JP2014011370A - 加工装置 - Google Patents

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JP2014011370A
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Masami Sato
正視 佐藤
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Abstract

【課題】 占有床面積を小さくすることが可能な加工装置を提供することである。
【解決手段】 複数の被加工物を収容したカセットを支持するカセット支持手段と、回転可能且つ搬出入領域と加工領域との間を水平方向に移動自在に配設されたチャックテーブルと、該加工領域に位置づけられた該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、該加工手段で加工された被加工物を洗浄する洗浄手段と、該カセット支持手段上に載置された該カセットから該搬出入領域に位置づけられた該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入手段と、該チャックテーブルから該洗浄手段へ被加工物を搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、該カセット支持手段と、該搬出入領域と、該加工領域とは水平方向に並んで配設され、該洗浄手段は、該カセット支持手段の上方に配設されていることを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、板状の被加工物を加工した後に洗浄ユニットに搬送して洗浄する機能を有する加工装置に関する。
半導体ウエーハやセラミックス基板、樹脂基板等の板状の被加工物は、加工装置により個々のチップに分割されることで製品化されている。その際に用いられるのはダイシングソーやレーザーソーと呼ばれる加工装置である。
こうした加工装置では、被加工物に加工を施した後、同じ加工装置の中に設けられた洗浄ユニットによってスピン洗浄及びスピン乾燥される場合が多い(例えば、特開2000−033346号公報及び特開2006−339435号公報参照)。
従来の加工装置に内蔵された洗浄ユニットは、カセットに対して被加工物を搬出入する搬出入領域と、加工手段で被加工物に加工を施す加工領域に対して概略同一水平面内で並んで配設されていた。
特開2000−033346号公報 特開2006−339435号公報
このような加工装置は、工場内の比較的クリーン度の高いクリーンルーム内に設置されることが多い。クリーンルームはクリーン度を高い状態で維持するために、高いコストが必要であり、その面積に応じてコストがかかる。よって、クリーンルームに設置する加工装置は常にその設置面積を小さくすることが求められている。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、占有床面積を小さくすることが可能な加工装置を提供することである。
本発明によると、複数の被加工物を収容したカセットを支持するカセット支持手段と、回転可能且つ搬出入領域と加工領域との間を水平方向に移動自在に配設されたチャックテーブルと、該加工領域に位置づけられた該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、該加工手段で加工された被加工物を洗浄する洗浄手段と、該カセット支持手段上に載置された該カセットから該搬出入領域に位置づけられた該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入手段と、該チャックテーブルから該洗浄手段へ被加工物を搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、該カセット支持手段と、該搬出入領域と、該加工領域とは水平方向に並んで配設され、該洗浄手段は、該カセット支持手段の上方に配設されていることを特徴とする加工装置が提供される。
本発明の加工装置によると、洗浄手段をカセット支持手段の上方へ配設することで、これまでカセット支持手段と同じ水平方向に並んで配設されていた洗浄手段を上方へ積み重ねた分だけ加工装置の占有床面積を小さくすることが可能となる。
加工装置の模式的正面図である。 加工装置の一部破断模式的平面図である。 被加工物を洗浄中の洗浄ユニットの縦断面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、加工装置の一種である切削装置2の模式的正面図が示されている。図2は洗浄ユニットの一部を破断した切削装置2の模式的平面図である。
切削装置2は機構部を収容するハウジング4を有しており、ハウジング4の外部に上下方向に移動可能にカセット支持ユニット(カセットエレベータ)6が配設されている。図1に示す実施形態では、カセットエレベータ6上に2個のカセット8が載置されている。
各カセット8内には、複数の被加工物ユニット(ウエーハユニット)10が収容されている。被加工物ユニット10は、ダイシングテープTに貼着された被加工物(ウエーハ)12と、ダイシングテープTの外周部が貼着された環状フレームFとから構成される。
カセット支持ユニット(カセットエレベータ)6の上方には洗浄ユニット14が配設されている。洗浄ユニット14については図3を参照して後で詳細に説明する。
図2において、符号16はカセット8に対して被加工物ユニット10を搬出入する搬出入領域であり、この搬出入領域16には被加工物ユニット10の中心出しを行う図示を省略した位置合わせユニットが配設されている。
搬出入領域16と加工領域18との間を水平方向(X軸方向)に移動自在に被加工物ユニット10を保持したチャックテーブルが配設されている。チャックテーブルは更に回転可能に構成されている。24はチャックテーブル上に保持された被加工物ユニット10の環状フレームFをクランプするクランプである。
加工領域18には、第1切削ユニット20A及び第2切削ユニット20Bが互いに対向してY軸方向に整列するように配設されている。第1切削ユニット20A及び第2切削ユニット20Bとも、スピンドルの先端部に装着された切削ブレード22を含んでいる。第1切削ユニット20A及び第2切削ユニット20Bは互いに独立してY軸方向に移動可能である。
