JP2014037152A - 造形装置 - Google Patents
造形装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014037152A JP2014037152A JP2013247257A JP2013247257A JP2014037152A JP 2014037152 A JP2014037152 A JP 2014037152A JP 2013247257 A JP2013247257 A JP 2013247257A JP 2013247257 A JP2013247257 A JP 2013247257A JP 2014037152 A JP2014037152 A JP 2014037152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- liquid
- substrate
- transfer
- layered structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】硬化性を有した液状層を描画用基板15の描画面15aに描画する描画工程と、液状層に転写用基板85を被せた状態で該液状層を硬化させる硬化工程と、描画用基板15と転写用基板85との間隔を広げることによって液状層の硬化物である層状構造体120を転写用基板85に転写する転写工程とを含み、描画工程、硬化工程、転写工程を繰り返すことによって、層状構造体120が積層されたかたちの立体を転写用基板85に造形する造形方法であって、描画工程では、液状層とは異なる領域に層状構造体120を支持するための支持層68を描画し、転写工程では、支持層68共々、層状構造体120を転写用基板85に転写する。
【選択図】図14
Description
この造形方法によれば、液状層の描画領域を囲うように支持層が描画される。こうした構成によれば、立体の構成部材に曲り及び破損をさらに生じ難くすることができる。それゆえに、立体の形状をより高精度に実現することができる。
この造形方法によれば、層状構造体を積層させた積層体が支持層によって直接支持されることから、立体の構成部材に曲り及び破損をより一層生じ難くすることができる。
ここで、層状構造体のみを転写用基板に積層した場合に、転写用基板と層状構造体との接触面積が小さくなればなるほど、転写用基板から層状構造体が脱落しやすくなる。この点、この造形方法によれば、描画面の描画領域の各位置には、液状層もしくは支持層が描画される。こうした構成によれば、層状構造体のみを積層した場合に比べて、転写用基板との接触面積を大きくすることができる。それゆえに、転写用基板から層状構造体が脱落し難くすることができる。
この造形方法によれば、転写用基板に積層された積層体を浸水させるだけで支持層を除去することができる。これにより、例えば支持層を機械的に除去する場合に比べて、支持層の除去にともなう層状構造体への負荷を抑えることができる。それゆえに、支持層の除去にともなう立体の変形や破損を生じ難くすることができる。
この造形方法によれば、液状層に光を照射するだけで該液状層を硬化させることができる。
この造形方法のように、液状体を液滴にして吐出する液滴吐出法を用いて液状層及び支持層を描画することで描画面に高精細な液状層及び支持層を形成することができる。
図10に示されるように、まず立体7を造形するための複数の層形状データがコンピューター3によって生成される層形状データ生成工程(ステップS11)が行われる。次いで、第1層目の層形状データに基づいて、液状層58と支持層68とで構成される第1層目の断面層69が描画用基板15に描画される描画工程(ステップS12)が行われる。続いて、描画用基板15と転写用基板85とによって第1層目の断面層69が挟持された状態で液状体50を硬化させる硬化工程(ステップS13)と、液状層58が硬化した層状構造体120と支持層68とで構成される断面層69を転写用基板85側に転写する転写工程(ステップS14)とが順に行われる。
図11は、描画面において各液状体の描画領域を模式的に示した図であって、第1層目の断面層について示した図である。図12は、断面層が描画された状態を模式的に示す図であって、第1層目の断面層が描画された状態を示す図である。図13は、断面層が硬化される状態を模式的に示す図であって、第1層目の断面層が硬化される状態を示す図である。図14は、断面層が転写された状態を模式的に示す図であって、第1層目の断面層が転写された状態を示す図である。図15は、第n層目まで断面層が積層された状態を模式的に示す図である。図16は、除去工程後における積層体の正面構造を示す正面図である。
なお、硬化工程(ステップS13)において制御部101は、第j層目の断面層69に対しては、描画面15aと造形面85aとの距離が(j×t)となる位置まで転写用基板85を降下させる。つまり第2層目以降の断面層69においては、第1層目から第(j−1)層目までの断面層69を介して、描画用基板15と転写用基板85とによって挟持される。また、層状構造体120と支持層68とで構成される断面層69は、液状体50,60に対する撥液性を描画面15aが有していることから、描画面15aに対する接着力よりも先行して積層された断面層69に対する接着力の方が大きい。そのため転写工程(ステップS14)において断面層69は、転写用基板85の上昇にともなって該転写用基板85に積層されている断面層69に接着した状態で描画面15aから剥離される。
(1)断面層69の積層過程において、立体7の構成部材である屈曲部材7a、空中部材7b、連結部材7cによって形成される隙間には支持層68が形成されている。こうした構成によれば、層状構造体120のみが積層される場合に比べて、積層過程において、層状構造体120が受ける力を小さくすることができる。これにより、立体7の構成部材に位置ずれや欠落といった不具合を生じ難くすることができる。それゆえに、立体7の形状の精度を高めることができる。
・上記実施形態では、液状体50,60を液滴55,65にして吐出する液滴吐出法を用いて描画面15aに液状層58、支持層68を描画した。これに限らず、描画面15aに液状層58、支持層68を描画する方法は、例えばディスペンサ法などであってもよい。こうした構成であっても、上記(1)〜(5)と同様の効果が得られる。
・上記実施形態の造形装置5では、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド30によって液滴55が吐出されている。これを変更して、液滴吐出ヘッドから液滴55を吐出するという観点からすれば、抵抗加熱方式や静電駆動方式の液滴吐出ヘッドによって液滴55が吐出されるという構成であってもよい。
Claims (7)
- 硬化性を有した液状層を描画用基板の描画面に描画する描画工程と、
前記液状層に転写用基板を被せた状態で該液状層を硬化させる硬化工程と、
前記描画用基板と前記転写用基板との間隔を広げることによって前記液状層の硬化物である層状構造体を前記転写用基板に転写する転写工程とを含み、
前記描画工程、前記硬化工程、前記転写工程を繰り返すことによって、前記層状構造体が積層されたかたちの立体を前記転写用基板に造形する造形方法であって、
前記描画工程では、
前記描画面の描画領域において、前記液状層の描画領域とは異なる領域に前記層状構造体を支持するための支持層を描画し、
前記転写工程では、
前記支持層共々、前記層状構造体を前記転写用基板に転写することを特徴とする造形方法。 - 前記支持層は、前記液状層の描画領域を囲うように描画されることを特徴とする請求項1に記載の造形方法。
- 前記支持層は、前記液状層に接触するように描画されることを特徴とする請求項1または2に記載の造形方法。
- 前記支持層は、前記描画面の描画領域において、前記液状層の描画領域とは異なる領域の全域にわたって描画されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の造形方法。
- 前記支持層は、水溶性樹脂を水に溶解させた水溶液、または前記水溶液に非水溶性粉末樹脂を分散させた液状体で構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の造形方法。
- 前記液状層は、光硬化性を有していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の造形方法。
- 前記液状層及び前記支持層は、液状体を液滴にして吐出する液滴吐出法によって描画されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の造形方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013247257A JP5794285B2 (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013247257A JP5794285B2 (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 造形装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010123907A Division JP5429052B2 (ja) | 2010-05-31 | 2010-05-31 | 造形方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014037152A true JP2014037152A (ja) | 2014-02-27 |
