34.99(CH), 38.90(CH2), 39.77(CH2), 44.43(CH2×2), 105.07(CH), 124.49(CH), 125.15(CH), 131.17(C), 134.36(C), 135.78(CH)
100ml耐圧アンプルを窒素置換し、これに実施例3にて作成したロジウム錯体触媒溶液1ml(0.01mmol)、テトラヒドロフラン;2mlを加え、最後に(合成例1にて得られた)N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−2,6,10−トリエン−1−アミン;2.78g(10mmol,(ガスクロ純度;59.3%(2E,6E−体),22.2%(2Z,6E−体))を加えて100℃、16時間加熱攪拌した。ガスクロマトグラフィーにて反応物を分析の結果、2E、6E−体の場合は転化率;67.3%であったのに対して, 2Z,6E−体の場合は転化率;47.6%と反応性が劣る結果であった。
300mlフラスコに濃塩酸;100g(1.0mol)を加えて5℃にて10分攪拌した。続いて6E−ネロリドール;55.6g(0.25mol)を30分かけて加えた後、5℃、3時間攪拌した。引き続き25%水酸化ナトリウム水溶液にて中和後、トルエン;100mlにて抽出を行い、その後水層を除去した。
300mlフラスコに得られた有機層を加えた後、ジエチルアミン;36.6g(0.5mol)を10分かけて加えた。更に炭酸ナトリウム;26.5g(0.25mol)を加えた後、45℃にて3時間攪拌した。
反応終了後、トルエン;100mlを加えた後、沈殿物をろ過にて除去した。得られたろ液を水;50mlにて2回洗浄後、エバポレーターを用いてトルエンの除去を行い、濃縮物;28.6gを得た。
得られた濃縮物をシリカカラムクロマトグラフィー(シリカゲル;300g;)を用いて、まずヘキサン:酢酸エチル=3:1にて不純物を除去後、ヘキサン:トリエチルアミン=20:1にてN,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−2,6,10−トリエン−1−アミンを豊富に含む画分(13.0g)を得た。引き続きクライゼン蒸留にて蒸留を行い、沸点;100〜110℃/20PaにてN,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−2,6−10−トリエン−1−アミン;10.9g(ガスクロ純度;59.3%(2E,6E−体),22.2%(2Z,6E−体)),8.9g;0.032mol)を収率;13%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 1.03 (t, J=7.2Hz, 3H×2), δ 1.60 (s, 3H×2), δ 1.68(s, 3H), δ 1.73 (s, 3H), δ1.95-2.15 (m, 2H×4), δ 2.50 (q, J=7.2Hz, 2H×2), δ3.05 (d, J=6.8Hz, 2H), δ 5.05-5.15 (m, 1H×2), δ 5.24-5.29 (m, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ 11.82(CH3×2), 15.99(CH3), 17.69(CH3), 23.59(CH3), 25.70(CH3), 26.52(CH2), 26.72(CH2), 32.20(CH2), 39.74(CH2), 46.69(CH2×2) , 50.44(CH2), 122.66(CH), 123.97(CH), 124.35(CH), 131.34(C), 135.34(C), 137.85(C)
100mlフラスコに(実施例2にて得られた)N,N−ジエチル−3,7,11−トリメチルドデカ−1,6,10−トリエン−1−アミン;1.42g(ガスクロ純度;93.5%,1.33g;4.78mmol)、トルエン;70ml及び1N−硫酸水;15ml を加えて15℃、10分間攪拌した(転化率;99%以上)。水層を除去後、10%炭酸ナトリウム溶液;30mlにて2回洗浄、更に水;30mlにて2回洗浄した。
洗浄終了後、クライゼン蒸留にてまずトルエンを留去後、沸点;68〜72℃/20Paにて(3R)−ジヒドロファルネサール;1.07g(ガスクロ純度;99.5%、光学純度95%e.e.,1.06g;4.78mmol)を収率;100%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 0.98 (d, J=6.7Hz, 3H), δ 1.25-1.4 (m, 2H), δ 1.60(s, 3H×2), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.1 (m, 7H), δ 2.23 (ddd, J=2.7, 8.0, 16.0Hz, 1H), δ2.41 (ddd, J=2.1, 5.6, 16.0Hz, 1H), δ 5.1 (m, 1H×2), δ 9.76 (t, J=2.7Hz, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ15.96(CH3), 17.65(CH3), 19.87(CH3), 25.27(CH2), 25.66(CH3), 26.65(CH2), 27.79(CH), 36.90(CH2), 39.68(CH2), 50.98(CH2), 123.92(CH), 124.28(CH), 131.32(C), 135.38(C), 202.96(CH=O)
