JP2014031303A - 光ファイバ母材製造方法および光ファイバ - Google Patents
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Abstract
【課題】長手方向に延在する複数の空孔を有する光ファイバ母材を低コストで精度よく製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ母材製造方法は、コア材の周囲にジャケットを形成して光ファイバ母材を製造する方法であって、第一領域11と、この第一領域11を囲む第二領域12からなるコア材の外側にコア材より粘性が大きな第三領域13を付加して出発材料10を作製する出発材料作製工程と、この出発材料10の周囲にガラス微粒子を堆積させる堆積工程と、この堆積されたガラス微粒子を焼結し透明化してジャケットを形成する焼結工程と、を備える。第一領域11は、Geが添加されている。第二領域12は、ClまたはFが添加されており、長手方向に延在する複数の空孔14を有する。焼結工程の際の温度1300〜1700℃において、第三領域13の粘性は第二領域12の粘性より大きい。
【選択図】図3
【解決手段】本発明の光ファイバ母材製造方法は、コア材の周囲にジャケットを形成して光ファイバ母材を製造する方法であって、第一領域11と、この第一領域11を囲む第二領域12からなるコア材の外側にコア材より粘性が大きな第三領域13を付加して出発材料10を作製する出発材料作製工程と、この出発材料10の周囲にガラス微粒子を堆積させる堆積工程と、この堆積されたガラス微粒子を焼結し透明化してジャケットを形成する焼結工程と、を備える。第一領域11は、Geが添加されている。第二領域12は、ClまたはFが添加されており、長手方向に延在する複数の空孔14を有する。焼結工程の際の温度1300〜1700℃において、第三領域13の粘性は第二領域12の粘性より大きい。
【選択図】図3
Description
本発明は、光ファイバ母材製造方法および光ファイバに関するものである。
長手方向に延在する複数の空孔を有する光ファイバは、空孔を有しない中実の光ファイバと比較して、様々な特性を有することができる。特許文献1には、長手方向に延在する複数の空孔を有する光ファイバ母材を製造する方法が記載されている。この文献に記載された製造方法は、コア材を穿孔加工して空孔を形成し、このコア材の周囲にジャケットを形成することで、光ファイバ母材を製造する。また、この文献には、ジャケット形成の方法として、コア材の周囲にガラス微粒子を堆積させた後に焼結し透明化する方法、および、コア材をガラスパイプに挿入してコラプスする方法が記載されている。
コア材は、光ファイバにおいて導波光のエネルギーの殆どが存在する領域であり、波長1.31μmでのモードフィールド径の3〜5倍程度より内側の領域に相当する。コア材は、屈折プロファイルを精密に制御することができて高純度のガラスを形成することができる方法で作製される。ジャケットは、コア材の周囲に設けられる領域で、生産性に優れる方法で形成されるのが好適である。
コラプスによりジャケットを形成する場合、ガラス微粒子の堆積および焼結によるジャケット形成の場合と比較して、光ファイバ母材の大型化に制約があることから、コストが高い。大型化の制約の要因として、大型のガラスパイプの作製が困難であること、ならびに、ガラスパイプを洗浄する設備およびコラプスする設備が大型となり設備投資や設備維持費に多くのコストが発生すること、が挙げられる。
ガラス微粒子の堆積および焼結によりジャケットを形成する場合、コア材や空孔に変形が生じ易い。すなわち、焼結時にガラス微粒子堆積体が縦収縮し、その影響でコア材が変形する。一般に、Ge等が添加されたコア材は、不純物やOH基を取り除く目的でハロゲンやハロゲン化物で処理されているので、Ge以外の添加元素をも含んでいる。焼結時の温度においてコア材の粘度がジャケット材料の粘度より小さいので、焼結時にコア材の変形が生じ易く、空孔の変形も生じ易い。それ故、光ファイバ母材を精度よく製造することが困難である。
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、長手方向に延在する複数の空孔を有する光ファイバ母材を低コストで精度よく製造することができる方法を提供することを目的とする。
本発明の光ファイバ母材製造方法は、石英ガラスからなり空孔を有するコア材の周囲に石英ガラスからなるジャケットを形成して光ファイバ母材を製造する方法であって、(1) Geが添加されている第一領域と、この第一領域を囲みClまたはFが添加されており長手方向に延在する複数の空孔を有する第二領域からなるコア材を囲み、温度1300〜1700℃における粘性が第二領域の粘性より大きい第三領域を付加して出発材料を形成する工程と、(2) 出発材料の周囲にガラス微粒子を堆積させる堆積工程と、(3) 堆積工程において堆積されたガラス微粒子を焼結し透明化してジャケットを形成する焼結工程と、を備えることを特徴とする。