JP5794285B2 JP5794285B2 (ja) | 2015-10-14 |
Family
ID=50285636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013247257A Expired - Fee Related JP5794285B2 (ja) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 造形装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5794285B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018047629A (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 株式会社Screenホールディングス | 積層装置および三次元造形装置 |
JP2019123113A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | パナソニック株式会社 | 立体物造形方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05229016A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-07 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形装置および光造形方法 |
JPH1086224A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Ricoh Co Ltd | 立体物の造形方法 |
JPH10264258A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-06 | Ricoh Co Ltd | 三次元物体形成方法、三次元物体形成装置及び三次元物体 |
JP2003053849A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Konica Corp | 積層造形装置及び積層造形方法 |
JP2003159754A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Casio Comput Co Ltd | 三次元像生成方法及び三次元像生成装置 |
JP2004090530A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Ctt Corporation:Kk | 三次元積層造形法とその装置 |
-
2013
- 2013-11-29 JP JP2013247257A patent/JP5794285B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05229016A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-07 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形装置および光造形方法 |
JPH1086224A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Ricoh Co Ltd | 立体物の造形方法 |
JPH10264258A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-06 | Ricoh Co Ltd | 三次元物体形成方法、三次元物体形成装置及び三次元物体 |
JP2003053849A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Konica Corp | 積層造形装置及び積層造形方法 |
JP2003159754A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Casio Comput Co Ltd | 三次元像生成方法及び三次元像生成装置 |
JP2004090530A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Ctt Corporation:Kk | 三次元積層造形法とその装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018047629A (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 株式会社Screenホールディングス | 積層装置および三次元造形装置 |
JP2019123113A (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-25 | パナソニック株式会社 | 立体物造形方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5794285B2 (ja) | 2015-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8956563B2 (en) | Molding method and molding apparatus | |
US10919214B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing structure | |
JP5429052B2 (ja) | 造形方法 | |
US9139027B2 (en) | Printing device | |
JP2011102001A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5794285B2 (ja) | 造形装置 | |
Afkhami et al. | Electrohydrodynamic Jet Printing of One‐Dimensional Photonic Crystals: Part I—An Empirical Model for Multi‐Material Multi‐Layer Fabrication | |
JP2016221866A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP6102995B2 (ja) | 三次元造形方法及び三次元造形装置の制御用プログラム | |
JP5783311B2 (ja) | 造形装置 | |
JP5811165B2 (ja) | 造形装置及び造形方法 | |
JP5609259B2 (ja) | 造形方法 | |
JP2009241046A (ja) | 3次元構造体作製方法及びスペーサ付き基板製造方法 | |
US8827437B2 (en) | Printing method and printer | |
JP5794283B2 (ja) | 造形装置 | |
JP6576152B2 (ja) | 構造物の製造方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP5707744B2 (ja) | 印刷装置、及び印刷方法 | |
JP5440382B2 (ja) | 造形方法 | |
JP5464050B2 (ja) | 造形方法 | |
JP2007181765A (ja) | パターン形成方法及び液滴吐出装置 | |
JP5418325B2 (ja) | 造形方法 | |
JP5862724B2 (ja) | 造形方法 | |
JP2014008669A (ja) | 画像形成方法、液滴吐出装置 | |
CN114161707A (zh) | 打印设备及打印方法 | |
JP2011143323A (ja) | パターン形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131224 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141202 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150714 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5794285 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |