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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI742311B (zh) 2017-09-29 2021-10-11 美商昂圖創新公司 用於在曝光裝置時減少未對準誤差的方法和設備
JP7022611B2 (ja) * 2018-02-06 2022-02-18 キヤノン株式会社 露光装置の制御方法、露光装置、及び物品製造方法
US12510644B2 (en) * 2018-05-25 2025-12-30 Pva Tepla Analytical Systems Gmbh Ultrasonic microscope and carrier for carrying an acoustic pulse transducer
US11687010B2 (en) 2020-02-21 2023-06-27 Onto Innovation Inc. System and method for correcting overlay errors in a lithographic process
JP7778762B2 (ja) * 2023-10-24 2025-12-02 キヤノン株式会社 ステージ装置、基板処理装置、情報処理装置、情報処理方法、プログラム及び物品の製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3316833B2 (ja) * 1993-03-26 2002-08-19 株式会社ニコン 走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法
US6118515A (en) * 1993-12-08 2000-09-12 Nikon Corporation Scanning exposure method
JP3371406B2 (ja) * 1994-08-26 2003-01-27 株式会社ニコン 走査露光方法
JPH09306833A (ja) * 1996-03-14 1997-11-28 Nikon Corp 露光方法
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
US6090510A (en) * 1997-03-25 2000-07-18 Nikon Corporation Method for scanning exposure
JP2000106340A (ja) * 1997-09-26 2000-04-11 Nikon Corp 露光装置及び走査露光方法、並びにステージ装置
JPH11233433A (ja) * 1998-02-17 1999-08-27 Nikon Corp 走査型露光装置及び走査露光方法並びにデバイス製造方法
JP2000100721A (ja) * 1998-07-21 2000-04-07 Nikon Corp 走査露光方法および走査型露光装置ならびにデバイスの製造方法
JP3230675B2 (ja) 1999-06-14 2001-11-19 株式会社ニコン 走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法
JP2001168024A (ja) * 1999-09-29 2001-06-22 Nikon Corp 露光装置及びデバイス製造方法
US6381004B1 (en) * 1999-09-29 2002-04-30 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
JP3870058B2 (ja) * 2001-10-05 2007-01-17 キヤノン株式会社 スキャン露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法
JP4840958B2 (ja) * 2003-10-21 2011-12-21 キヤノン株式会社 走査露光装置及びデバイス製造方法
JP4315455B2 (ja) * 2006-04-04 2009-08-19 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2008071839A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Canon Inc 表面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法
JP4953923B2 (ja) * 2007-05-30 2012-06-13 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2009295932A (ja) * 2008-06-09 2009-12-17 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
US8488109B2 (en) * 2009-08-25 2013-07-16 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5498243B2 (ja) * 2010-05-07 2014-05-21 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

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