本発明の光ファイバ母材製造方法は、第一領域のGe添加濃度が5.2〜16.3wt%であり、第二領域のCl添加濃度が0.06〜0.75wt%であり、第三領域の外径R3と第二領域の外径R2との比R3/R2が1.1以上であるのが好適である。また、第二領域のF添加濃度は0.05〜0.37wt%であるのが好適である。ガラス微粒子を堆積させるための出発材料の作製工程において、第二領域の周囲に第三領域をVADで形成するのが好適であり、第二領域の周囲に第三領域をOVDで形成するのも好適であり、また、第二領域の周囲に第三領域をジャケットコラプスで形成するのも好適である。特に、第三領域をVADやOVDで形成する場合には、ガラス微粒子堆積体の縦収縮による変形を抑制するため、R3/R2は1.8以下とすることが好適である。第三領域をコラプスで形成する場合には、第二領域や空孔の変形が生じないため、R3/R2の上限は存在しないが、R3/R2を大きくするとコスト面で不利である。
本発明の光ファイバは、石英ガラスからなる光ファイバであって、(1) Geが添加されている第一領域と、(2) この第一領域を囲みClまたはFが添加されており長手方向に延在する複数の空孔を有する第二領域と、(3) この第二領域を囲み温度1300〜1700℃における粘性が第二領域の粘性より大きい第三領域と、(4) この第三領域を囲み温度1300〜1700℃における粘性が第三領域の粘性以下であるジャケットと、を含むことを特徴とする。
本発明の光ファイバは、第一領域のGe添加濃度が5.2〜16.3wt%であり、第二領域のCl添加濃度が0.06〜0.75wt%であり、第三領域の外径R3と第二領域の外径R2との比R3/R2が1.1以上であるのが好適である。また、第二領域のF添加濃度が0.05〜0.37wt%であるのが好適である。特に、第三領域をVADやOVDで形成する場合には、ガラス微粒子堆積体の縦収縮による変形を抑制するため、R3/R2は1.8以下とすることが好適である。
本発明によれば、長手方向に延在する複数の空孔を有する光ファイバ母材を低コストで精度よく製造することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図1は、コア材10Aの断面を示す図である。同図は、長手方向に垂直なコア材10Aの断面を示す。比較例では、このコア材10Aの周囲にジャケットが直接形成されて光ファイバ母材が製造される。コア材10Aは、Geが添加されている石英ガラスからなる第一領域11と、この第一領域11を囲み石英ガラスからなる第二領域12と、を含む。第一領域11はコアであり、第二領域12は光学クラッドである。長手方向に延在する複数の空孔14が第二領域12に形成されている。
一般に、コア(第一領域11)および光学クラッド(第二領域12)は屈折率を上昇または低下させるドーパントが添加され、ジャケットはこのようなドーパントが少ないので、コア材10Aの周囲のガラス微粒子堆積体を焼結する際に、コア材10Aの粘性はジャケットの粘性より小さくなる。したがって、焼結時にコア材10Aの変形が生じ易く、空孔14の変形も生じ易い。空孔14が変形したり、長手方向に空孔14の径が変動したりすると、光ファイバの光学特性がばらついて、光ファイバ製造歩留が低下する。
図2は、ガラス微粒子堆積体の焼結時の収縮を説明する図である。同図(a)は、焼結前のコア材10Aおよびガラス微粒子堆積体20の長手方向に平行な断面を示す。同図(b)は、焼結後のコア材10Aおよびジャケット30の長手方向に平行な断面を示す。長手方向の有効範囲(両端で径が小さくなっている範囲を除く範囲)において、同図(a)に示されるように焼結前には、コア材10Aおよびガラス微粒子堆積体20それぞれの径が長手方向で一定であったとしても、焼結による収縮により、同図(b)に示されるように焼結後には、コア材10Aおよびガラス微粒子堆積体20それぞれの径が長手方向で変動する。それ故、比較例のコア材10Aの周囲にガラス微粒子を堆積し焼結してジャケットを形成することで光ファイバ母材を製造する場合には、長手方向に空孔14の径が変動し、光ファイバの光学特性がばらついて、光ファイバ製造歩留が低下する。
図3は、本実施形態の光ファイバ母材製造方法における、ガラス微粒子を堆積させるための出発材料10(コア材10Aに第三領域を付与したもの)の、長手方向に垂直な断面を示す図である。本実施形態の光ファイバ母材製造方法は、石英ガラスからなり空孔を有する出発材料10の周囲に石英ガラスからなるジャケットを形成して光ファイバ母材を製造する方法であって、出発材料10を作製する工程と、この出発材料10の周囲にガラス微粒子を堆積させる堆積工程と、この堆積されたガラス微粒子を焼結し透明化してジャケットを形成する焼結工程と、を備える。
出発材料10は、図3に示されるように、第一領域11と、この第一領域11を囲む第二領域12と、この第二領域12を囲む第三領域13と、を含む。第一領域11は、Geが添加されている。第二領域12は、ClまたはFが添加されており、長手方向に延在する複数(同図では10個)の空孔14を有する。焼結工程の際の温度1300〜1700℃において、第三領域13の粘性は第二領域12の粘性より大きい。
第三領域13の形成には、ジャケットコラプス、VAD法およびOVD法など、光ファイバ母材の製造に用いられる任意の方法を用いることができる。VAD法またはOVD法により第三領域13を形成すれば、低コストで第三領域13を形成することができる。ジャケットコラプスにより第三領域13を形成すれば、光ファイバ母材の曲がりや外径変動を抑制することができる。