図2に示すように、切削装置2の背面側には搬送ユニット26が配設されている。搬送ユニット26は、搬出入領域16に位置づけられたチャックテーブルから被加工物ユニット10を吸引保持して、洗浄ユニット14に搬送するように構成されており、Y軸方向及びZ軸方向に移動自在に構成されている。
装置正面側にはタッチパネル式のオペレーション表示モニタ28が配設されている。オペレータはモニタ28に表示された情報にタッチすることにより、切削装置2にコマンドを入力することができるとともに、切削装置2の稼働状況がモニタ28上に表示される。30は切削装置2の稼働状況を表示する表示ランプであり、切削装置2が正常作動時には例えば緑色で点灯し、何らかの故障が生じた場合には赤色が点滅する。
次に図3を参照して、洗浄ユニット14の詳細構造について説明する。36はスピンナテーブルであり、金属から形成された枠体38と、枠体38の凹部に勘合された吸引保持部40とを有している。吸引保持部40は図示しない吸引源に電磁切換弁を介して選択的に接続される。
スピンナテーブル36は回転軸42により支持されており、回転軸42の側方にはモータ44が配設されている。モータ44に連結されたプーリ48と、回転軸42に連結されたプーリ50に渡りゴムベルト等のベルト46が巻回されている。モータ44を駆動すると、プール48,50とベルト46とから構成される回転動力伝達機構を介して回転軸42が回転される。
スピンナテーブル36には複数のクランプ52が配設されている。54は洗浄ノズルユニットであり、屈曲したパイプ56と、パイプ56の先端部に配設された洗浄液噴出ノズル58とを含んでいる。
パイプ56の基端部はモータ60に連結されており、モータ60を回転することにより洗浄液噴出ノズル58が図3に示した洗浄位置と、スピンナテーブル36上から退避した退避位置との間で回転される。パイプ56は純水等の洗浄液を供給する洗浄液供給源62に接続されている。
64は上壁64aと底壁64bと側壁64cとを有する筐体であり、スピンナテーブル36及び洗浄ノズルユニット54が筐体64内に収容されている。筐体64の側壁64cの一部には搬送ユニット26が通過可能な搬出入口66が形成されている。また、筐体64の底壁64bには開口67が形成されており、回転軸42が開口67内に挿入されている。
符号68はシャッター部材70を有する搬出入口開閉ユニットであり、Z軸方向に選択的に移動して筐体64の側壁64cに形成された搬出入口66をシャッター部材70で開閉する。72は被加工物ユニット10を洗浄後の廃液を排出するドレインである。
チャックテーブルに保持された被加工物12の切削が終了すると、被加工物ユニット10を保持したチャックテーブルが搬出入領域16に移動された後、搬送ユニット26が下降してチャックテーブル上の被加工物ユニット10を吸着する。
そして、洗浄ユニット14に対向する高さまで搬送ユニット26が上昇した後、搬送ユニット26が筐体64の搬出入口66を介して被加工物ユニット10を筐体64内に搬入し、被加工物ユニット10をスピンナテーブル36上に載置し、クランプ52で環状フレームFをクランプして固定する。
搬出入口開閉ユニット68を作動して、シャッター部材70で搬出入口66を閉鎖した後、洗浄液噴出ノズル58を退避位置からスピンナテーブル36に保持された被加工物12の上方の洗浄位置に回動する。
そして、モータ44を駆動してスピンナテーブル36を回転させるとともに、洗浄液噴出ノズル58から洗浄液を噴出しながら被加工物12をスピン洗浄する。洗浄終了後、図示しないエアノズルからエアを噴出しながら被加工物12をスピン乾燥する。
上述した実施形態の切削装置2によると、洗浄ユニット14をカセットを載置するカセット支持ユニット(カセットエレベータ)6の上方へ配設することで、これまでカセット支持ユニット6と同じ水平面内に並んで配設されていた洗浄ユニット14を上方へ積み重ねた分だけ切削装置2の占有床面積を小さくすることができる。
上述した実施形態では、本発明を切削装置2に適用した例について説明したが、本発明は加工後の被加工物をスピン洗浄する洗浄ユニットを備えた研削装置等の他の加工装置にも同様に適用することができる。
2 切削装置
6 カセット支持ユニット(カセットエレベータ)
8 カセット
10 被加工物ユニット
12 被加工物(ウエーハ)
14 洗浄ユニット
16 搬出入領域
18 加工領域
20A 第1切削ユニット
20B 第2切削ユニット
22 切削ブレード
26 搬送ユニット
28 オペレーション表示パネル
36 スピンナテーブル
58 洗浄液噴出ノズル
64 筐体
66 搬出入口

Claims (1)

  1. 複数の被加工物を収容したカセットを支持するカセット支持手段と、回転可能且つ搬出入領域と加工領域との間を水平方向に移動自在に配設されたチャックテーブルと、該加工領域に位置づけられた該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、該加工手段で加工された被加工物を洗浄する洗浄手段と、該カセット支持手段上に載置された該カセットから該搬出入領域に位置づけられた該チャックテーブルに被加工物を搬入する搬入手段と、該チャックテーブルから該洗浄手段へ被加工物を搬送する搬送手段と、を備えた加工装置であって、
    該カセット支持手段と、該搬出入領域と、該加工領域とは水平方向に並んで配設され、
    該洗浄手段は、該カセット支持手段の上方に配設されていることを特徴とする加工装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001007058A (ja) * 1999-06-21 2001-01-12 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP2003077871A (ja) * 2001-09-04 2003-03-14 Komatsu Machinery Corp 半導体ウエハの平面研削システム及びその加工方法
JP2009071235A (ja) * 2007-09-18 2009-04-02 Sokudo:Kk 基板処理装置

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