100mlフラスコに(実施例3にて得られた)N,N−ジエチル−3,7−11−オリメチルドデカ−1,6,10−トリエン−1−アミン;0.3g(ガスクロ純度;91.5%,0.275g;0.99mmmol)、トルエン;50ml及び1N−硫酸水;5mlを加えて15℃、10分間攪拌した(転化率;99%以上)。水層を除去後、10%炭酸ナトリウム溶液;20mlにて2回洗浄、更に水;20mlにて2回洗浄した。
洗浄終了後、クライゼン蒸留にてまずトルエンを留去後、沸点;65〜70℃/20Paにて(3S)−ジヒドロファルネサール;0.17g(ガスクロ純度;99.1%,光学純度89.0%e.e.,0.168g;0.76mmol)を収率;77%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 0.98 (d, J=6.7Hz, 3H), δ 1.25-1.4 (m, 2H), δ 1.60(s, 3H×2), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.1 (m, 7H), δ 2.23 (ddd, J=2.7, 8.0, 16.0Hz, 1H), δ2.41 (ddd, J=2.1, 5.6, 16.0Hz, 1H), δ 5.1 (m, 1H×2), δ 9.76 (t, J=2.7Hz, 1H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ15.97(CH3), 17.67(CH3), 19.89(CH3), 25.28(CH2), 25.67(CH3), 26.67(CH2), 27.80(CH), 36.91(CH2), 39.70(CH2), 50.99(CH2), 123.92(CH), 124.29(CH), 131.34(C), 135.39(C), 202.97(CH=O)
20m;フラスコに(実施例5にて得られた)(3R)−ジヒドロファルネサール;1.11g(ガスクロ純度;99.1%,1.10g;4.95mmol)、メタノール;10mlを加えて15℃にて攪拌した。続いて水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4);0.189g(5mmol)を加えて15℃、30分間攪拌した(転化率;99%以上)。反応終了後、1N−塩酸水;10mlとトルエンを加えて15℃にて10分攪拌、その後水層を除去した。引き続き10%炭酸ナトリウム溶液;20mlにて1回洗浄、更に水;20ml; にて2回洗浄した。
洗浄終了後、クライゼン蒸留にてまずトルエンを留去後、沸点;85〜90℃/20Paにて(3R)−ジヒドロファルネソール;0.97g(ガスクロ純度;99.5%,0.965g;4.30mmol)を収率;87%にて得た。
1H−NMR (500MHz, CHLOROFORM-D):δ 0.91 (d, J=6.7Hz, 3H), δ 1.15-1.25 (m, 1H) , δ 1.3-1.45 (m, 2H) , δ 1.65-1.75 (m, 2H), δ 1.60(s, 3H×2), δ 1.68 (s, 3H), δ1.95-2.1 (m, 6H), δ3.7 (m, 2H),δ 5.1 (m, 2H)
13C−NMR (125MHz, CHLOROFORM-D):δ15.94(CH3), 17.65(CH3), 19.55(CH3), 25.33(CH2), 25.66(CH3), 26.71(CH2), 29.19(CH), 37.17(CH2), 39.72(CH2), 39.92(CH2), 61.22(CH2), 124.36(CH), 124.58(CH), 131.26(C), 134.86(C)
(参考文献;Acta. Chem. Scand., 25, 1685-1694 (1971)との比較より3R体と決定)
Claims (5)
- 式(1)
で表される光学活性2,3−ジヒドロファルネサールの製造方法であって、
アミン類のリチウム塩の存在下、式(2)
で表される(2E)−ファルネシルアリルアミンを得、次いで不斉異性化し、一般式(3)
で表される光学活性フェルネシルエナミンとなし、更に加溶媒分解することを特徴とする、前記方法。 - 一般式(5)
[Rh(オレフィン)L]+X- (5)
(式中、オレフィンは、エチレン、1,3−ブタジエン、シクロオクタジエン、ノボルナジエン、シクロオクタ−1,5−ジエンであり、Xは、ClO4,BF4,PF6,PCl6であり、Lは光学活性二座ホスフィン配位子である)
で表されるロジウム一価カリオン錯体、または、一般式(6)
[Rh(L)2]+X- (6)
(式中、X及びLは、前記と同義である。)
で表されるロジウム−二核錯体で、不斉異性化することを特徴とする、請求項1記載の製造方法。 - 一般式(4)で表される光学活性フェルネシルエナミンの立体配置が3S−体である、請求項3記載の光学活性フェルネシルエナミン。
- 一般式(4)で表される光学活性フェルネシルエナミンの立体配置が3R−体である、請求項3記載の光学活性フェルネシルエナミン。
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