コア材10の周囲にジャケットが形成されて、光ファイバ母材が製造される。焼結工程の際の温度1300〜1700℃において、ジャケットの粘性は第三領域13の粘性以下である。このような光ファイバ母材が線引されて、光ファイバが製造される。
本実施形態の光ファイバ製造方法では、空孔14が形成される第二領域12の周囲に高粘性の第三領域13を形成して出発材料10とし、この出発材料10の周囲にガラス微粒子を堆積し焼結してジャケットを形成することで、光ファイバ母材を製造する。これにより、焼結工程の際のコア材10Aや空孔14の変形を抑制することができ、長手方向に延在する複数の空孔14を有する光ファイバ母材を低コストで精度よく製造することができる。出発材料10の変形を効果的に抑制するには、第三領域13の外径R3は第二領域12の外径R2の1.1倍以上であるのが好適である。
第一領域11のGe添加濃度は5.2〜16.3wt%であるのが好適である。第二領域12に0.06〜0.75wt%のClが残留する条件で不純物処理が為されるのが好適である。また、第二領域12にClとともにFが添加され、F添加濃度が0.05〜0.37wt%であるのが好適である。この場合、光学クラッドの屈折率の設計自由度を向上させることができる。第二領域12におけるCl添加濃度とF添加濃度とのバランスは、所望の光学特性が得られるように調整することができる。
第三領域13の粘性を第二領域12の粘性より大きくするため、第三領域13のCl添加濃度およびF添加濃度の少なくとも一方を第二領域13より低く設計することが望ましい。例えば、第二領域12のCl添加濃度が0.20wt%であってF添加濃度が0.13wt%である場合、第三領域13のCl添加濃度を0.06wt%としF添加濃度を0.0wt%とすることができる。
10…出発材料,10A…コア材、11…第一領域、12…第二領域、13…第三領域、14…空孔、20…ガラス微粒子堆積体、30…ジャケット。
Claims (9)
- 石英ガラスからなり空孔を有するコア材の周囲に石英ガラスからなるジャケットを形成して光ファイバ母材を製造する方法であって、
Geが添加されている第一領域と、この第一領域を囲みClまたはFが添加されており長手方向に延在する複数の空孔を有する第二領域からなるコア材を囲み、温度1300〜1700℃における粘性が前記第二領域の粘性より大きい第三領域を付加して出発材料を作製する工程と、
前記出発材料の周囲にガラス微粒子を堆積させる堆積工程と、
前記堆積工程において堆積されたガラス微粒子を焼結し透明化してジャケットを形成する焼結工程と、
を備えることを特徴とする光ファイバ母材製造方法。 - 前記第一領域のGe添加濃度が5.2〜16.3wt%であり、前記第二領域のCl添加濃度が0.06〜0.75wt%であり、前記第三領域の外径R3と前記第二領域の外径R2との比R3/R2が1.1以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ母材製造方法。
- 前記第二領域のF添加濃度が0.05〜0.37wt%である、ことを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバ母材製造方法。
- 前記コア材作製工程において前記第二領域の周囲に前記第三領域をVADで形成し、前記第三領域の外径R3と前記第二領域の外径R2との比R3/R2が1.8以下である、ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の光ファイバ母材製造方法。
- 前記コア材作製工程において前記第二領域の周囲に前記第三領域をOVDで形成し、前記第三領域の外径R3と前記第二領域の外径R2との比R3/R2が1.8以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の光ファイバ母材製造方法。
- 前記コア材作製工程において前記第二領域の周囲に前記第三領域をジャケットコラプスで形成する、ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の光ファイバ母材製造方法。
- 石英ガラスからなる光ファイバであって、
Geが添加されている第一領域と、
この第一領域を囲みClまたはFが添加されており長手方向に延在する複数の空孔を有する第二領域と、
この第二領域を囲み温度1300〜1700℃における粘性が前記第二領域の粘性より大きい第三領域と、
この第三領域を囲み温度1300〜1700℃における粘性が前記第三領域の粘性以下であるジャケットと、
を含むことを特徴とする光ファイバ。 - 前記第一領域のGe添加濃度が5.2〜16.3wt%であり、前記第二領域のCl添加濃度が0.06〜0.75wt%であり、前記第三領域の外径R3と前記第二領域の外径R2との比R3/R2が1.1以上である、ことを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 前記第二領域のF添加濃度が0.05〜0.37wt%である、ことを特徴とする請求項7または8に記載の光ファイバ。
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