JP2014046392A - スクライブ加工方法及びスクライブ加工用のブラスト加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】幅10〜500μmで前記幅に対し5〜5000倍の長さを有するスリット状の噴射口21を備えた噴射ノズル20を有するブラスト加工装置1とを使用し,前記噴射ノズル20の噴射口21の幅に対し1/2以下のメディアン径で,且つ,最大粒径が前記噴射口21の幅δよりも小さい研磨材を,噴射距離を0.1mm〜3.0mmとして研磨材の噴射量が噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるように,マスキングがされていない被加工物Wの表面に圧縮気体と共に噴射する。
【選択図】図1
Description
前記噴射ノズル20の噴射口21の幅に対し1/2以下のメディアン径で,且つ,最大粒径が前記噴射口21の幅δよりも小さい研磨材を使用し,噴射距離(噴射ノズル20の先端と被加工物W間の距離)を0.1mm〜3.0mmと成すと共に研磨材の噴射量は噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるように,マスキングがされていない被加工物Wの表面に前記研磨材を圧縮気体と共に噴射することを特徴とする(請求項1)。
研磨材の噴射量が噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるよう前記噴射ノズル20に対して圧縮気体と共に定量ずつ研磨材を供給する研磨材の定量供給装置10を備えることを特徴とする(請求項5)。
研磨材の移動方向と平行で前記噴射口の長手方向と直交する断面〔図4(C)参照〕において,前記変形部23を,研磨材の移動方向と平行な平坦面24と,前記導入流路22側から前記噴射口21側に向かうに従い徐々に前記平坦面24に近付くように傾斜する傾斜面25と,前記傾斜面25と連続し前記平坦面24と前記噴射口の幅δと同間隔を介して平行を成す第2平坦面26とによって画成された空間として形成することができる(請求項6)。
全体構成
本発明のスクライブ加工に使用するブラスト加工装置1の一構成例を図1に示す。
以上のように構成された研磨材定量供給装置10からの研磨材は,スリット状の噴射口21を備えた噴射ノズル20に導入されて噴射される。
研磨材
本発明のスクライブ加工で使用する研磨材は,使用する噴射ノズル20の噴射口21の幅δに応じて使用する研磨材の粒径を選択して使用し,使用する研磨材のメディアン径が,前述した噴射ノズル20の噴射口21の幅δの1/2以下であって,且つ,最大粒径が幅δよりも小さいものを使用する。
研磨材の噴射に際しては,前述した噴射ノズル20の噴射口21と,被加工物Wの表面間の間隔(噴射距離)を,0.1〜3.0mmの範囲に近接させる。
噴射ノズル20より噴射する研磨材の噴射量は,噴射された圧縮気体中に含まれる研磨材の濃度が高まる程,切削能力が向上して作業性が高まるものの,高濃度の研磨材を噴射しようとした場合,噴射ノズル20内において研磨材の目詰まりを生じ易くなると共に,研磨材の濃度が高まる程,細幅の溝を形成することが困難となることから,各噴射ノズル20からの研磨材の噴射量が,噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるように,噴射ノズル20に対して研磨材を供給する。
マスキングを施していないガラス基板〔新モース硬度で6.5(以下の記載において,硬度は全て「新モース硬度」を示す。)〕の表面に向けて,幅40μm,長さ7mmのスリット状の噴射口を有する噴射ノズルを噴射距離0.3mmに配置し,研磨材(WA♯3000;硬度12,メディアン径4μm)を0.6g/minの噴射量で,0.5MPaの噴射圧力で,噴射ノズルを噴射口の長手方向に移動速度3m/minで移動させながら加工した。
CIGS(銅−インジウム−ガリウム−セレン)化合物薄膜太陽電池の製造過程において,ガラス基板の表面に形成されたMo導電層(硬度5.5)上に形成された光電変換膜層(CIGS膜:硬度約1.2〜3.0)を,本発明の方法によりスクライブして溝を形成した。
10 定量供給装置
11 研磨材タンク
12 研磨材搬送路
12a 一端(研磨材搬送路の)
121,122 分岐路(研磨材搬送路の)
13 回転ディスク
13a 計量孔
14 回転シャフト
15 電動モータ
16 空気導入路
16a 一端(空気導入路の)
16b 他端(空気導入路の)
17 研磨材供給口
18 開閉弁
19 ブラストガン
20 噴射ノズル
21 噴射口
22 導入流路
23 変形部
24 平坦面
25 傾斜面
26 第2平坦面
30 加工室
31 ホッパ
32 研磨材回収管
33,33’ 研磨材吸入口
34,35 加工ボックス
40 サイクロン
41 研磨材回収室
50 ダストコレクタ
W 被加工物
δ 噴射口の幅
L 噴射口の長さ
Claims (7)
- 幅10〜500μmで前記幅に対し5〜5000倍の長さを有するスリット状の噴射口を備えた噴射ノズルを有するブラスト加工装置と,
前記噴射ノズルの噴射口の幅に対し1/2以下のメディアン径で,且つ,最大粒径が前記噴射口の幅よりも小さい研磨材を使用し,
噴射距離を0.1mm〜1.0mmと成すと共に研磨材の噴射量が噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるように,マスキングがされていない被加工物の表面に前記研磨材を圧縮気体と共に噴射することを特徴とするブラストによるスクライブ加工方法。 - 前記研磨材の噴射位置における被加工物の表面近傍において,被加工物上の研磨材と切削粉とを吸引して回収することを特徴とする請求項1記載のブラストによるスクライブ加工方法。
- 前記研磨材として,比重5以上のものを使用することを特徴とする請求項1又は2記載のブラストによるスクライブ加工方法。
- 太陽電池の導電層上に形成された,前記導電層に対し低硬度の光電変換層を被加工物とすると共に,前記研磨材として,前記光電変換層よりも高硬度で,前記導電層よりも低硬度のものを使用することを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のブラストによるスクライブ加工方法。
- 幅が10〜500μmで前記幅に対し5〜5000倍の長さを有するスリット状の噴射口を備えた噴射ノズルと,
研磨材の噴射量が噴射圧力0.2MPa〜0.6MPaの範囲において吐出エアー量1000cm3あたり研磨材体積が0.25cm3以下の濃度となるよう前記噴射ノズルに対して圧縮気体と共に定量ずつ研磨材を供給する研磨材の定量供給装置を備えることを特徴とするブラスト加工装置。 - 前記噴射ノズル内に圧縮気体と研磨材の混合流体を導入する導入流路と,前記導入流路を介して導入された混合流体をスリット状の流れに変形して前記噴射口に導入する変形部を備えた流路を形成し,
研磨材の移動方向と平行で前記噴射口の長手方向と直交する断面において,前記変形部を,研磨材の移動方向と平行な平坦面と,前記導入流路側から前記噴射口側に向かうに従い徐々に前記平坦面に近付くように傾斜する傾斜面と,前記傾斜面と連続し前記平坦面と前記噴射口の幅と同間隔を介して平行を成す第2平坦面とによって画成された空間として形成したことを特徴とする請求項5記載のブラスト加工装置。 - 前記定量供給装置からの流路を複数の流路に分岐して,各分岐流路のそれぞれに前記噴射ノズルを連通したことを特徴とする請求項5又は6記載のブラスト加工装置。
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